[實用新型]等離子蝕刻設備有效
| 申請號: | 202023151208.3 | 申請日: | 2020-12-23 |
| 公開(公告)號: | CN213781984U | 公開(公告)日: | 2021-07-23 |
| 發明(設計)人: | 申度旭 | 申請(專利權)人: | 樂金顯示光電科技(中國)有限公司 |
| 主分類號: | H01J37/32 | 分類號: | H01J37/32 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 胡彬 |
| 地址: | 510530 廣東省廣州市廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 等離子 蝕刻 設備 | ||
1.一種等離子蝕刻設備,其特征在于,包括供氣裝置和等離子發生裝置,所述供氣裝置包括氣體混合室和至少兩個輸氣支管道,至少兩個所述輸氣支管道與所述氣體混合室連通,所述氣體混合室通過輸氣總管道與所述等離子發生裝置連通,所述輸氣支管道上設置有氣體流量控制器和第一過濾器,所述第一過濾器用于對對應的所述輸氣支管道內的氣體進行過濾處理,所述輸氣總管道上設置有第二過濾器,所述第二過濾器對所述輸氣總管道內的氣體進行過濾處理。
2.根據權利要求1所述的等離子蝕刻設備,其特征在于,所述輸氣支管道的數量為兩個,其中一個所述輸氣支管道為第一輸氣支管道,所述第一輸氣支管道用于輸送氮氣,其中另一個所述輸氣支管道為第二輸氣支管道,所述第二輸氣支管道用于輸送干燥空氣。
3.根據權利要求1所述的等離子蝕刻設備,其特征在于,所述氣體流量控制器設置于所述第一過濾器與所述氣體混合室之間。
4.根據權利要求1所述的等離子蝕刻設備,其特征在于,所述氣體流量控制器包括閥門,所述閥門采用不銹鋼材料制成。
5.根據權利要求2所述的等離子蝕刻設備,其特征在于,所述供氣裝置還包括用于儲存所述氮氣的第一儲氣罐和用于儲存所述干燥空氣的第二儲氣罐,所述第一儲氣罐與所述第一輸氣支管道連接,所述第二儲氣罐與所述第二輸氣支管道連接。
6.根據權利要求5所述的等離子蝕刻設備,其特征在于,所述第二儲氣罐或者所述第二輸氣支管道上設置有濕度計。
7.根據權利要求2所述的等離子蝕刻設備,其特征在于,所述第一輸氣支管道和所述第二輸氣支管道上均設置有壓力表。
8.根據權利要求1所述的等離子蝕刻設備,其特征在于,所述氣體混合室相對的兩端分別設置有氣體出口和氣體入口,所述氣體出口與所述輸氣總管道連接,所述氣體入口與所述輸氣支管道連接,所述氣體出口與所述氣體入口錯位分布。
9.根據權利要求1所述的等離子蝕刻設備,其特征在于,所述輸氣支管道上設置有至少兩個所述第一過濾器,至少兩個所述第一過濾器依次串聯連接。
10.根據權利要求9所述的等離子蝕刻設備,其特征在于,所述輸氣支管道上設置有兩個所述第一過濾器,靠近所述氣體流量控制器的所述第一過濾器的過濾孔小于遠離所述氣體流量控制器的所述第一過濾器的過濾孔。
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