[實用新型]一種應用于高光修復的彈性拋光片有效
| 申請號： | 202022710113.4 | 申請日： | 2020-11-20 |
| 公開（公告）號： | CN213830641U | 公開（公告）日： | 2021-07-30 |
| 發明（設計）人： | 汪福安 | 申請（專利權）人： | 東莞市鴻昱精密電子科技有限公司 |
| 主分類號： | B32B5/02 | 分類號： | B32B5/02;B32B27/12;B32B27/30;B32B3/08;B32B33/00 |
| 代理公司： | 深圳深瑞知識產權代理有限公司 44495 | 代理人： | 穆瑞丹 |
| 地址： | 523000 廣東省東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 應用于 修復 彈性 拋光 | ||
【權利要求書】：
1.一種應用于高光修復的彈性拋光片，其特征在于，所述拋光片采用三層結構，包括位于最上層的磨光布層(1)、位于中間層的EVA緩沖層(2)以及位于最下層的絨布層(3)，所述磨光布層(1)采用紡織布，所述磨光布層(1)內含浸有納米磨料，所述EVA緩沖層(2)具有彈性。
2.如權利要求1所述的一種應用于高光修復的彈性拋光片，其特征在于：所述磨光布層(1)的硬度為32±6HC。
3.如權利要求1所述的一種應用于高光修復的彈性拋光片，其特征在于：所述拋光片的厚度6±1mm，回彈性為50％。
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