[實用新型]一種磁控濺射鍍膜設備

有效

• 申請號: 202022697308.X
• 申請日: 2020-11-19
• 公開（公告）號: CN213924997U
• 公開（公告）日: 2021-08-10
• 發明（設計）人: 王榮福
• 申請（專利權）人: 深圳市漢嵙新材料技術有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/56
• 代理公司: 深圳市博銳專利事務所 44275
• 代理人: 林棟

本實用新型公開了一種磁控濺射鍍膜設備，包括鍍膜室，所述鍍膜室內設有鍍膜輥和位于所述鍍膜輥下方的若干個磁控濺射靶，所述鍍膜室內還設有清潔機構，所述清潔機構包括毛刷輥、擦拭塊、清潔輥和滴液管，所述擦拭塊設置在鍍膜輥上方并與所述鍍膜輥接觸，所述擦拭塊的一側設有與所述鍍膜輥滾動接觸的所述毛刷輥，所述擦拭塊的另一側設有所述清潔輥，所述清潔輥上套設有硅膠粘層，所述清潔輥通過所述硅膠粘層與所述鍍膜輥滾動接觸，所述滴液管的一端抵靠所述擦拭塊以為所述擦拭塊補充酒精。本磁控濺射鍍膜設備具有能夠清潔鍍膜輥表面的清潔機構，能夠有效地提高鍍膜質量；可由現有的磁控濺射鍍膜設備改造獲得，推廣應用成本低。

技術領域

本實用新型涉及鍍膜設備技術領域，尤其涉及一種磁控濺射鍍膜設備。

背景技術

磁控濺射鍍膜設備是利用磁控濺射鍍膜技術(在真空環境下，利用等離子體放電產生的正離子，轟擊處于負電位的靶材，濺射出靶材原子)，通過卷對卷的生產方式，在柔性基材表面沉積金屬、合金、半導體、介質化合物等單層或多層納米材料。

磁控濺射鍍膜設備包括依次連通的放卷室、鍍膜室和收卷室，放卷室內設有放卷輥，鍍膜室內設有鍍膜輥和布置在鍍膜輥下方的若干個磁控濺射靶，收卷室內設有收卷輥。

磁控濺射沉積成膜過程中，要求柔性基材與鍍膜輥接觸良好，當鍍膜輥表面有顆粒物時，基材被顆粒支撐起，鍍膜輥難以帶走柔性基材的熱量，基材受熱變形，形成質量缺陷。通常鍍膜輥表面塵粒的來源有：柔性基材本身夾帶的顆粒；鍍膜輥本身沒有清理干凈；磁控濺射卷繞鍍膜在抽真空階段，由于氣流的沖擊，真空室內的灰塵飄落到鍍膜輥表面，對鍍膜的質量產生影響。所以鍍膜輥表面的清潔狀態直接影響著鍍膜的質量，同時，鍍膜輥表面的溫度也會影響鍍膜的質量。

實用新型內容

本實用新型所要解決的技術問題是：提供一種鍍膜質量好的磁控濺射鍍膜設備。

為了解決上述技術問題，本實用新型采用的技術方案為：一種磁控濺射鍍膜設備，包括鍍膜室，所述鍍膜室內設有鍍膜輥和位于所述鍍膜輥下方的若干個磁控濺射靶，所述鍍膜室內還設有清潔機構，所述清潔機構包括毛刷輥、擦拭塊、清潔輥和滴液管，所述擦拭塊設置在鍍膜輥上方并與所述鍍膜輥接觸，所述擦拭塊的一側設有與所述鍍膜輥滾動接觸的所述毛刷輥，所述擦拭塊的另一側設有所述清潔輥，所述清潔輥上套設有硅膠粘層，所述清潔輥通過所述硅膠粘層與所述鍍膜輥滾動接觸，所述滴液管的一端抵靠所述擦拭塊以為所述擦拭塊補充酒精。

進一步的，所述清潔機構還包括膠紙卷輥，所述膠紙卷輥設于所述清潔輥上方并與所述清潔輥滾動接觸，所述膠紙卷輥上套設有粘塵紙卷。

進一步的，所述毛刷輥上設置有多條毛刷，所述毛刷輥通過所述毛刷接觸所述鍍膜輥。

進一步的，還包括用于驅動所述毛刷輥轉動的驅動電機，所述毛刷輥的轉動方向與所述鍍膜輥的轉動方向相同。

進一步的，還包括設于所述鍍膜室內的防護罩，所述清潔機構安裝于所述防護罩內。

進一步的，所述防護罩內設有真空吸嘴。

進一步的，所述鍍膜室內還設有第一導輥。

進一步的，還包括放卷室和收卷室，所述放卷室與所述鍍膜室通過第一狹縫連通，所述收卷室與所述鍍膜室通過第二狹縫連通。

進一步的，所述放卷室內設有放卷輥，所述收卷室內設有收卷輥。

進一步的，所述放卷室內和所述收卷室內分別設有第二導輥。