[實用新型]一種靶材背面固定式平面靶和真空濺射鍍膜設備

有效

• 申請號: 202022854218.7
• 申請日: 2020-12-01
• 公開（公告）號: CN214300328U
• 公開（公告）日: 2021-09-28
• 發明（設計）人: 汪選林
• 申請（專利權）人: 深圳森豐真空鍍膜有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 北京盛凡智榮知識產權代理有限公司 11616
• 代理人: 鮑敬

本實用新型公開了一種靶材背面固定式平面靶，包括：靶材、靶體、軛鐵、磁鐵、壓板、絕緣套和屏蔽罩；靶體內部限定有容納腔，容納腔具有插入口，軛鐵上設有磁鐵，軛鐵通過插入口插入安裝到容納腔內，軛鐵上設有第一水流通道，軛鐵的外側壁、磁鐵與容納腔的內側壁限定出第二水流通道，第一水流通道與第二水流通道連通；靶材設于靶體的前側面，壓板的前后兩端分別形成第一彎折部和第二彎折部，第一彎折部勾設在靶材上，第二彎折部與靶體相連，屏蔽罩罩設在靶體和壓板外。在這種結構形式下，第一彎折部不需要做的很大，只需能勾住靶材即可，因此相同靶體寬度下，靶材可以做的較寬，而且屏蔽罩能保護非靶材材質濺射到貨品上，提高鍍膜品質。

技術領域

本實用新型涉及真空濺射鍍膜領域，尤其是涉及一種靶材背面固定式平面靶和真空濺射鍍膜設備。

背景技術

如圖1-圖3是現有技術中平面靶的第一種常見結構，這種結構為磁鐵和冷卻水直接接觸的直冷型結構，如圖4是現有技術中平面靶的第二種常見結構，這種結構為磁鐵與冷卻水之間通過其它金屬導熱的間冷型，這種冷卻方式的熱傳導慢，爐體溫度高，很容易消磁或磁力減弱，導致起輝不穩或起輝困難。

這兩種結構均為磁鐵從靶體后端裝入的后端軛鐵密封型結構，安裝不便，并且靶材的前端采用壓條和螺釘固定，這就導致在相同靶體寬度下，因兩側的壓條和螺孔占位，靶材的寬度會相應減小，而且靶體的左右兩側需要設置相應的螺孔，進而導致靶體的內腔寬度小，使得磁鐵間隔及位置也會受限。

如圖2所示，間隔過小會導致靶材可濺射范圍減少，靶材利用率低，如圖3所示，間隔過小會導致磁道強度波型峰形高，局部濺射快而其它地方沒被濺射，靶材利用率低，報廢快；此外，這兩種結構中的屏蔽罩沒有屏蔽到壓條和螺釘，壓條和螺釘頭部會被磁場濺射得發光，真空爐里混合著不需要的不銹鋼成分材質，對產品品質產生較大的影響，因此這兩種結構都存在改進之處。

實用新型內容

本實用新型旨在至少解決現有技術中存在的技術問題之一。為此，本實用新型的第一個目的在于提供一種靶材背面固定式平面靶。

本實用新型的第二個目的在于提供一種包括上述平面靶的真空濺射鍍膜設備。

本實用新型的技術方案如下：一種靶材背面固定式平面靶，包括：靶材、靶體、軛鐵、磁鐵、壓板、絕緣套和屏蔽罩；所述靶體內部限定有容納腔，所述容納腔的一側敞開形成插入口，所述軛鐵的前側面固定安裝有磁鐵，所述軛鐵通過所述插入口插入安裝到所述容納腔內，所述軛鐵上設有第一水流通道，所述軛鐵的外側壁、所述磁鐵與所述容納腔的內側壁限定出第二水流通道，所述第一水流通道與所述第二水流通道連通；所述靶體的前側面為平面，所述靶材為平面靶材，所述靶材設于所述靶體的前側面，所述壓板位于所述靶體外部，所述壓板的前后兩端分別朝向靠近所述靶體的方向折彎以形成第一彎折部和第二彎折部，所述第一彎折部勾設在所述靶材上以將所述靶體緊壓在所述第一安裝平面上，所述第二彎折部與所述靶體相連；所述靶體的后表面安裝有所述絕緣套，所述屏蔽罩罩設在所述靶體和所述壓板外，所述屏蔽罩與所述絕緣套抵接，所述屏蔽罩的前側設有缺口，所述缺口與所述靶材正對。

進一步地，所述磁鐵與所述容納腔的前側壁抵接，所述磁鐵為多個，多個所述磁鐵間隔排布，任意相鄰的兩個所述磁鐵的磁極相反。

進一步地，所述靶材與所述靶體之間設有石墨層。

進一步地，所述靶材的左右兩側分別設有所述壓板。

進一步地，所述靶體的后表面的一部分向前凹陷形成避讓槽，所述避讓槽貫穿至所述靶體的靠近所述壓板的一側表面，所述第二彎折部設于所述避讓槽內；所述第二彎折部上設有螺紋孔，所述避讓槽的前槽面設有定位孔，螺栓與螺紋孔螺紋配合并伸入所述定位孔內與所述靶體止抵。

進一步地，所述屏蔽罩由左右兩個子罩體對半拼接形成，所述絕緣套有兩個，兩個所述絕緣套沿左右方向間隔排布，兩個所述子罩體與兩個所述絕緣套一一對應抵接。