[實用新型]一種真空鍍膜用非接觸式的公自轉轉架系統

有效

• 申請號: 202022872452.2
• 申請日: 2020-12-04
• 公開（公告）號: CN213895988U
• 公開（公告）日: 2021-08-06
• 發明（設計）人: 靳偉;余海春;戴秀海;高心愿
• 申請（專利權）人: 光馳科技（上海）有限公司
• 主分類號: C23C14/50
• 分類號: C23C14/50;C23C16/458
• 代理公司: 上海申蒙商標專利代理有限公司 31214
• 代理人: 周宇凡

本實用新型涉及一種真空鍍膜用非接觸式的公自轉轉架系統，包括動力輸入裝置、磁流體、靜止磁齒盤以及傳動磁齒輪系，其中動力輸入裝置設置在真空成膜室的大氣側并與磁流體相連接，磁流體設置在轉架的中心位置以驅動轉架公轉；靜止磁齒盤固定在真空成膜室的底板上，其與傳動磁齒輪系的動力輸入端通過磁性作用構成非接觸式嚙合，傳動磁齒輪系的動力輸出端與基片串相傳動配合以驅動基片串在轉架上自轉。本實用新型的優點是：1）可以實現在齒輪非接觸的情況下實現轉架的公自轉功能，齒輪沒有磨耗，轉動精度高，有效保證成膜質量；2）可以很方便的調節各磁齒輪內部磁極的數量來改變公自轉的轉動比；不會對鍍片和膜層造成污染，提高鍍片的成膜質量。

技術領域

本實用新型涉及薄膜制備技術領域，尤其是一種真空鍍膜用非接觸式的公自轉轉架系統。

背景技術

伴隨真空鍍膜設備的應用日益推廣，鍍片承載體轉架種類不斷增多，目前已經有平動型、公轉型、行星類公自轉型和擺動型等等。由于業界對鍍片膜層均勻性的要求越來越高，行星類公自轉類型轉架在市場上的占有量也越來越大。

對于傳統的行星類公自轉轉架，目前多采用機械齒輪接觸式傳動方案。主要的方式是真空腔體內底部或者頂部有一個固定的大齒輪。而小齒輪固定在轉架上，轉架相對固定的大齒輪有一個旋轉的運動，依靠固定的大齒輪和轉動的小齒輪的嚙合來實現鍍片的公轉和自轉的同時運動。由于機械類齒輪是接觸式嚙合，齒輪之間的摩擦會造成齒輪的磨耗，齒輪附近會有很多粉塵等小顆粒的沉積，每次鍍膜室的充放氣都會造成這些小顆粒的揚塵。而對于鍍片往往會造成膜層顆粒增多，鍍片外觀不良等問題。

發明內容

本實用新型的目的是根據上述現有技術的不足，提供了一種真空鍍膜用非接觸式的公自轉轉架系統，采用磁齒輪的非接觸式嚙合實現真空鍍膜轉架的公自轉，解決各種機械類齒輪接觸嚙合產生的粉塵小顆粒等問題。

本實用新型目的實現由以下技術方案完成：

一種真空鍍膜用非接觸式的公自轉轉架系統，包括設置在真空成膜室內的轉架，所述轉架上裝載有基片串，其特征在于：所述公自轉轉架系統包括動力輸入裝置、磁流體、靜止磁齒盤以及傳動磁齒輪系，其中所述動力輸入裝置設置在所述真空成膜室的大氣側并與所述磁流體相連接，所述磁流體設置在所述轉架的中心位置以驅動所述轉架公轉，即所述基片串的公轉；所述靜止磁齒盤固定在所述真空成膜室的底板上，其與所述傳動磁齒輪系的動力輸入端通過磁性作用構成非接觸式嚙合，所述傳動磁齒輪系的動力輸出端與所述基片串相傳動配合以驅動所述基片串在所述轉架上自轉。

所述傳動磁齒輪系包括第一傳動磁齒輪、第二傳動磁齒輪以及第三傳動磁齒輪，其中所述第一傳動磁齒輪和所述第二傳動磁齒輪通過軸承座固定在所述轉架的底板上，所述第一傳動磁齒輪位于所述靜止磁齒盤的上方，所述第二傳動磁齒輪與所述第一傳動磁齒輪構成傳動配合，所述第三傳動磁齒輪與所述基片串相連接，所述第三傳動磁齒輪位于所述第二傳動磁齒輪的上方。

所述第二傳動磁齒輪與所述第一傳動磁齒輪之間通過傳動軸連接構成傳動配合。

所述第三傳動磁齒輪與所述第二傳動磁齒輪之間通過嚙合構成傳動配合。

所述動力輸入裝置包括傳動電機、同步帶和同步帶輪，所述同步帶輪分別安裝在所述傳動電機的輸出端以及所述磁流體上，所述同步帶連接兩個所述同步帶輪。

在所述真空成膜室的底板上還設置有若干齒輪擋板，若干所述齒輪擋板對位于所述轉架底部的磁流體、靜止磁齒盤以及傳動磁齒輪系進行圍合遮擋。

本實用新型的優點是：

1）可以實現在齒輪非接觸的情況下實現轉架的公自轉功能，齒輪沒有磨耗，轉動精度高，有效保證成膜質量。

2）可以很方便的調節各磁齒輪內部磁極的數量來改變公自轉的轉動比，有利于成膜工藝的改變、進步及拓展。