[實(shí)用新型]一種半導(dǎo)體器件防潮結(jié)構(gòu)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202023161487.1 | 申請(qǐng)日: | 2020-12-23 |
| 公開(公告)號(hào): | CN213691995U | 公開(公告)日: | 2021-07-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李明宇;蘇曉山;王大明;賈國(guó) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 深圳吉華微特電子有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L23/00 | 分類號(hào): | H01L23/00 |
| 代理公司: | 深圳市中科創(chuàng)為專利代理有限公司 44384 | 代理人: | 馮建華;劉曰瑩 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市龍崗區(qū)*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 半導(dǎo)體器件 防潮 結(jié)構(gòu) | ||
本實(shí)用新型公開一種半導(dǎo)體器件防潮結(jié)構(gòu),包括:襯底和形成于所述襯底表面的阱,所述阱內(nèi)形成所需的器件,所述器件的上表面低于所述阱的上表面,所述器件周邊的襯底形成一圈隔離區(qū)。本實(shí)用新型的半導(dǎo)體器件防潮結(jié)構(gòu),將器件形成于阱內(nèi),而阱周圍的襯底形成所述器件的隔離區(qū),該設(shè)計(jì)有效防止了外部環(huán)境對(duì)于器件的干擾,利用其自身結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)器件的防潮效果。與現(xiàn)有的芯片級(jí)防潮結(jié)構(gòu)相比,不需要通過(guò)挖槽工藝做復(fù)雜的防潮環(huán),降低了工藝復(fù)雜度和生產(chǎn)成本。而且由于本半導(dǎo)體器件防潮結(jié)構(gòu)在芯片級(jí)即滿足可靠性的要求,故在封裝時(shí)無(wú)需做復(fù)雜的封裝,一般采用WLP晶圓級(jí)封裝方式,即將器件直接貼裝到基板或印刷電路板上,其在減小成品管芯尺寸的同時(shí),也大大降低了封裝成本。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種半導(dǎo)體器件防潮結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)
絕大部分電子產(chǎn)品都要求在干燥條件下作業(yè)和存放。據(jù)統(tǒng)計(jì),全球每年有1/4以上的工業(yè)制造不良品是由潮濕的外部環(huán)境所引起。對(duì)于電子工業(yè),潮濕的危害已經(jīng)成為產(chǎn)品質(zhì)量控制的主要因素之一。為解決上述問(wèn)題,本領(lǐng)域技術(shù)人員普遍采用兩種方式來(lái)避免外界潮濕對(duì)半導(dǎo)體器件的影響,一是從封裝結(jié)構(gòu)入手,形成防潮層。二是在芯片表面或縱向結(jié)構(gòu)集成防潮環(huán),其中防潮環(huán)一般為氮化硅或聚酰亞胺(PI),上述兩種方式在加工制程中,會(huì)多次利用挖槽工藝,工藝復(fù)雜、生產(chǎn)成本居高不下。
因此,需要對(duì)現(xiàn)有工藝進(jìn)行改進(jìn),達(dá)到有效防潮的同時(shí)降低工藝難度及生產(chǎn)成本。
實(shí)用新型內(nèi)容
為解決以上存在的技術(shù)問(wèn)題,本實(shí)用新型提供一種新的解決方案,其通過(guò)在于阱內(nèi)形成所需的器件,利用阱周圍的襯底形成對(duì)器件的隔離防護(hù),達(dá)到了良好的防潮效果,其利用自身結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)了器件防潮保護(hù)的同時(shí),減小了成品管芯的尺寸,降低了封裝成本。
本實(shí)用新型的技術(shù)方案如下:本實(shí)用新型提供了一種半導(dǎo)體器件防潮結(jié)構(gòu),包括:襯底和形成于所述襯底表面的阱,所述阱內(nèi)形成所需的器件,所述器件的上表面低于所述阱的上表面,所述器件周邊的襯底形成一圈隔離區(qū)。
進(jìn)一步地,所述襯底為本征硅或摻雜硅。
進(jìn)一步地,所述襯底為摻雜硅中的N型硅時(shí),所述阱為P阱,所述襯底為摻雜硅中的P型硅時(shí),所述阱為N阱。
進(jìn)一步地,所述襯底為本征硅時(shí),所述阱為P阱或N阱。
進(jìn)一步地,所述隔離區(qū)的寬度為10-90um。
進(jìn)一步地,所述器件的上表面低于所述阱的上表面10-20um。
進(jìn)一步地,所述所述器件為功率器件或分立器件。
采用上述方案,本實(shí)用新型提供一種半導(dǎo)體器件防潮結(jié)構(gòu),其將器件設(shè)在阱內(nèi),在器件有效區(qū)域周圍利用襯底形成了隔離區(qū),保證了半導(dǎo)體器件免受外界干擾,實(shí)現(xiàn)了半導(dǎo)體器件防潮效果,和現(xiàn)有的半導(dǎo)體防潮結(jié)構(gòu)相比,降低了工藝復(fù)雜度及生產(chǎn)成本。且其利用自身結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)了器件防潮保護(hù)的同時(shí),減小了成品管芯的尺寸,降低了封裝成本。
附圖說(shuō)明
圖1為本實(shí)用新型的半導(dǎo)體器件防潮結(jié)構(gòu)的剖面示意圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施例,對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。
如圖1所示,為本實(shí)用新型的一種半導(dǎo)體器件防潮結(jié)構(gòu),可以看出,其包括:襯底100和形成于所述襯底100表面的阱101,所述阱101內(nèi)形成所需的器件102,所述器件102的上表面低于所述阱101的上表面,所述器件102周邊的襯底形成一圈隔離區(qū)103。其中,器件102可以為功率器件(輸出功率比較大的電子元器件)或分立器件(二極管、三極管等)。所述器件102的上表面隱藏于所述阱101內(nèi),所述器件102的周圍均為襯底100形成的隔離區(qū)103,由此形成對(duì)所述器件102的有效防護(hù),使其免受外界環(huán)境的干擾,達(dá)到防潮的效果。
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