[實用新型]一種蝕刻廢液制備弱酸性次氯酸水系統

有效

• 申請號: 202023009541.0
• 申請日: 2020-12-14
• 公開（公告）號: CN214087709U
• 公開（公告）日: 2021-08-31
• 發明（設計）人: 傅新民;康淵;黃明;孟勇;劉玉珍;李宏隆;黃新雅;王敬宇;付亮;王浩銘
• 申請（專利權）人: 廣西鴻盈達環境科技有限公司;傅新民
• 主分類號: C01B11/06
• 分類號: C01B11/06;C01B11/04;C01B7/07;C25C1/12;C25B1/26
• 代理公司: 廣西中知科創知識產權代理有限公司 45130
• 代理人: 趙團軍

1.一種蝕刻廢液制備弱酸性次氯酸水系統，其特征在于：包括廢液處理模塊(1)、氣體處理模塊(2)及制備模塊，

所述廢液處理模塊(1)包括儲存區(11)及電解槽(12)，所述儲存區(11)用于獲取蝕刻液生產線的電解酸性氯化銅蝕刻液廢液，且所述儲存區(11)與所述電解槽(12)連接；

所述氣體處理模塊(2)包括銅離子去除裝置(21)及雜氣體去除裝置(22)，所述銅離子去除裝置(21)內設有稀硫酸溶液，且所述銅離子去除裝置(21)的入口端與所述電解槽(12)的陽極收集區連接，所述銅離子去除裝置(21)的出口端與所述雜氣體去除裝置(22)連接，所述雜氣體去除裝置(22)設有純水；

所述制備模塊包括次氯酸鈉溶液生成裝置(3)及次氯酸水生成裝置(4)，

所述次氯酸鈉溶液生成裝置(3)設有氫氧化鈉溶液，且所述次氯酸鈉溶液生成裝置(3)一端與所述雜氣體去除裝置(22)導通連接，另一端與所述次氯酸水生成裝置(4)導通連接；

所述次氯酸水生成裝置(4)包括生成箱(41)，所述生成箱(41)內設有鹽酸溶液，且所述生成箱(41)與所述次氯酸鈉溶液生成裝置(3)導通連接。

2.根據權利要求1所述的一種蝕刻廢液制備弱酸性次氯酸水系統，其特征在于：所述銅離子去除裝置(21)及所述雜氣體去除裝置(22)均設有冷卻裝置(5)，兩所述冷卻裝置(5)分別所述銅離子去除裝置(21)及所述雜氣體去除裝置(22)連接。

3.根據權利要求1所述的一種蝕刻廢液制備弱酸性次氯酸水系統，其特征在于：所述銅離子去除裝置(21)、所述雜氣體去除裝置(22)及所述生成箱(41)內均設有監管裝置(65)，所述監管裝置(65)包括離子濃度傳感器、氣體濃度傳感器及溫度傳感器。

4.根據權利要求1所述的一種蝕刻廢液制備弱酸性次氯酸水系統，其特征在于：所述銅離子去除裝置(21)的入口端通過第一管道(61)與所述電解槽(12)導通連接，且所述銅離子去除裝置(21)的出口端通過第二管道(62)與所述雜氣體去除裝置(22)的入口端導通連接，所述雜氣體去除裝置(22)的出口端通過第三管道(63)與所述次氯酸鈉溶液生成裝置(3)導通連接，所述第一管道(61)、第二管道(62)及所述第三管道(63)均分別設有射流機(64)。

5.根據權利要求4所述的一種蝕刻廢液制備弱酸性次氯酸水系統，其特征在于：所述次氯酸鈉溶液生成裝置(3)包括反應箱(31)、儲液罐(32)、溶液罐(33)及噴射混合器(34)，所述反應箱(31)與所述第三管道(63)遠離所述雜氣體去除裝置(22)的一端導通連接，所述儲液罐(32)及所述溶液罐(33)均設于所述反應箱(31)外，且所述儲液罐(32)及所述溶液罐(33)分別設有水及氫氧化鈉溶液；所述噴射混合器(34)設于所述反應箱(31) 內，且所述噴射混合器(34)分別與所述儲液罐(32)及所述溶液罐(33)導通連接。

6.根據權利要求5所述的一種蝕刻廢液制備弱酸性次氯酸水系統，其特征在于：所述制備模塊至少設置兩個，且所述制備模塊的反應箱(31)均分別與所述雜氣體去除裝置(22)導通連接。

7.根據權利要求4所述的一種蝕刻廢液制備弱酸性次氯酸水系統，其特征在于：所述生成箱(41)外設有儲備箱(42)及調配箱(43)，所述儲備箱(42)及所述調配箱(43)分別通過輸送管道(44)與所述生成箱(41)導通連接，且每一所述輸送管道(44)均設有流量閥(441)及增壓泵(442)，所述流量閥(441)與所述增壓泵(442)電連接。