[實用新型]一種晶圓目檢定位防滑臺有效
| 申請號: | 202022907342.5 | 申請日: | 2020-12-07 |
| 公開(公告)號: | CN213424967U | 公開(公告)日: | 2021-06-11 |
| 發明(設計)人: | 鄧國發;劉海波 | 申請(專利權)人: | 深圳市廣盛浩科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/683 | 分類號: | H01L21/683;H01L21/66 |
| 代理公司: | 北京睿博行遠知識產權代理有限公司 11297 | 代理人: | 計小玲 |
| 地址: | 518031 廣東省深圳市福*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 晶圓目 檢定 防滑 | ||
本實用新型涉及激光半導體技術領域,特別涉及一種晶圓目檢定位防滑臺,平臺的頂表面上設置有多個小孔;平臺的內部設置有抽氣腔;小孔均與抽氣腔相接通。在使用本實用新型時,平臺上設置有凹環,方便子母環的安裝,將帶擴晶膜的子母環放置于上層平臺上;外部的負壓裝置使得抽氣腔的內部產生負壓,進而帶有負壓的多個小孔將帶擴晶膜的子母環吸附固定,在檢測過程中,擴晶膜得到平臺大面積的承托保護,不易破損,子母環的定位更加便捷。
技術領域
本實用新型涉及激光半導體技術領域,特別涉及一種晶圓目檢定位防滑臺。
背景技術
在半導體器件制造過程中,有些產品需要進行人工目檢,即利用高倍顯微鏡對晶圓上的每一個芯片的外觀進行目視揀選。例如,vcsel(verticalcavitysurfaceemittinglaser,垂直腔面發射激光器)芯片,其有別于led和ld等其他光源,具有體積小、圓形輸出光斑、單縱模輸出、閾值電流小等優點,廣泛應用于光通信等領域。不同于傳統的led、ld等,產品入庫前需要進行高倍的人工目檢檢驗,特別是對于芯片發光區的檢驗,需要用到500倍的顯微鏡倍率。
傳統的半導體晶圓人工目檢,一般是將承載芯片的擴晶膜貼于方型鐵環之上,再將鐵環放置于顯微鏡載臺,檢驗時通過移動鐵環來調整檢驗區域。在該檢驗方式下,擴晶膜底部與平臺直接接觸,使用真空吸筆吸除時能夠提供一定的承載力,擴晶膜無變形或破損的風險,但對于使用子母環的方案:
①、因子母環與顯微鏡平臺的接觸面積較小,且摩擦系數較低,操作過程中若觸碰到子母環,很容易造成產品x、y方向的位移,無法確認已檢驗及未檢驗的交界點,造成重復檢驗或漏檢驗;
②、外觀不良芯片在挑除過程中,真空吸筆向下按壓擴晶膜,由于擴晶膜下方無承托,很容易造成擴晶膜的破損;
③、挑除過程中擴晶膜高度整體下降,使產品對焦出現問題,使得挑除過程中無法看到芯片及吸筆針尖的準確位置及運動狀態,使得挑除效率下降,且易損傷周圍無關芯片;
④、一片擴晶膜上通常會有上千顆芯片,由于使用高倍目檢,檢驗效率較低,檢驗一片產品通常需要幾個小時,若中途暫停或產品取下,很難定位到已檢驗區域與未檢驗區域的界限。
實用新型內容
本實用新型的目的在于針對現有技術的缺陷和不足,提供一種晶圓目檢定位防滑臺。
為實現上述目的,本實用新型采用的技術方案是:
本實用新型所述的一種晶圓目檢定位防滑臺,它包括有平臺;所述平臺的頂表面上設置有多個小孔;所述平臺的內部設置有抽氣腔;所述小孔均與抽氣腔相接通。
進一步地,所述平臺上的所有小孔沿直線排列成為一組小孔組;抽氣腔為貫穿平臺左右兩側的直孔;所述小孔均與直孔相接通。
進一步地,一排小孔組和一個直孔形成一個吸附氣路;所述吸附氣路的數量至少為兩個;所述吸附氣路在平臺上呈圓周分布;各個直孔之間接通于平臺的中心位置處。
進一步地,所述直孔的兩端均設置有孔內螺紋。
進一步地,所述平臺的表面上蝕刻有網格標線。
采用上述結構后,本實用新型有益效果為:本實用新型所述的一種晶圓目檢定位防滑臺,平臺的頂表面上設置有多個小孔;平臺的內部設置有抽氣腔;小孔均與抽氣腔相接通。在使用本實用新型時,平臺上設置有凹環,方便子母環的安裝,將帶擴晶膜的子母環放置于上層平臺上;外部的負壓裝置使得抽氣腔的內部產生負壓,進而帶有負壓的多個小孔將帶擴晶膜的子母環吸附固定,在檢測過程中,擴晶膜得到平臺大面積的承托保護,不易破損,子母環的定位更加便捷。
附圖說明
圖1是本實用新型的立體圖;
圖2是本實用新型的剖面圖;
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





