[實用新型]氣相沉積用硅片載具及硅片載板有效
| 申請號: | 202022780211.5 | 申請日: | 2020-11-25 |
| 公開(公告)號: | CN213977871U | 公開(公告)日: | 2021-08-17 |
| 發明(設計)人: | 楊與勝;倪鵬玉;張建德;劉義軍 | 申請(專利權)人: | 福建金石能源有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/458 | 分類號: | C23C16/458;C23C16/50;H01L21/673;H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京中濟緯天專利代理有限公司 11429 | 代理人: | 張磊 |
| 地址: | 362200 福建省泉州市*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 沉積 硅片 | ||
1.一種氣相沉積用硅片載具,其特征在于:它包括用于水平承托硅片的子載板;所述子載板上設有容置硅片的第一凹槽,所述第一凹槽的底面由外向內逐漸向下傾斜,第一凹槽的最大周邊大于硅片的周邊,第一凹槽底面與水平放置其中的硅片的外邊緣呈線狀貼合;所述第一凹槽內設有第二凹槽,所述第二凹槽的底面設有用于頂撐硅片的凸臺,所述凸臺可相對第二凹槽底面進行升降調節。
2.根據權利要求1所述的氣相沉積用硅片載具,其特征在于:所述子載板主體由鈦合金制成。
3.根據權利要求1所述的氣相沉積用硅片載具,其特征在于:所述凸臺為與第二凹槽底面螺紋配合的螺釘。
4.根據權利要求3所述的氣相沉積用硅片載具,其特征在于:所述螺釘的螺頭頂面為光滑球面。
5.根據權利要求1所述的氣相沉積用硅片載具,其特征在于:所述凸臺位于第一凹槽的中心點上。
6.根據權利要求1-5任意一項所述的氣相沉積用硅片載具,其特征在于:所述第二凹槽底面設有一個以上鏤空孔。
7.一種帶有權利要求1-6所述的氣相沉積用硅片載具的硅片載板,其特征在于:它包括載板框以及設于載板框內且呈陣列排布的多個子載板;所述載板框包括與硅片傳輸方向平行的一對橫向框條,所述橫向框條端部下側設有平滑的導角。
8.根據權利要求7所述的氣相沉積用硅片載板,其特征在于:所述載板框包括與硅片傳輸方向垂直的一對縱向框條,所述縱向框條鎖緊固定于橫向框條的對應端部上。
9.根據權利要求8所述的氣相沉積用硅片載板,其特征在于:所述橫向框條由鋁合金制成,所述縱向框條由不銹鋼制成。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





