[實用新型]一種帶有襯鍋的金屬蒸鍍用坩堝有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202023147463.0 | 申請日: | 2020-12-24 |
| 公開(公告)號: | CN214300318U | 公開(公告)日: | 2021-09-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 趙濤 | 申請(專利權(quán))人: | 陜西光電子集成電路先導(dǎo)技術(shù)研究院有限責(zé)任公司 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24 |
| 代理公司: | 西安弘理專利事務(wù)所 61214 | 代理人: | 劉娜 |
| 地址: | 710065 陜西*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 帶有 金屬 蒸鍍用 坩堝 | ||
本實用新型公開了一種帶有襯鍋的金屬蒸鍍用坩堝,包括坩堝本體和襯鍋,襯鍋位于坩堝本體內(nèi)部,且襯鍋外壁與坩堝本體內(nèi)壁之間設(shè)置有間隙,間隙的寬度為0.5?1mm,襯鍋底部與坩堝本體底部的間隙內(nèi)還設(shè)置有導(dǎo)熱塊,襯鍋的外側(cè)壁還包覆有導(dǎo)熱薄膜層。本實用新型的帶有襯鍋的金屬蒸鍍用坩堝,減少了金屬預(yù)熔的重量,對于貴金屬而言,大幅度降低無收益資產(chǎn),使用襯鍋蒸鍍同樣的速率蒸鍍功率能下降30%?45%,提高了金屬的鍍膜速率,縮短鍍膜時間。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型屬于蒸鍍設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種帶有襯鍋的金屬蒸鍍用坩堝。
背景技術(shù)
在半導(dǎo)體工廠中,都會使用到金屬蒸鍍機臺,利用電子束(E-beam)蒸鍍的方法來蒸鍍不同的金屬。在傳統(tǒng)蒸鍍過程中,一些金屬被直接預(yù)熔到坩堝,很少被預(yù)熔到襯鍋中,而這種情況存在重要缺陷:一、預(yù)熔金屬需要大量的原材料,對于貴金屬而言,其市場價格太高,前期投入很大,造成企業(yè)無收益資產(chǎn)過高,不利于企業(yè)運營。例如貴金屬Au,一次預(yù)熔大約需要500g,按照市場價格400元每克(2020年市場價格)計算,大約需要20萬人民。二、金屬直接預(yù)熔在坩堝內(nèi),造成蒸鍍時鍍膜功率太高,同時鍍膜速率比較低,不利于企業(yè)縮短生產(chǎn)周期,造成企業(yè)運營成本過高。
實用新型內(nèi)容
本實用新型的目的在于提供一種帶有襯鍋的金屬蒸鍍用坩堝,解決了現(xiàn)有金屬蒸鍍用坩堝鍍膜速率低下的問題。
本實用新型所采用的技術(shù)方案是,一種帶有襯鍋的金屬蒸鍍用坩堝,包括坩堝本體和襯鍋,襯鍋位于坩堝本體內(nèi)部,且襯鍋外壁與坩堝本體內(nèi)壁之間設(shè)置有間隙,間隙的寬度為0.5-1mm,襯鍋底部與坩堝本體底部的間隙內(nèi)還設(shè)置有導(dǎo)熱塊,襯鍋的外側(cè)壁還包覆有導(dǎo)熱薄膜層。
本實用新型的特點還在于,
襯鍋的壁厚為3-10mm,坩堝本體的壁厚為2-3cm。
導(dǎo)熱薄膜層的厚度為0.5mm;導(dǎo)熱薄膜層位于襯鍋上部。
導(dǎo)熱塊為圓形導(dǎo)熱塊或者矩形導(dǎo)熱塊。
襯鍋、導(dǎo)熱塊和導(dǎo)熱薄膜層均由導(dǎo)熱材料制成。
本實用新型的有益效果是:
本實用新型的帶有襯鍋的金屬蒸鍍用坩堝,減少了金屬預(yù)熔的重量,對于貴金屬而言,大幅度降低無收益資產(chǎn),設(shè)計的襯鍋,需要Au大約250g就能滿足原有生產(chǎn)的需求。使用襯鍋蒸鍍同樣的速率蒸鍍功率能下降30%-45%,提高了金屬的鍍膜速率,縮短鍍膜時間。
附圖說明
圖1是本實用新型一種帶有襯鍋的金屬蒸鍍用坩堝的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖中,1.坩堝本體,2.襯鍋,3.導(dǎo)熱塊,4.導(dǎo)熱薄膜層。
具體實施方式
下面結(jié)合附圖和具體實施方式對本實用新型進(jìn)行詳細(xì)說明。
本實用新型一種帶有襯鍋的金屬蒸鍍用坩堝,如圖1所示,包括坩堝本體1和襯鍋2,襯鍋2位于坩堝本體1內(nèi)部,且襯鍋2外壁與坩堝本體1內(nèi)壁之間設(shè)置有間隙;襯鍋2底部與坩堝本體1底部的間隙內(nèi)還設(shè)置有導(dǎo)熱塊3,導(dǎo)熱塊3為圓形導(dǎo)熱塊或者矩形導(dǎo)熱塊,導(dǎo)熱塊3的厚度與間隙一致;襯鍋2的壁厚為3-10mm,間隙的寬度為0.5-1mm,坩堝本體1的壁厚為2-3cm;
襯鍋2的外側(cè)壁還包覆有導(dǎo)熱薄膜層4,導(dǎo)熱薄膜層4的厚度為0.5mm;導(dǎo)熱薄膜層4位于襯鍋2上部;
襯鍋2、導(dǎo)熱塊3和導(dǎo)熱薄膜層4均由導(dǎo)熱材料制成;
導(dǎo)熱材料為石墨、銅、銀、鋁中的任意一種。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





