[實用新型]一種硅片拋光后用中轉裝置有效
| 申請號: | 202022878514.0 | 申請日: | 2020-12-05 |
| 公開(公告)號: | CN214165940U | 公開(公告)日: | 2021-09-10 |
| 發明(設計)人: | 袁祥龍;劉園;武衛;劉建偉;由佰玲;孫晨光;王彥君;常雪巖;裴坤羽;祝斌;劉姣龍;張宏杰;謝艷;楊春雪;劉秒;呂瑩;徐榮清 | 申請(專利權)人: | 天津中環領先材料技術有限公司;中環領先半導體材料有限公司 |
| 主分類號: | B65D81/22 | 分類號: | B65D81/22;B65D25/10;B65D25/02;B65D85/00 |
| 代理公司: | 天津諾德知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 12213 | 代理人: | 欒志超 |
| 地址: | 300384 天津市濱海*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 硅片 拋光 中轉 裝置 | ||
1.一種硅片拋光后用中轉裝置,其特征在于,包括載有水液的放置槽以及在所述放置槽上設有:
用于支撐硅片的承載組件;
和用于向所述硅片單側面噴液的噴液組件;
其中,所述承載組件被置于所述放置槽內側并使所述硅片懸空設置,且所述承載組件帶動所述硅片沿其高度方向調整位置;
所述噴液組件貫穿所述放置槽且被置于所述承載組件圍成圖形的外接圓內;
所述承載組件與所述硅片外壁面接觸并使所述硅片靠近所述放置槽一側的平面位于所述放置槽內水液面處,所述承載組件支撐所述硅片上升以離開中轉裝置。
2.根據權利要求1所述的一種硅片拋光后用中轉裝置,其特征在于,所述承載組件垂直于所述放置槽的底面設置,包括若干間隔設置的承載件和被所述承載件貫穿設置且用于固定所述承載件的固定件,連接所述承載件圍成圖形的外接圓與所述放置槽同圓心設置。
3.根據權利要求2所述的一種硅片拋光后用中轉裝置,其特征在于,所述承載件包括一體連接設置的上段部和下段部,至少所述上段部為圓錐體且所述上段部的大徑面與所述下段部連接。
4.根據權利要求3所述的一種硅片拋光后用中轉裝置,其特征在于,置于所述承載件圍成圖形的外接圓直徑端的兩個所述承載件中,所述上段部頂端距離大于所述硅片直徑,且所述上段部下端面內側壁距離小于所述硅片直徑。
5.根據權利要求3或4所述的一種硅片拋光后用中轉裝置,其特征在于,所述下段部為圓柱體,且所述圓柱體的上端面與所述上段部的下端面相適配。
6.根據權利要求5所述的一種硅片拋光后用中轉裝置,其特征在于,所述固定件為圓型結構,并與所述放置槽可拆卸連接。
7.根據權利要求2-4、6任一項所述的一種硅片拋光后用中轉裝置,其特征在于,所述承載組件至少包括三個所述承載件。
8.根據權利要求7所述的一種硅片拋光后用中轉裝置,其特征在于,所述承載組件包括六個所述承載件,分兩組對稱設置在所述放置槽直徑兩側;且每一組中的兩個外側的所述承載件相對于中間的所述承載件對稱設置。
9.根據權利要求2-4、6、8任一項所述的一種硅片拋光后用中轉裝置,其特征在于,所述噴液組件至少包括位于所述硅片圓心下方的噴液孔。
10.根據權利要求9所述的一種硅片拋光后用中轉裝置,其特征在于,所述噴液組件還包括設置于靠近所述硅片外邊緣一側的所述噴液孔;最外側所述噴液孔與所述承載件錯位設置;且所有噴液孔均位于所述硅片的同一半徑或直徑上。
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