[實(shí)用新型]行波管螺旋線(xiàn)磁控濺射裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202023181152.6
• 申請(qǐng)日: 2020-12-25
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN214736054U
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-11-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 戴建新;戴科晨
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 常熟市虞華真空設(shè)備科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C23C14/35
• 分類(lèi)號(hào): C23C14/35;C23C14/50;C23C14/02;H01J37/32
• 代理公司: 南京蘇高專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 32204
• 代理人: 張俊范

本實(shí)用新型公開(kāi)了一種行波管螺旋線(xiàn)磁控濺射裝置，包括真空鍍膜室，所述真空鍍膜室為豎直筒狀，所述真空鍍膜室的圓周壁設(shè)有若干磁控靶，所述真空鍍膜室內(nèi)設(shè)有擋板筒，所述擋板筒設(shè)有豎直方向的轉(zhuǎn)軸并與所述真空鍍膜室轉(zhuǎn)動(dòng)連接，所述擋板筒上設(shè)有若干與所述磁控靶對(duì)應(yīng)的濺射窗口，所述擋板筒內(nèi)設(shè)有若干工件掛架，所述工件掛架呈圓周分布并以所述圓周進(jìn)行公轉(zhuǎn)同時(shí)進(jìn)行自轉(zhuǎn)，所述工件掛架?chē)@的中央設(shè)有烘烤加熱器。本實(shí)用新型可提高行波管螺旋線(xiàn)鍍膜的純度及均勻性，提高效率。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及一種磁控濺射裝置，特別是涉及一種行波管螺旋線(xiàn)磁控濺射裝置。

背景技術(shù)

行波管螺旋線(xiàn)表面鍍銅可以大大降低行波管高頻分布損耗。螺旋線(xiàn)表面鍍銅一般采用化學(xué)鍍銅或真空鍍膜，化學(xué)鍍膜螺旋線(xiàn)高溫處理會(huì)變色。真空鍍膜一般采用真空蒸發(fā)鍍膜或磁控濺射鍍膜?，F(xiàn)有的磁控濺射裝置大多采用轉(zhuǎn)臺(tái)承載鍍膜工件，容易造成行波管螺旋線(xiàn)鍍膜均勻性不佳，并且轉(zhuǎn)臺(tái)一次可承載的工件量少使得加工效率偏低。

實(shí)用新型內(nèi)容

針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，本實(shí)用新型提供了一種行波管螺旋線(xiàn)磁控濺射裝置，提高行波管螺旋線(xiàn)鍍膜的純度及均勻性，提高效率。

本實(shí)用新型技術(shù)方案如下：一種行波管螺旋線(xiàn)磁控濺射裝置，包括真空鍍膜室，所述真空鍍膜室為豎直筒狀，所述真空鍍膜室的圓周壁設(shè)有若干磁控靶，所述真空鍍膜室內(nèi)設(shè)有擋板筒，所述擋板筒設(shè)有豎直方向的轉(zhuǎn)軸并與所述真空鍍膜室轉(zhuǎn)動(dòng)連接，所述擋板筒上設(shè)有若干與所述磁控靶對(duì)應(yīng)的濺射窗口，所述擋板筒內(nèi)設(shè)有若干工件掛架，所述工件掛架呈圓周分布并以所述圓周進(jìn)行公轉(zhuǎn)同時(shí)進(jìn)行自轉(zhuǎn)，所述工件掛架?chē)@的中央設(shè)有烘烤加熱器。

進(jìn)一步地，所述公轉(zhuǎn)和所述自轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)動(dòng)軸向均與所述擋板筒的轉(zhuǎn)軸平行。

進(jìn)一步地，所述工件掛架為矩形，所述工件掛架的左右邊框分別設(shè)有若干懸掛孔。

進(jìn)一步地，所述真空鍍膜室設(shè)有頂蓋，所述頂蓋上設(shè)有磁力耦合轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述磁力耦合轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)所述擋板筒的轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng)。

進(jìn)一步地，所述工件掛架由設(shè)置于真空鍍膜室底部的行星轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)。

進(jìn)一步地，所述行星轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括太陽(yáng)輪、行星輪和行星輪支架，所述太陽(yáng)輪固定于所述真空鍍膜室底部，所述行星輪與所述太陽(yáng)輪嚙合，所述行星輪的轉(zhuǎn)軸連接于所述行星輪支架，所述行星輪支架固定有豎直支撐桿，所述豎直支撐桿連接有頂架，所述工件掛架的頂部與所述頂架轉(zhuǎn)動(dòng)連接，所述工件掛架的底部與所述行星輪的轉(zhuǎn)軸連接，所述行星輪支架通過(guò)磁流體由設(shè)置于所述真空鍍膜室外的電機(jī)驅(qū)動(dòng)，所述工件掛架由所述行星輪驅(qū)動(dòng)自轉(zhuǎn)。

進(jìn)一步地，所述烘烤加熱器與所述行星輪支架固定連接。

進(jìn)一步地，所述真空鍍膜室的圓周壁設(shè)有靶材連接法蘭，所述靶材連接法蘭的側(cè)邊鉸接靶材安裝把手，所述磁控靶安裝于所述靶材安裝把手。

本實(shí)用新型所提供的技術(shù)方案的優(yōu)點(diǎn)在于：

采用旋轉(zhuǎn)擋板筒可對(duì)工件進(jìn)行反濺射清洗，對(duì)靶材進(jìn)行預(yù)濺射清洗，保證了鍍膜的純度；鍍膜過(guò)程中工件掛架帶動(dòng)工件進(jìn)行公轉(zhuǎn)并同時(shí)自轉(zhuǎn)，有利于提高鍍膜均勻性和光潔度；單個(gè)工件掛架可懸掛多個(gè)工件并設(shè)置有多個(gè)工件掛架，保證各工件互不干涉提高了單次鍍膜數(shù)量，提高效率。

附圖說(shuō)明

圖1為行波管螺旋線(xiàn)磁控濺射裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為擋板筒開(kāi)設(shè)濺射窗口示意圖。

圖3為磁控靶打開(kāi)時(shí)俯視示意圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說(shuō)明，應(yīng)理解這些實(shí)施例僅用于說(shuō)明本實(shí)用新型而不用于限制本實(shí)用新型的范圍，在閱讀了本實(shí)用新型之后，本領(lǐng)域技術(shù)人員對(duì)本實(shí)用新型的各種等同形式的修改均落于本申請(qǐng)所附權(quán)利要求所限定的范圍內(nèi)。