[實(shí)用新型]一種利用磁力密封的浮動式渦旋裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202022791211.5
• 申請日: 2020-11-26
• 公開（公告）號: CN214660824U
• 公開（公告）日: 2021-11-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 倪詩茂;蔡康闐;蔡炯炯
• 申請（專利權(quán)）人: 思科渦旋科技（杭州）有限公司
• 主分類號: F04C18/02
• 分類號: F04C18/02;F01C1/02;F01C21/00;F04C29/00
• 代理公司: 北京中濟(jì)緯天專利代理有限公司 11429
• 代理人: 陳月紅

1.一種利用磁力密封的浮動式渦旋裝置，包括動渦卷、定渦卷和偏心軸，動渦卷包括動渦卷元件和動渦卷端板；定渦卷包括定渦卷元件和定渦卷端板，動渦卷元件和定渦卷元件呈螺旋狀或漸開線型；所述動渦卷元件頂部與定渦卷端板底部抵接，定渦卷元件頂部與動渦卷端板底部抵接；所述動渦卷由所述偏心軸驅(qū)動，所述偏心軸帶動動渦卷元件圍繞定渦卷元件做圓形平動；所述動渦卷元件和定渦卷元件之間接觸和分離的部分，以及動渦卷端板和定渦卷端板之間，共同形成至少一個密封氣室；其特征在于：

所述動渦卷端板和定渦卷端板上設(shè)置有用于保證動渦卷和定渦卷頂?shù)酌孑S向接觸密封的磁性裝置；

所述磁性裝置包括永磁體磁足、永磁體磁足基座和鋼環(huán)；

所述定渦卷端板和動渦卷端板兩者，其中之一者開設(shè)有環(huán)形凹槽，凹槽中固定安裝有永磁體磁足基座，永磁體磁足均勻或不均勻地分布在永磁體磁足基座上；另一者安裝有鋼環(huán)；

所述鋼環(huán)與永磁體磁足及永磁體磁足基座配合使用，永磁體磁足及永磁體磁足基座與鋼環(huán)之間有間隙。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用磁力密封的浮動式渦旋裝置，其特征在于：

所述永磁體磁足基座環(huán)繞設(shè)置在定渦卷元件外側(cè)；

所述鋼環(huán)環(huán)繞設(shè)置在動渦卷元件外側(cè)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種利用磁力密封的浮動式渦旋裝置，其特征在于：

所述鋼環(huán)的徑向厚度與永磁體磁足及永磁體磁足基座的總徑向厚度具有尺寸差異；

所述鋼環(huán)徑向厚度大于永磁體磁足及永磁體磁足基座的總徑向厚度，在動渦卷做繞動過程，永磁體磁足及永磁體磁足基座一直位于鋼環(huán)的徑向厚度面積內(nèi)；或者反之，鋼環(huán)徑向厚度小于永磁體磁足及永磁體磁足基座的總徑向厚度，在動渦卷做繞動過程，鋼環(huán)一直位于永磁體磁足及永磁體磁足基座的總徑向厚度面積內(nèi)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種利用磁力密封的浮動式渦旋裝置，其特征在于：

所述鋼環(huán)采用能被磁體吸住的鋼材質(zhì)制備；

所述鋼環(huán)的軸向長度小于動渦卷元件的軸向長度。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種利用磁力密封的浮動式渦旋裝置，其特征在于：

所述永磁體磁足數(shù)量、磁力大小視動、定渦卷間氣體膨脹產(chǎn)生的分離力大小而定，永磁體磁足與鋼環(huán)之間的磁吸力略大于膨脹機(jī)工作時介質(zhì)膨脹產(chǎn)生的分離力。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種利用磁力密封的浮動式渦旋裝置，其特征在于：

所述基座上開軸孔并在軸孔中安裝軸承，偏心軸通過軸承安裝在基座上；渦旋膨脹機(jī)的馬達(dá)一端視為前端，渦旋機(jī)構(gòu)一段視為后端；偏心軸的前端部分設(shè)有前平衡塊，偏心軸的后端部分設(shè)有后平衡塊。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種利用磁力密封的浮動式渦旋裝置，其特征在于：

所述定渦卷端板上開設(shè)有與密封氣室連通的進(jìn)氣孔和排氣孔；

在作為膨脹氣體的應(yīng)用時，進(jìn)氣孔連通密封氣室的中心位置視為進(jìn)氣室，排氣孔連通密封氣室的邊緣位置視為排氣室；在作為壓縮氣體的應(yīng)用時，排氣孔連通密封氣室的中心位置是排氣室，進(jìn)氣孔連通密封氣室的邊緣位置視為進(jìn)氣室。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種利用磁力密封的浮動式渦旋裝置，其特征在于：

所述間隙為0.01mm到0.30mm。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種利用磁力密封的浮動式渦旋裝置，其特征在于：

還包括間隙可調(diào)裝置，間隙可調(diào)裝置安裝在動渦卷和/或定渦卷上。