[實用新型]一種空間利用率高的晶圓升降裝置有效
| 申請號: | 202023001938.5 | 申請日: | 2020-12-11 |
| 公開(公告)號: | CN214043622U | 公開(公告)日: | 2021-08-24 |
| 發明(設計)人: | 鐘興進 | 申請(專利權)人: | 廣州市鴻浩光電半導體有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/687 | 分類號: | H01L21/687;H01L21/683 |
| 代理公司: | 廈門仕誠聯合知識產權代理事務所(普通合伙) 35227 | 代理人: | 邱冬新 |
| 地址: | 511300 廣東省廣州市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 空間 利用率 升降 裝置 | ||
一種空間利用率高的晶圓升降裝置,包括機體,所述機體頂端設置有底板,底板底部兩側設置有滾輪,機體內部底端設置有安裝座,安裝座上設置有減震板,減震板頂端設置有電機,電機一側設置有第一齒輪,第一齒輪一側設置有第二齒輪,第二齒輪頂端設置有螺紋管,螺紋管上設置有旋管,所述旋管一端穿過機體頂端,電機通過第一齒輪帶動第二齒輪進行轉動,第二齒輪帶動螺紋管在旋管內部可以進行旋進后旋出,使旋管帶動支撐板進行升降,可以適用不同高度的進行使用,在載具兩側設置的調節螺栓,并且通過兩側的調節螺栓在通孔內進行旋轉,可以使卡件在載具內進行滑動,可以調整到需要加工晶圓的尺寸,提高晶圓升降裝置的空間利用率。
技術領域
本實用新型涉及半導體技術領域,具體為一種空間利用率高的晶圓升降裝置。
背景技術
晶圓指制造半導體晶體管或集成電路的襯底,由于是晶體材料,其形狀為圓形,所以稱為晶圓,襯底材料有硅、鍺、GaAs、InP、GaN等,由于硅最為常用,如果沒有特別指明晶體材料,通常指硅晶圓,在硅晶片上可加工制作成各種電路元件結構,而成為有特定電性功能的集成電路產品,晶圓的原始材料是硅,而地殼表面有用之不竭的二氧化硅,二氧化硅礦石經由電弧爐提煉,鹽酸氯化,并經蒸餾后,制成了高純度的多晶硅。
例如公開號為“CN201920630000.8”專利名稱為:“一種晶圓升降裝置”的專利,其公開了“包括工藝腔體,所述工藝腔體內設置有托環,所述托環的上端面設置有若干頂針,所述托環的下端面垂直連接有軸桿,所述軸桿由所述工藝腔體的底部穿出,所述軸桿在所述工藝腔體內部的部分外側設置有波紋管,所述波紋管頂部與所述托環連接且密封處理,所述波紋管底部與所述工藝腔體連接;所述工藝腔體下端面設置有支架,所述支架側面下部設置有伺服馬達,所述伺服馬達的電機軸上端連接有絲桿,所述絲桿上螺旋連接有滑塊,所述滑塊的外側面與所述支架的側面滑動連接,所述滑塊的內側面與所述軸桿固定連接,所述支架的側面在所述滑塊的上方和下方分別設置有位置感應器,所述位置感應器連接有控制器,所述控制器與所述伺服馬達連接,所述支架的側面在所述滑塊的上方和下方分別設置有限位塊,使用伺服馬達驅動結構來替代小型汽缸結構,升降精度高,運行平穩,抗過載能力強”。
但是現有的晶圓升降裝置在使用時,沒有較好的升降機構,導致對半導體腔體組件晶圓進行檢測時,操作不方便,并且使用率不高,不便于進行調整尺寸。
實用新型內容
(一)解決的技術問題
針對現有技術的不足,本實用新型提供了一種實用性強、空間利用率高的晶圓升降裝置。
(二)技術方案
為實現上述目的,本實用新型提供如下技術方案:
一種空間利用率高的晶圓升降裝置,包括機體,所述機體頂端設置有底板,底板底部兩側設置有滾輪,所述機體內部底端設置有安裝座,安裝座上設置有減震板,所述減震板頂端設置有電機,電機一側設置有第一齒輪,所述第一齒輪一側設置有第二齒輪,所述第二齒輪頂端設置有螺紋管,螺紋管上設置有旋管,所述旋管一端穿過機體頂端,旋管一端設置有支撐板,所述支撐板頂端兩側設置有氣缸,氣缸上部設置有載具,所述機體外部設置有箱門,所述箱門上設置有控制器。
為了實現更好的使用,本實用新型改進有,所述載具兩側設置有通孔,通孔內設置有調節螺栓,所述調節螺栓一端設置有卡件,卡件上設置有防護墊。
為了實現更好的保護,本實用新型改進有,所述防護墊為彈性硅膠材質。
為了實現更好的吸附,本實用新型改進有,所述載具內部底端設置有吸盤,所述吸盤為不銹鋼材質。
為了實現更好的減震,本實用新型改進有,所述減震板內設置有數個彈簧,并等間距均勻的設置在減震板內。
為了實現更好的控制,本實用新型改進有,所述控制器與電機和氣缸均為電連接。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于廣州市鴻浩光電半導體有限公司,未經廣州市鴻浩光電半導體有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202023001938.5/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種鑄鐵搪瓷產品的釉料加噴裝置
- 下一篇:一種卡箍
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





