[實用新型]PICP干刻下電氦漏檢測設備

有效

• 申請號: 202023219175.1
• 申請日: 2020-12-28
• 公開（公告）號: CN215832948U
• 公開（公告）日: 2022-02-15
• 發明（設計）人: 趙浩;金衛明;何新玉;朱傳兵;強軍
• 申請（專利權）人: 蕪湖芯通半導體材料有限公司
• 主分類號: G01M3/26
• 分類號: G01M3/26;B66C1/10;F16J15/06
• 代理公司: 蕪湖安匯知識產權代理有限公司 34107
• 代理人: 張巧嬋

1.一種PICP干刻下電氦漏檢測設備，其特征在于：所述的PICP干刻下電氦漏檢測設備包括設備框架(1)、起吊部件(2)、氦檢儀，設備框架(1)上設置檢測板定版(3)，檢測板定版(3)上表面邊沿設置凸起邊(4)，凸起邊(4)內圈設置密封圈(5)，起吊部件(2)包括起吊部件上組件(6)和起吊部件下組件(7)，起吊部件上組件(6)包括帶通孔的上吊具(8)，起吊部件下組件(7)包括設置在設備框架(1)上的固定座(9)，固定座(9)上設置桿件(10)，檢測板定版(3)下部安裝氦檢抽氣部件(30)，氦檢抽氣部件(30)與PICP下電(20)連通，氦檢儀與檢測板定版(3)連通，下部安裝PICP下電(20)設置為能夠安裝在檢測板定版(3)上表面位置的結構。

2.根據權利要求1所述的PICP干刻下電氦漏檢測設備，其特征在于：所述的氦檢抽氣部件(30)包括高真空閥安裝板(11)、變徑管(12)、真空六通管(13)、多個高真空閥(14)、波紋管(15)。

3.根據權利要求2所述的PICP干刻下電氦漏檢測設備，其特征在于：所述的PICP干刻下電氦漏檢測設備的氦檢抽氣部件(30)還包括卡扣(16)、卡箍(17)、波紋管法蘭頭(18)和法蘭盲盤。

4.根據權利要求3所述的PICP干刻下電氦漏檢測設備，其特征在于：所述的PICP干刻下電氦漏檢測設備的氦檢抽氣部件(30)的高真空閥安裝板(11)安裝在設備框架(1)上，卡箍(17)安裝在高真空閥安裝板(11)上，卡箍(17)用于固定真空六通管(13)，卡扣(16)連接真空六通管(13)和高真空閥(14)，波紋管(15)一端連接波紋管法蘭頭(18)，波紋管(15)另一端連接高真空閥(14)。

5.根據權利要求4所述的PICP干刻下電氦漏檢測設備，其特征在于：所述的波紋管法蘭頭(18)設置為能夠與PICP下電(20)連通的結構，變徑管(12)通過卡扣(16)與真空六通管(13)連接在一起，變徑管(12)連接分子泵，分子泵作業時，真空六通管(13)另一端設置為能夠與法蘭盲盤連接實現結構密封的結構。

6.根據權利要求1或2所述的PICP干刻下電氦漏檢測設備，其特征在于：所述的起吊部件(2)的起吊部件上組件(6)的上吊具(8)包括多個，多個上吊具(8)沿PICP下電(20)側面一周按間隙布置，起吊部件下組件(7)設置為與起吊部件上組件(6)數量和位置一一對應的結構，起吊部件下組件(7)的桿件(10)垂直布置。

7.根據權利要求1或2所述的PICP干刻下電氦漏檢測設備，其特征在于：所述的下部安裝PICP下電(20)安裝在檢測板定版(3)上表面位置時，PICP下電(20)通過螺絲與檢測板定版(3)固定連接，檢測板定版(3)下表面的密封板(22)上的螺栓與密封圈(5)連接，實現密封圈(5)的固定并保證密封圈(5)密封的結構；密封板(22)設置為能夠對密封圈(5)固定并保證密封圈(5)密封的結構，氦檢儀設置為能夠對PICP下電(20)通過氦檢抽氣部件(30)進行氦檢的結構。

8.根據權利要求1或2所述的PICP干刻下電氦漏檢測設備，其特征在于：所述的PICP干刻下電氦漏檢測設備的檢測板定版(3)下部設置開槽口(23)，冷卻器塞板(24)位于開槽口(23)內，冷卻器塞板(24)同時通過螺栓與PICP下電(20)固定連接。

9.根據權利要求1或2所述的PICP干刻下電氦漏檢測設備，其特征在于：所述的設備框架(1)包括鋁型材本體(26)、角件(27)，鋁型材本體(26)和角件(27)固定連接形成設備框架(1)。

10.根據權利要求9所述的PICP干刻下電氦漏檢測設備，其特征在于：POM墊塊(28)固定在鋁型材本體(26)上支撐檢測板定版(3)，直角支架(29)固定在鋁型材本體(26)上定位檢測板定版(3)。