[實用新型]一種硅片檢測機構及鍍膜設備

有效

• 申請號: 202022887834.2
• 申請日: 2020-12-04
• 公開（公告）號: CN213459649U
• 公開（公告）日: 2021-06-15
• 發明（設計）人: 孫津;劉恩華;張晨鑫;姜大俊
• 申請（專利權）人: 鹽城阿特斯陽光能源科技有限公司;阿特斯陽光電力集團股份有限公司
• 主分類號: H01L21/66
• 分類號: H01L21/66;H01L31/18
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 胡彬

1.一種硅片檢測機構，其特征在于，包括：

傳輸組件(1)，用于承接并傳輸的待鍍膜硅片(100)；

檢測組件(2)，位于所述傳輸組件(1)的上方，所述檢測組件(2)能夠檢測所述傳輸組件(1)上的所述待鍍膜硅片(100)的表面的反射率；

轉移組件(3)，與所述檢測組件(2)電連接，所述轉移組件(3)被配置為根據所述檢測組件(2)的檢測結果將所述待鍍膜硅片(100)轉移至對應的石英舟(200)內。

2.根據權利要求1所述的硅片檢測機構，其特征在于，所述待鍍膜硅片(100)的表面設置有多個預設測試點，所述檢測組件(2)被配置為檢測多個所述預設測試點的反射率。

3.根據權利要求1所述的硅片檢測機構，其特征在于，所述檢測組件(2)包括：

固定支架(21)，設置于所述傳輸組件(1)的上方；

檢測件(22)，滑動設置于所述固定支架(21)上，且所述檢測件(22)能沿垂直于所述傳輸組件(1)的傳輸方向滑動。

4.根據權利要求3所述的硅片檢測機構，其特征在于，所述固定支架(21)上設置有導向滑軌，所述檢測件(22)上設置有導向滑塊，所述導向滑塊滑動配合于所述導向滑軌。

5.根據權利要求1所述的硅片檢測機構，其特征在于，所述硅片檢測機構還包括防偏移組件，所述防偏移組件能夠檢測所述傳輸組件(1)上的所述待鍍膜硅片(100)是否偏移。

6.根據權利要求5所述的硅片檢測機構，其特征在于，所述防偏移組件包括位于所述傳輸組件(1)上方的位置相機，所述位置相機能夠獲取所述傳輸組件(1)上的所述待鍍膜硅片(100)的位置信息。

7.根據權利要求1所述的硅片檢測機構，其特征在于，所述傳輸組件(1)包括：

傳輸支架(11)；

傳輸驅動件(12)，設置于所述傳輸支架(11)上；

主動輥(13)和從動輥(14)，分別轉動設置于所述傳輸支架(11)的兩端，所述傳輸驅動件(12)的輸出端與所述主動輥(13)相連接，以驅動所述主動輥(13)旋轉；

傳輸皮帶(15)，繞設于所述主動輥(13)和所述從動輥(14)，所述傳輸皮帶(15)能夠傳輸所述待鍍膜硅片(100)。

8.根據權利要求7所述的硅片檢測機構，其特征在于，所述傳輸組件(1)還包括限位件，所述限位件為設置于所述傳輸皮帶(15)兩側的擋板。

9.根據權利要求1-8任一項所述的硅片檢測機構，其特征在于，所述轉移組件(3)包括：

機械手本體(31)，位于所述傳輸組件(1)和所述石英舟(200)之間；

吸附部(32)，設置于所述機械手本體(31)的端部，所述吸附部(32)能夠吸附所述待鍍膜硅片(100)。

10.一種鍍膜設備，其特征在于，包括如權利要求1-9任一項所述的硅片檢測機構。