[實用新型]一種應用于高光修復的彈性拋光片

有效

• 申請號: 202022710113.4
• 申請日: 2020-11-20
• 公開（公告）號: CN213830641U
• 公開（公告）日: 2021-07-30
• 發明（設計）人: 汪福安
• 申請（專利權）人: 東莞市鴻昱精密電子科技有限公司
• 主分類號: B32B5/02
• 分類號: B32B5/02;B32B27/12;B32B27/30;B32B3/08;B32B33/00
• 代理公司: 深圳深瑞知識產權代理有限公司 44495
• 代理人: 穆瑞丹

本實用新型公開了一種應用于高光修復的彈性拋光片，包括拋光片采用三層結構，包括位于最上層的磨光布層、位于中間層的EVA緩沖層以及位于最下層的絨布層，磨光布層采用紡織布，磨光布層內含浸有納米磨料，EVA緩沖層具有彈性，本實用新型適用于拋光片，該拋光片采用三層薄片結構，最上層為磨光布層，其內含浸有納米磨料，使用該拋光片可以對材料的表面進行納米級的拋光，達到光潔的鏡面，而該拋光片的中間層采用EVA緩沖層，其具有優異的回彈性，從而當拋光片安裝于打磨頭上進行打磨時，可以和待拋光件形成良好的接觸效果，同時可以保證該拋光片的使用壽命。

技術領域

本實用新型屬于鏡片處理技術領域，具體是一種應用于高光修復的彈性拋光片。

背景技術

隨著人們對手機等電子產品外觀要求的提高，高光澤度鏡面的電子產品不斷的出現在大眾的視野中，實現高光澤鏡面的電子產品外觀，電子產品的加工要經過多道打磨和拋光工藝，而在目前的鏡面加工工藝中，約存在5-10％的劃傷不良，不良品的存在大大的增加了產品的制造成本；

將不良品轉化為良品，可以大大的節約產品制造成本，在以往的劃傷不良品重工處理中，往往選擇將不良品返回到上一工序進行重工從而再進行鏡面拋光，這種重工方式導致產品的加工速度變慢，而現有的拋光片結構簡單，拋光效果一般。

實用新型內容

本實用新型的目的在于克服現有技術的缺陷，提供一種應用于高光修復的彈性拋光片。

為實現上述目的，本實用新型采用了如下技術方案：

一種應用于高光修復的彈性拋光片，所述拋光片采用三層結構，包括位于最上層的磨光布層、位于中間層的EVA緩沖層以及位于最下層的絨布層，所述磨光布層采用紡織布，所述磨光布層內含浸有納米磨料，所述EVA緩沖層具有彈性。

優選的，所述磨光布層的硬度為32±6HC。

優選的，所述拋光片的厚度6±1mm，回彈性為50％。

本實用新型中，該拋光片采用三層薄片結構，最上層為磨光布層，其內含浸有納米磨料，使用該拋光片可以對材料的表面進行納米級的拋光，達到光潔的鏡面，而該拋光片的中間層采用EVA緩沖層，其具有優異的回彈性，從而當拋光片安裝于打磨頭上進行打磨時，可以和待拋光件形成良好的接觸效果，提升了拋光的速度、效率以及拋光的效果，同時可以保證該拋光片的使用壽命。

附圖說明

圖1是本實用新型的整體結構示意圖；

圖2是本實用新型的側視圖。

附圖標記：1、磨光布層；2、EVA緩沖層；3、絨布層。

具體實施方式

以下結合附圖1-2，進一步說明本實用新型一種應用于高光修復的彈性拋光片的具體實施方式。本實用新型一種應用于高光修復的彈性拋光片不限于以下實施例的描述。

本實用新型公開了一種應用于高光修復的彈性拋光片的具體結構，如圖1-2所示，包括拋光片采用三層結構，包括位于最上層的磨光布層1、位于中間層的EVA緩沖層2以及位于最下層的絨布層3，磨光布層1采用紡織布，磨光布層1內含浸有納米磨料，EVA緩沖層2具有彈性。

磨光布層1的硬度為32±6HC。

拋光片的厚度6±1mm，回彈性為50％。

通過采用上述技術方案：

該拋光片采用三層薄片結構，最上層為磨光布層1，其內含浸有納米磨料，使用該拋光片可以對材料的表面進行納米級的拋光，達到光潔的鏡面，而該拋光片的中間層采用EVA緩沖層2，其具有優異的回彈性，從而當拋光片安裝于打磨頭上進行打磨時，可以和待拋光件形成良好的接觸效果，同時可以保證該拋光片的使用壽命。