[實用新型]掩膜裝置

有效

• 申請號: 202023164853.9
• 申請日: 2020-12-24
• 公開（公告）號: CN213951326U
• 公開（公告）日: 2021-08-13
• 發明（設計）人: 李世泰;孫琳;李慧;劉明星
• 申請（專利權）人: 合肥維信諾科技有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56
• 代理公司: 北京華進京聯知識產權代理有限公司 11606
• 代理人: 方曉燕

本實用新型公開了一種掩膜裝置，該掩膜裝置包括掩膜支撐框架，該掩膜支撐框架包括外框和多個第一支撐架，該外框的第二邊框上設置有多個第一凹槽；每個第一支撐架包括位于中段的第一支撐結構和位于兩端的第一固定結構；每個第一支撐架的第一固定結構與外框上的第一凹槽配合固定；其中每個第一支撐架上的第一固定結構尺寸相同；其中至少一個第一支撐架上的第一支撐結構與其他第一支撐架上的第一支撐結構沿第二方向的寬度不同。該掩膜裝置能夠實現在簡化安裝的同時根據金屬掩膜網中掩膜開口的排布特點針對性的進行支撐，進而使得金屬掩膜網能與基板有效貼合，減少Shadow，優化蒸鍍效果，減少邊緣Mura不良產生概率。

技術領域

本申請涉及顯示領域，具體而言，涉及一種掩膜裝置。

背景技術

近年來，隨著顯示技術的不斷發展，有源矩陣有機發光二極體(Active-matrixorganic light-emitting diode，AMOLED)顯示面板逐漸進入公眾的視野當中。由于顯示技術涉及到有機膜層的制備，因此，真空蒸鍍工藝被引入生產制程。蒸鍍制程中，蒸鍍材料加熱到一定溫度后蒸發并沉積至玻璃基板上。

蒸鍍過程中一般通過金屬掩膜版(CMM)將有機發光材料蒸鍍至基板指定位置。CMM一般采用將CMM Sheet整面張網到框架(Frame)的方式。因為CMM網面是一個整體，很難保證掩膜版每個位置均能與基板有效貼合，最終產生較大Shadow，影響蒸鍍效果，造成邊緣Mura等不良。

實用新型內容

為了克服上述技術背景中所提及的技術問題，本申請實施例提供了一種掩膜裝置，用以優化蒸鍍效果。

為此，在本實用新型中提供了一種掩膜裝置，包括金屬掩膜網和掩膜支撐框架，所述金屬掩膜網固定在所述掩膜支撐框架上且所述金屬掩膜網包括多個掩膜開口，該掩膜支撐框架包括：

外框，所述外框具有方環結構，所述外框包括沿第一方向延伸的第一邊框和沿第二方向延伸的第二邊框，所述第二邊框上設置有多個第一凹槽；

多個第一支撐架，每個所述第一支撐架包括位于中段的第一支撐結構和位于兩端的第一固定結構；每個所述第一支撐架沿所述第一方向延伸且其兩端的第一固定結構與所述外框上的第一凹槽配合固定；

其中每個所述第一支撐架上的第一固定結構尺寸相同；其中至少一個所述第一支撐架上的第一支撐結構與其他第一支撐架上的第一支撐結構沿第二方向的寬度不同；

其中，所述第一方向垂直于所述第二方向。

在一實施方式中，至少一個所述第一支撐架上的第一支撐結構與其他第一支撐架上的第一支撐結構沿垂直于所述金屬掩膜網的方向的厚度不同。

在一實施方式中，所述第一邊框上設置有多個第二凹槽；所述掩膜支撐框架還包括多個第二支撐架，每個所述第二支撐架包括位于中段的第二支撐結構和位于兩端的第二固定結構；每個所述第二支撐架沿所述第二方向延伸且其兩端的第二固定結構與所述外框上的第二凹槽配合固定；其中，

每個所述第一支撐結構上設置有多個第一限位凹槽，每個所述第二支撐結構沿所述第二方向穿過所述多個第一支撐結構上的第一限位凹槽；或者

每個所述第二支撐結構上設置有多個第二限位凹槽，每個所述第一支撐結構沿所述第一方向穿過所述多個第二支撐結構上的第二限位凹槽；

每個所述第一支撐結構上設置有多個第一限位凹槽，每個所述第二支撐結構上設置有多個第二限位凹槽，一個第一限位凹槽與一個第二限位凹槽配合固定。

在一實施方式中，沿垂直于所述金屬掩膜網方向，所述第一限位凹槽的槽深大于等于所述第一支撐結構的厚度的一半，和/或,所述第二限位凹槽的槽深大于等于所述第二支撐結構的厚度的一半。

在一實施方式中，每個所述第二支撐架上的第二固定結構尺寸相同；