[實用新型]掩膜裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202023164853.9
• 申請日: 2020-12-24
• 公開（公告）號: CN213951326U
• 公開（公告）日: 2021-08-13
• 發(fā)明（設計）人: 李世泰;孫琳;李慧;劉明星
• 申請（專利權）人: 合肥維信諾科技有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56
• 代理公司: 北京華進京聯(lián)知識產(chǎn)權代理有限公司 11606
• 代理人: 方曉燕

1.一種掩膜裝置，包括金屬掩膜網(wǎng)和掩膜支撐框架，所述金屬掩膜網(wǎng)固定在所述掩膜支撐框架上且所述金屬掩膜網(wǎng)包括多個掩膜開口，其特征在于，所述掩膜支撐框架包括：

外框，所述外框具有方環(huán)結構，所述外框包括沿第一方向延伸的第一邊框和沿第二方向延伸的第二邊框，所述第二邊框上設置有多個第一凹槽；

多個第一支撐架，每個所述第一支撐架包括位于中段的第一支撐結構和位于兩端的第一固定結構；每個所述第一支撐架沿所述第一方向延伸且其兩端的第一固定結構與所述第二邊框上的第一凹槽配合固定；

其中，每個所述第一支撐架上的第一固定結構尺寸相同；其中至少一個所述第一支撐架上的第一支撐結構與其他所述第一支撐架上的第一支撐結構沿所述第二方向的寬度不同；

其中，所述第一方向垂直于所述第二方向。

2.根據(jù)權利要求1所述的掩膜裝置，其特征在于，至少一個所述第一支撐架上的第一支撐結構與其他所述第一支撐架上的第一支撐結構沿垂直于所述金屬掩膜網(wǎng)的方向的厚度不同。

3.根據(jù)權利要求1或2所述的掩膜裝置，其特征在于，所述第一邊框上設置有多個第二凹槽；所述掩膜支撐框架還包括多個第二支撐架，每個所述第二支撐架包括位于中段的第二支撐結構和位于兩端的第二固定結構；每個所述第二支撐架沿所述第二方向延伸且其兩端的第二固定結構與所述外框上的第二凹槽配合固定；其中，

每個所述第一支撐結構上設置有多個第一限位凹槽，每個所述第二支撐結構沿所述第二方向穿過所述多個第一支撐結構上的第一限位凹槽；或者

每個所述第二支撐結構上設置有多個第二限位凹槽，每個所述第一支撐結構沿所述第一方向穿過所述多個第二支撐結構上的第二限位凹槽；

每個所述第一支撐結構上設置有多個第一限位凹槽，每個所述第二支撐結構上設置有多個第二限位凹槽，一個第一限位凹槽與一個第二限位凹槽配合固定。

4.根據(jù)權利要求3所述的掩膜裝置，其特征在于，沿垂直于所述金屬掩膜網(wǎng)方向，所述第一限位凹槽的槽深為所述第一支撐結構的厚度的一半，和/或，所述第二限位凹槽的槽深為所述第二支撐結構的厚度的一半。

5.根據(jù)權利要求3所述的掩膜裝置，其特征在于，每個所述第二支撐架上的第二固定結構尺寸相同；

至少一個所述第二支撐架上的第二支撐結構與其他所述第二支撐架上的第二支撐結構沿所述第一方向的寬度不同；和/或

至少一個所述第二支撐架上的第二支撐結構與其他所述第二支撐架上的第二支撐結構沿垂直于所述金屬掩膜網(wǎng)的方向的厚度不同。

6.根據(jù)權利要求3所述的掩膜裝置，其特征在于，

每個所述第一支撐架中還包括位于所述第一支撐結構和所述第一固定結構之間的第一過渡結構，所述第一過渡結構的寬度沿所述第一固定結構向所述第一支撐結構方向逐漸變大；或者

每個所述第二支撐架中還包括位于所述第二支撐結構和所述第二固定結構之間的第二過渡結構，所述第二過渡結構的寬度沿所述第二固定結構向所述第二支撐結構方向逐漸變大。

7.根據(jù)權利要求6所述的掩膜裝置，其特征在于，所述第一過渡結構固定在所述第一凹槽中，和/或，所述第二過渡結構固定在所述第二凹槽中。

8.根據(jù)權利要求3所述的掩膜裝置，其特征在于，所述第一凹槽和所述第二凹槽尺寸相同。

9.根據(jù)權利要求3所述的掩膜裝置，其特征在于，所述第一凹槽和/或所述第二凹槽設置在所述外框背向所述金屬掩膜網(wǎng)的一側。

10.根據(jù)權利要求3所述的掩膜裝置，其特征在于，

沿所述第二方向，任意兩個相鄰的掩膜開口之間設置有至少一個第一支撐架；和/或

沿所述第一方向，任意兩個相鄰的掩膜開口之間設置有至少一個第二支撐架。