[實用新型]一種利用磁力密封的浮動式渦旋裝置

有效

• 申請號: 202022791211.5
• 申請日: 2020-11-26
• 公開（公告）號: CN214660824U
• 公開（公告）日: 2021-11-09
• 發明（設計）人: 倪詩茂;蔡康闐;蔡炯炯
• 申請（專利權）人: 思科渦旋科技（杭州）有限公司
• 主分類號: F04C18/02
• 分類號: F04C18/02;F01C1/02;F01C21/00;F04C29/00
• 代理公司: 北京中濟緯天專利代理有限公司 11429
• 代理人: 陳月紅

本實用新型提供一種利用磁力密封的浮動式渦旋裝置，包括動渦卷、定渦卷和偏心軸，動渦卷包括動渦卷元件和動渦卷端板；定渦卷包括定渦卷元件和定渦卷端板，動渦卷元件和渦卷元件呈螺旋狀或漸開線型；所述動渦卷元件頂部與定渦卷端板底部抵接，定渦卷元件頂部與動渦卷端板底部抵接；所述動渦卷端板和定渦卷端板上設置有用于保證動渦卷和定渦卷頂底面軸向接觸密封的磁性裝置。本實用新型渦旋膨脹機或壓縮機動、定渦卷之間的用磁力保證動、定渦卷接觸密封，不會造成渦旋膨脹機或壓縮機渦卷頂、底面之間的徑向泄漏，提高渦旋膨脹機或壓縮機工作效率。本實用新型磁吸力相較于彈簧彈力為非接觸式約束力，不存在摩擦，減少或避免摩擦生熱，摩擦損耗。

技術領域

本實用新型屬于容積式流體位移裝置領域，具體涉及一種利用磁力密封的浮動式渦旋裝置，應用于膨脹機和壓縮機等。

背景技術

浮動式渦旋膨脹機或壓縮機為了防止動、定渦卷的頂、底面徑向泄露，要求動、定渦卷型線相應的頂、底面在軸向要緊密貼合，達到頂底面之間的接觸密封。否則會導致壓縮氣腔產生泄露，影響膨脹機或壓縮機的工作效率。

目前已有的方案是浮動式渦旋膨脹機或壓縮機動渦卷背面有背壓室。背壓室中加彈簧或/和引入氣體壓力。通過彈簧彈力或氣體壓力作用在動渦卷上，克服作用在動渦卷頂、底面上的氣體軸向分離力，從而實現膨脹機或壓縮機動、定渦卷軸向之間的接觸密封。

背壓室的氣體壓力和彈簧力，作用在背壓室密封活塞上。密封活塞的推力面與基座承受推力的推力軸承之間會產生摩擦，摩擦產生的熱量會降低浮動式渦旋膨脹機或壓縮機的工作效率。

因此，需要對現有技術進行改進。

實用新型內容

本實用新型要解決的技術問題是提供一種降低乃至取消背壓室活塞與基座推力軸承之間的摩擦力的一種利用磁力密封的浮動式渦旋裝置。

為解決上述技術問題，本實用新型提供一種利用磁力密封的浮動式渦旋裝置。為簡潔起見這里主要描述本實用新型在浮動式渦卷膨脹機的詳細結構。其原理與結構應用于壓縮機是一樣的。本實用新型包括動渦卷、定渦卷和偏心軸，動渦卷包括動渦卷元件和動渦卷端板；定渦卷包括定渦卷元件和定渦卷端板，動渦卷元件和渦卷元件呈螺旋狀或漸開線型；所述動渦卷元件頂部與定渦卷端板底部抵接，定渦卷元件頂部與動渦卷端板底部抵接(或簡稱為動、定渦卷的頂、底面的接觸)；所述動渦卷由所述偏心軸驅動，所述偏心軸帶動動渦卷元件圍繞定渦卷元件做圓形平動；(或叫繞動)；所述動渦卷元件和定渦卷元件之間接觸和分離的部分，以及動渦卷端板和定渦卷端板之間，共同形成至少一個密封氣室；

所述動渦卷端板和定渦卷端板上設置有用于保證動渦卷和定渦卷頂底面軸向接觸密封的磁性裝置；

所述磁性裝置包括永磁體磁足、永磁體磁足基座和鋼環；

所述定渦卷端板和動渦卷端板兩者，其中之一者開設有環形凹槽，凹槽中固定安裝有永磁體磁足基座，永磁體磁足均勻或不均勻地分布在永磁體磁足基座上；另一者安裝有鋼環；

所述鋼環與永磁體磁足及永磁體磁足基座配合使用，永磁體磁足及永磁體磁足基座與鋼環之間有間隙；所述永磁體磁足及永磁體磁足基座與鋼環之間的間隙保證兩者之間的磁吸力在有或者沒有其他機械力的輔助下大于或等于動、定渦卷在工作時的軸向分離力。

作為對本實用新型一種利用磁力密封的浮動式渦旋裝置的改進：

所述永磁體磁足基座環繞設置在定渦卷元件外側；

所述鋼環環繞設置在動渦卷元件外側。

作為對本實用新型一種利用磁力密封的浮動式渦旋裝置的改進：

所述鋼環的徑向厚度與永磁體磁足及永磁體磁足基座的總徑向厚度具有一定的尺寸差異；