[實(shí)用新型]一種蝕刻廢液制備弱酸性次氯酸水系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202023009541.0
• 申請(qǐng)日: 2020-12-14
• 公開（公告）號(hào): CN214087709U
• 公開（公告）日: 2021-08-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 傅新民;康淵;黃明;孟勇;劉玉珍;李宏隆;黃新雅;王敬宇;付亮;王浩銘
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 廣西鴻盈達(dá)環(huán)境科技有限公司;傅新民
• 主分類號(hào): C01B11/06
• 分類號(hào): C01B11/06;C01B11/04;C01B7/07;C25C1/12;C25B1/26
• 代理公司: 廣西中知科創(chuàng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 45130
• 代理人: 趙團(tuán)軍

本實(shí)用新型涉及環(huán)保技術(shù)領(lǐng)域，尤其是一種蝕刻廢液制備弱酸性次氯酸水系統(tǒng)，包括廢液處理模塊、氣體處理模塊及制備模塊，所述廢液處理模塊用于獲取含有雜質(zhì)的氯氣；所述氣體處理模塊用于對(duì)含有雜質(zhì)的氯氣進(jìn)行處理，以獲得有效氯氣；所述制備模塊包括次氯酸鈉溶液生成裝置及次氯酸水生成裝置，所述次氯酸鈉溶液生成裝置設(shè)有氫氧化鈉溶液，且所述次氯酸鈉溶液生成裝置一端與所述雜氣體去除裝置導(dǎo)通連接，另一端與所述次氯酸水生成裝置導(dǎo)通連接；所述次氯酸水生成裝置設(shè)有鹽酸溶液并與所述次氯酸鈉溶液生成裝置導(dǎo)通連接。本實(shí)用新型能夠?qū)λ嵝月然~蝕刻廢液進(jìn)行回收利用，而且獲得用于消毒或除菌方面的弱酸性次氯酸水。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及環(huán)保技術(shù)領(lǐng)域，尤其是一種蝕刻廢液制備弱酸性次氯酸水系統(tǒng)。

背景技術(shù)

隨著電子工業(yè)的發(fā)展，印刷電路板廣泛應(yīng)用于電子產(chǎn)品的生產(chǎn)過程中，但過程中產(chǎn)生的大量廢棄物給環(huán)境造成了巨大危害，其中蝕刻廢液的產(chǎn)生與排放造成嚴(yán)重的環(huán)境污染和資源浪費(fèi)，而大部分蝕刻廢液為酸性氯化銅蝕刻廢液，主要是因?yàn)槠湮g刻速率快，溶銅容量高，易控制。

目前對(duì)酸性氯化銅蝕刻廢液的處理一般采用電解法，在陽極再生蝕刻液的同時(shí)在陰極同時(shí)進(jìn)行沉積回收銅過程，在此過程中，陽極產(chǎn)生強(qiáng)氧化性氣體氯氣，一部分再次用于蝕刻廢液中，一部分則未被回收利用，造成空氣二次污染以及資源浪費(fèi)。現(xiàn)有氯氣處理一般采用氯化亞鐵溶液吸收氯氣，但這樣處理后的氯氣攜帶少量銅離子和雜氣體，例如水蒸氣、氧氣等，最終難以回收利用，進(jìn)行資源循環(huán)，使用價(jià)值降低，成本較高。

實(shí)用新型內(nèi)容

為了解決上述問題，本實(shí)用新型提供一種蝕刻廢液制備弱酸性次氯酸水系統(tǒng)，能夠?qū)λ嵝月然~蝕刻廢液進(jìn)行回收利用，并能夠獲得用于消毒或除菌方面的弱酸性次氯酸水。

為了解決上述問題，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案為：

一種蝕刻廢液制備弱酸性次氯酸水系統(tǒng)，包括廢液處理模塊、氣體處理模塊及制備模塊，

所述廢液處理模塊包括儲(chǔ)存區(qū)及電解槽，所述儲(chǔ)存區(qū)用于獲取蝕刻液生產(chǎn)線的電解酸性氯化銅蝕刻液廢液，且所述儲(chǔ)存區(qū)與所述電解槽連接；

所述氣體處理模塊包括銅離子去除裝置及雜氣體去除裝置，所述銅離子去除裝置內(nèi)設(shè)有稀硫酸溶液，且所述銅離子去除裝置的入口端與所述電解槽的陽極收集區(qū)連接，所述銅離子去除裝置的出口端與所述雜氣體去除裝置連接，所述雜氣體去除裝置設(shè)有純水；

所述制備模塊包括次氯酸鈉溶液生成裝置及次氯酸水生成裝置，

所述次氯酸鈉溶液生成裝置設(shè)有氫氧化鈉溶液，且所述次氯酸鈉溶液生成裝置一端與所述雜氣體去除裝置導(dǎo)通連接，另一端與所述次氯酸水生成裝置導(dǎo)通連接；

所述次氯酸水生成裝置包括生成箱，所述生成箱內(nèi)設(shè)有鹽酸溶液，且所述生成箱與所述次氯酸鈉溶液生成裝置導(dǎo)通連接。

進(jìn)一步地，所述銅離子去除裝置及所述雜氣體去除裝置均設(shè)有冷卻裝置，兩所述冷卻裝置分別所述銅離子去除裝置及所述雜氣體去除裝置連接。

進(jìn)一步地，所述銅離子去除裝置、所述雜氣體去除裝置及所述生成箱內(nèi)均設(shè)有監(jiān)管裝置，所述監(jiān)管裝置包括離子濃度傳感器、氣體濃度傳感器及溫度傳感器。

進(jìn)一步地，所述銅離子去除裝置的入口端通過第一管道與所述電解槽導(dǎo)通連接，且所述銅離子去除裝置的出口端通過第二管道與所述雜氣體去除裝置的入口端導(dǎo)通連接，所述雜氣體去除裝置的出口端通過第三管道與所述次氯酸鈉溶液生成裝置導(dǎo)通連接，所述第一管道、第二管道及所述第三管道均分別設(shè)有射流機(jī)。

進(jìn)一步地，所述次氯酸鈉溶液生成裝置包括反應(yīng)箱、儲(chǔ)液罐、溶液罐及噴射混合器，所述反應(yīng)箱與所述第三管道遠(yuǎn)離所述雜氣體去除裝置的一端導(dǎo)通連接，所述儲(chǔ)液罐及所述溶液罐均設(shè)于所述反應(yīng)箱外，且所述儲(chǔ)液罐及所述溶液罐分別設(shè)有水及氫氧化鈉溶液；所述噴射混合器設(shè)于所述反應(yīng)箱內(nèi)，且所述噴射混合器分別與所述儲(chǔ)液罐及所述溶液罐導(dǎo)通連接。