[實用新型]一種用于MAX相二維材料的蝕刻裝置有效
| 申請號: | 202022769556.0 | 申請日: | 2020-11-25 |
| 公開(公告)號: | CN213583711U | 公開(公告)日: | 2021-06-29 |
| 發明(設計)人: | 董金勇;高燕凌;董峰 | 申請(專利權)人: | 中銘瓷(蘇州)納米粉體技術有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 蘇州市中南偉業知識產權代理事務所(普通合伙) 32257 | 代理人: | 朱振德 |
| 地址: | 215000 江蘇省蘇州市工業園區金*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 max 二維 材料 蝕刻 裝置 | ||
1.一種用于MAX相二維材料的蝕刻裝置,其特征在于:包括裝置箱體(1),所述裝置箱體(1)內部固定設置有蝕刻池(2),所述裝置箱體(1)一側固定設置有支架筒(3),所述支架筒(3)內部套設有升降桿(4),所述升降桿(4)頂端固定設置有密封升降臺(5),所述密封升降臺(5)中部固定設置有固定安裝槽(6),所述裝置箱體(1)頂部固定設置有蝕刻放置口(7),所述固定安裝槽(6)與蝕刻放置口(7)豎直對應設置;
所述固定安裝槽(6)內部固定兩側均固定設置有支架桿(8),兩個支架桿(8)底部之前設置有活動臺(9),所述固定安裝槽(6)底部固定設置有固定支架臺(10),所述定支架臺(10)內部均勻固定設置有夾緊墊板(11),所述活動臺(9)底端面均勻固定設置有活動夾板(12),所述夾緊墊板(11)與活動夾板(12)對應夾緊設置,所述活動臺(9)頂端面固定設置有活動塊(13),所述活動塊(13)與支架桿(8)活動連接,所述固定安裝槽(6)頂部固定設置有調節螺桿(14),所述活動塊(13)頂部固定設置有螺紋塊(15),所訴螺紋塊(15)與調節螺桿(14)螺紋連接。
2.根據權利要求1所述的一種用于MAX相二維材料的蝕刻裝置,其特征在于:所述蝕刻池(2)由耐腐蝕材料制成,所述蝕刻池(2)底部固定設置有蝕刻液出口。
3.根據權利要求1所述的一種用于MAX相二維材料的蝕刻裝置,其特征在于:所述支架筒(3)數量設置為兩個,所述支架筒(3)設置于裝置箱體(1)內部,所述支架筒(3)頂端貫穿裝置箱體(1)頂部,所述裝置箱體(1)外部一側固定設置有升降油缸(16),所述升降油缸(16)輸出端與密封升降臺(5)固定連接。
4.根據權利要求1所述的一種用于MAX相二維材料的蝕刻裝置,其特征在于:所述夾緊墊板(11)和活動夾板(12)相對的一側均固定設置有夾緊墊(17),所述夾緊墊(17)由橡膠材料制成。
5.根據權利要求1所述的一種用于MAX相二維材料的蝕刻裝置,其特征在于:所述調節螺桿(14)一端固定設置有驅動電機(18),所述驅動電機(18)輸出端與調節螺桿(14)固定連接。
6.根據權利要求1所述的一種用于MAX相二維材料的蝕刻裝置,其特征在于:所述裝置箱體(1)頂部固定設置有工作支架臺(19),所述工作支架臺(19)一端延伸出裝置箱體(1),所述工作支架臺(19)頂部活動設置有活動工作臺(20)。
7.根據權利要求6所述的一種用于MAX相二維材料的蝕刻裝置,其特征在于:所述工作支架臺(19)一側底部固定設置有活動滑桿(21),所述活動工作臺(20)底部一側固定設置有滑動塊(22),所述滑動塊(22)與活動滑桿(21)活動連接。
8.根據權利要求7所述的一種用于MAX相二維材料的蝕刻裝置,其特征在于:所述裝置箱體(1)底部與活動工作臺(20)底部之間設置有推動氣缸(23),所述推動氣缸(23)輸出端與滑動塊(22)鉸接設置,所述滑動塊(22)缸體端與裝置箱體(1)鉸接設置。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





