[實用新型]氣相沉積晶圓氣動控制結構

有效

• 申請號: 202023222234.0
• 申請日: 2020-12-28
• 公開（公告）號: CN214361683U
• 公開（公告）日: 2021-10-08
• 發明（設計）人: 吳銘欽;劉峰
• 申請（專利權）人: 蘇州雨竹機電有限公司
• 主分類號: C23C16/458
• 分類號: C23C16/458;C23C16/52
• 代理公司: 北京科龍寰宇知識產權代理有限責任公司 11139
• 代理人: 李林

1.一種氣相沉積晶圓氣動控制結構，其特征在于，包含：

至少一碟盤，供一晶圓放置，并于邊緣設有一呈環狀的銜接部；

一大盤模塊，其具有至少一個碟盤槽以供該至少一碟盤定位，且該至少一碟盤槽設有一環槽溝以供該銜接部置入，該環槽溝銜接一入氣引道，以引入氣浮氣體于該環槽溝中施力于該銜接部使該至少一碟盤懸浮，該環槽溝銜接于一導出口，以供該氣浮氣體排出；以及

一第一供氣管，銜接設置在該入氣引道的上游，該第一供氣管具有一第一流量控制閥。

2.如權利要求1所述的氣相沉積晶圓氣動控制結構，其特征在于：該第一供氣管容置至少一種氣體。

3.如權利要求1所述的氣相沉積晶圓氣動控制結構，其特征在于：還包含一第二供氣管，銜接設置在該入氣引道的上游，該第二供氣管具有一第二流量控制閥，該第一供氣管與該第二供氣管匯流于該入氣引道。

4.如權利要求3所述的氣相沉積晶圓氣動控制結構，其特征在于：該第一供氣管與該第二供氣管分別容置不同帶熱效果的氣體。

5.如權利要求3所述的氣相沉積晶圓氣動控制結構，其特征在于：該至少一碟盤供該晶圓以反應面朝下的形式放置。

6.如權利要求3所述的氣相沉積晶圓氣動控制結構，其特征在于：該至少一碟盤供晶圓以反應面朝上的形式放置。

7.如權利要求1所述的氣相沉積晶圓氣動控制結構，其特征在于：該碟盤設有復數承載指以供該晶圓放置，每一承載指具有一傾斜承載面。