[實用新型]行波管螺旋線磁控濺射裝置

有效

• 申請號: 202023181152.6
• 申請日: 2020-12-25
• 公開（公告）號: CN214736054U
• 公開（公告）日: 2021-11-16
• 發明（設計）人: 戴建新;戴科晨
• 申請（專利權）人: 常熟市虞華真空設備科技有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/50;C23C14/02;H01J37/32
• 代理公司: 南京蘇高專利商標事務所(普通合伙) 32204
• 代理人: 張俊范

1.一種行波管螺旋線磁控濺射裝置，其特征在于，包括真空鍍膜室，所述真空鍍膜室為豎直筒狀，所述真空鍍膜室的圓周壁設有若干磁控靶，所述真空鍍膜室內設有擋板筒，所述擋板筒設有豎直方向的轉軸并與所述真空鍍膜室轉動連接，所述擋板筒上設有若干與所述磁控靶對應的濺射窗口，所述擋板筒內設有若干工件掛架，所述工件掛架呈圓周分布并以所述圓周進行公轉同時進行自轉，所述工件掛架圍繞的中央設有烘烤加熱器。

2.根據權利要求1所述的行波管螺旋線磁控濺射裝置，其特征在于，所述公轉和所述自轉的轉動軸向均與所述擋板筒的轉軸平行。

3.根據權利要求1所述的行波管螺旋線磁控濺射裝置，其特征在于，所述工件掛架為矩形，所述工件掛架的左右邊框分別設有若干懸掛孔。

4.根據權利要求1所述的行波管螺旋線磁控濺射裝置，其特征在于，所述真空鍍膜室設有頂蓋，所述頂蓋上設有磁力耦合轉動機構，所述磁力耦合轉動機構驅動所述擋板筒的轉軸轉動。

5.根據權利要求1所述的行波管螺旋線磁控濺射裝置，其特征在于，所述工件掛架由設置于真空鍍膜室底部的行星轉動機構驅動。

6.根據權利要求5所述的行波管螺旋線磁控濺射裝置，其特征在于，所述行星轉動機構包括太陽輪、行星輪和行星輪支架，所述太陽輪固定于所述于真空鍍膜室底部，所述行星輪與所述太陽輪嚙合，所述行星輪的轉軸連接于所述行星輪支架，所述行星輪支架固定有豎直支撐桿，所述豎直支撐桿連接有頂架，所述工件掛架的頂部與所述頂架轉動連接，所述工件掛架的底部與所述行星輪的轉軸連接，所述行星輪支架通過磁流體由設置于所述真空鍍膜室外的電機驅動，所述工件掛架由所述行星輪驅動自轉。

7.根據權利要求6所述的行波管螺旋線磁控濺射裝置，其特征在于，所述烘烤加熱器與所述行星輪支架固定連接。

8.根據權利要求1所述的行波管螺旋線磁控濺射裝置，其特征在于，所述真空鍍膜室的圓周壁設有靶材連接法蘭，所述靶材連接法蘭的側邊鉸接靶材安裝把手，所述磁控靶安裝于所述靶材安裝把手。