[實用新型]氣相沉積用硅片載具及硅片載板有效
| 申請號: | 202022780211.5 | 申請日: | 2020-11-25 |
| 公開(公告)號: | CN213977871U | 公開(公告)日: | 2021-08-17 |
| 發明(設計)人: | 楊與勝;倪鵬玉;張建德;劉義軍 | 申請(專利權)人: | 福建金石能源有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/458 | 分類號: | C23C16/458;C23C16/50;H01L21/673;H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京中濟緯天專利代理有限公司 11429 | 代理人: | 張磊 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 沉積 硅片 | ||
本實用新型涉及一種氣相沉積用硅片載具,它包括用于水平承托硅片的子載板;所述子載板上設有容置硅片的第一凹槽,所述第一凹槽的底面由外向內逐漸向下傾斜,第一凹槽的最大周邊大于硅片的周邊,第一凹槽底面與水平放置其中的硅片的外邊緣呈線狀貼合;所述第一凹槽內設有第二凹槽,所述第二凹槽的底面設有用于頂撐硅片的凸臺,所述凸臺可相對第二凹槽底面進行升降調節。本實用新型的目的在于提供一種氣相沉積用硅片載具,兼容多種規格電池片生產,減少子載板的規格,降低工裝治具成本。
技術領域
本實用新型涉及一種氣相沉積用硅片載具及硅片載板。
背景技術
PECVD連續等離子體化學氣相沉積(PECVD)鍍膜設備,其鍍膜方式已是高效異質結太陽能電池鍍膜設備應用的主要技術;在PECVD鍍膜的工藝過程中,PECVD載板是PECVD設備關鍵性的工裝治具。PECVD載板如能良好設計,能夠較好的減少邊緣繞鍍,減少破片、崩邊、卡板等,提高電池片生產良率。
發明內容
本實用新型的目的在于提供一種氣相沉積用硅片載具,兼容多種規格電池片生產,減少子載板的規格,降低工裝治具成本。
本實用新型的目的在于提供一種氣相沉積用硅片載板,提高載板傳送的平穩度,能有效解決載板在傳送機構之間過渡時的抖動,減少破片、崩邊概率。
本實用新型的目的通過如下技術方案實現:
一種氣相沉積用硅片載具,它包括用于水平承托硅片的子載板;所述子載板上設有容置硅片的第一凹槽,所述第一凹槽的底面由外向內逐漸向下傾斜,第一凹槽的最大周邊大于硅片的周邊,第一凹槽底面與水平放置其中的硅片的外邊緣呈線狀貼合;所述第一凹槽內設有第二凹槽,所述第二凹槽的底面設有用于頂撐硅片的凸臺,所述凸臺可相對第二凹槽底面進行升降調節。
一種氣相沉積用硅片載板,它包括載板框以及設于載板框內且呈陣列排布的多個子載板;所述載板框包括與硅片傳輸方向平行的一對橫向框條,所述橫向框條端部下側設有平滑的導角。
較之現有技術而言,本實用新型的優點在于:
(1)通過斜坡設計,使一個子載板可兼容多種規格電池片的生產,減少子載板的規格,降低工裝治具成本。
(2)通過邊緣搭接設計,硅片周邊與子載板呈線性接觸,減少硅片與子載板的摩擦劃傷,提高硅片電池轉換效率。
(3)利用高度可調的凸臺,可兼顧不同規格電池片的支撐高度,支撐硅片,提高硅片的平整,解決因硅片重力作用變形不平而引起的邊緣繞鍍及色差等問題,提升電池片的暗電流良率。
(4)凸臺頂面為光滑球面,可最大限度的減少與硅片的接觸面積,減少硅片與其他部件的摩擦劃傷。
(5)鈦合金材質的子載板,其線膨脹系數小,減少加熱產生的變形。
(6)第二凹槽底面的鏤空孔,可以在下料吸盤提取硅片時,起到破空作用,使硅片與子載板容易分離。
(7)利用橫向框條端部下側的平滑導角,使載板與傳送機構平順接觸,提高載板傳送的平穩度,能有效解決載板在傳送機構之間過渡時的抖動,減少破片、崩邊概率。
附圖說明
圖1是本實用新型氣相沉積用硅片載板的一種實施例的結構簡圖。
圖2是圖1的剖視圖。
圖3是本實用新型氣相沉積用硅片載具的一種實施例的結構簡圖。
圖4是所示氣相沉積用硅片載具豎向剖視簡圖。
圖5是圖4的放置硅片狀態的局部放大圖。
圖6是圖4的凸臺結構局部放大視圖。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





