[實用新型]研磨墊及具有其的研磨裝置

有效

• 申請號: 202022943908.X
• 申請日: 2020-12-10
• 公開（公告）號: CN213946060U
• 公開（公告）日: 2021-08-13
• 發明（設計）人: 吳宇
• 申請（專利權）人: 長江存儲科技有限責任公司
• 主分類號: B24B37/26
• 分類號: B24B37/26
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240
• 代理人: 王曉玲

1.一種研磨墊，其特征在于，所述研磨墊具有相對的非工作面和工作面(10)，所述工作面(10)具有旋轉中心且工作時沿所述旋轉中心周向旋轉，所述工作面(10)具有至少一個第一區域(110)，在由所述旋轉中心指向所述工作面(10)的邊緣的方向上，所述第一區域(110)的第一長度由L₁遞增至L₂并由所述L₂遞減至L₃，所述第一長度為所述第一區域(110)沿旋轉方向的長度，所述工作面(10)中除所述第一區域(110)之外的區域為第二區域(120)，位于所述第一區域(110)中的所述工作面(10)與所述非工作面之間的最大垂直距離為H₁，位于所述第二區域(120)中的所述工作面(10)與所述非工作面之間的最大垂直距離為H₂，H₁＜H₂。

2.根據權利要求1所述的研磨墊，其特征在于，所述第一區域(110)的幾何重心距所述旋轉中心的距離小于所述幾何重心距所述工作面(10)邊緣的最小距離。

3.根據權利要求1所述的研磨墊，其特征在于，所述第一區域(110)沿所述旋轉方向的最大長度為a，所述第一區域(110)沿與所述旋轉方向垂直的方向的最大長度為b，b＞a。

4.根據權利要求1所述的研磨墊，其特征在于，

所述第一區域(110)由所述旋轉中心趨向所述工作面(10)的邊緣延伸且未與所述工作面(10)的邊緣接觸；或

所述第一區域(110)由所述工作面(10)的邊緣趨向所述旋轉中心延伸且未與所述旋轉中心接觸；或

所述第一區域(110)由所述旋轉中心延伸至所述工作面(10)的邊緣。

5.根據權利要求1至4中任一項所述的研磨墊，其特征在于，

所述工作面(10)包括平整的基面(101)和凸出在所述基面(101)上的多個凸起面(102)，所述凸起面(102)均位于所述第二區域(120)中；或

所述工作面(10)包括平整的基面(101)和凸出在所述基面(101)上的多個凸起面(102)，所述第一區域(110)和所述第二區域(120)中均形成有凸起部，所述凸起面(102)為各所述凸起部遠離所述非工作面一側的表面，且所述第一區域(110)中的所述凸起部的高度小于所述第二區域(120)中的所述凸起部的高度。

6.根據權利要求1至4中任一項所述的研磨墊，其特征在于，所述第一區域(110)為多個，各所述第一區域(110)沿所述旋轉方向均勻分布。

7.根據權利要求6所述的研磨墊，其特征在于，所述第一區域(110)為偶數個，且兩兩所述第一區域(110)呈中心對稱。

8.根據權利要求1至4中任一項所述的研磨墊，其特征在于，

所述第一區域(110)為三角形；或

所述第一區域(110)為梯形；或

所述第一區域(110)為由直線段和曲線段圍成的圖形；或

所述第一區域(110)為由第一曲線段和第二曲線段圍成的圖形。

9.根據權利要求1至4中任一項所述的研磨墊，其特征在于，所述第一區域(110)的面積為所述工作面(10)的面積的5％～10％。

10.根據權利要求1至4中任一項所述的研磨墊，其特征在于，所述H₁與所述H₂的高度差為1mm～3mm。

11.一種研磨裝置，包括工作臺以及設置于所述工作臺上的研磨墊，所述工作臺用于放置晶圓，所述研磨墊用于通過自轉對所述晶圓遠離所述工作臺一側的表面進行研磨，其特征在于，所述研磨墊為權利要求1至10中任一項所述的研磨墊。

12.根據權利要求11所述的研磨裝置，其特征在于，所述研磨裝置還包括研磨液噴射裝置，所述研磨液噴射裝置的出口朝向所述工作臺設置。