[實用新型]一種靶材背面固定式平面靶和真空濺射鍍膜設備

有效

• 申請號: 202022854218.7
• 申請日: 2020-12-01
• 公開（公告）號: CN214300328U
• 公開（公告）日: 2021-09-28
• 發明（設計）人: 汪選林
• 申請（專利權）人: 深圳森豐真空鍍膜有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 北京盛凡智榮知識產權代理有限公司 11616
• 代理人: 鮑敬

1.一種靶材背面固定式平面靶，其特征在于，包括：靶材、靶體、軛鐵、磁鐵、壓板、絕緣套和屏蔽罩；

所述靶體內部限定有容納腔，所述容納腔的一側敞開形成插入口，所述軛鐵的前側面固定安裝有磁鐵，所述軛鐵通過所述插入口插入安裝到所述容納腔內，所述軛鐵上設有第一水流通道，所述軛鐵的外側壁、所述磁鐵與所述容納腔的內側壁限定出第二水流通道，所述第一水流通道與所述第二水流通道連通；

所述靶體的前側面為平面，所述靶材為平面靶材，所述靶材設于所述靶體的前側面，所述壓板位于所述靶體外部，所述壓板的前后兩端分別朝向靠近所述靶體的方向折彎以形成第一彎折部和第二彎折部，所述第一彎折部勾設在所述靶材上以將所述靶體緊壓在第一安裝平面上，所述第二彎折部與所述靶體相連；

所述靶體的后表面安裝有所述絕緣套，所述屏蔽罩罩設在所述靶體和所述壓板外，所述屏蔽罩與所述絕緣套抵接，所述屏蔽罩的前側設有缺口，所述缺口與所述靶材正對。

2.根據權利要求1所述的靶材背面固定式平面靶，其特征在于，所述磁鐵與所述容納腔的前側壁抵接，所述磁鐵為多個，多個所述磁鐵間隔排布，任意相鄰的兩個所述磁鐵的磁極相反。

3.根據權利要求1所述的靶材背面固定式平面靶，其特征在于，所述靶材與所述靶體之間設有石墨層。

4.根據權利要求1所述的靶材背面固定式平面靶，其特征在于，所述靶材的左右兩側分別設有所述壓板。

5.根據權利要求1所述的靶材背面固定式平面靶，其特征在于，所述靶體的后表面的一部分向前凹陷形成避讓槽，所述避讓槽貫穿至所述靶體的靠近所述壓板的一側表面，所述第二彎折部設于所述避讓槽內；

所述第二彎折部上設有螺紋孔，所述避讓槽的前槽面設有定位孔，螺栓與螺紋孔螺紋配合并伸入所述定位孔內與所述靶體止抵。

6.根據權利要求1所述的靶材背面固定式平面靶，其特征在于，所述屏蔽罩由左右兩個子罩體對半拼接形成，所述絕緣套有兩個，兩個所述絕緣套沿左右方向間隔排布，兩個所述子罩體與兩個所述絕緣套一一對應抵接。

7.根據權利要求6所述的靶材背面固定式平面靶，其特征在于，所述子罩體包括第一板體、第二板體和第三板體，所述第一板體設于所述第二板體的前端，所述第三板體設于所述第二板體的后端；

兩個所述子罩體的第一板體在左右方向上間隔開以限定出所述缺口，兩個所述子罩體的第三板體分別與對應的所述絕緣套抵接，且兩個所述第三板體之間留有縫隙。

8.一種真空濺射鍍膜設備，其特征在于，包括：爐體、驅動機構和根據權利要求1-7任一項所述的平面靶，所述平面靶設于所述爐體內，所述驅動機構與所述平面靶的靶體相連以驅動所述靶體轉動。