[實用新型]一種磁控濺射鍍膜設備

有效

• 申請號: 202022697308.X
• 申請日: 2020-11-19
• 公開（公告）號: CN213924997U
• 公開（公告）日: 2021-08-10
• 發明（設計）人: 王榮福
• 申請（專利權）人: 深圳市漢嵙新材料技術有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/56
• 代理公司: 深圳市博銳專利事務所 44275
• 代理人: 林棟

1.一種磁控濺射鍍膜設備，包括鍍膜室，所述鍍膜室內設有鍍膜輥和位于所述鍍膜輥下方的若干個磁控濺射靶，其特征在于：所述鍍膜室內還設有清潔機構，所述清潔機構包括毛刷輥、擦拭塊、清潔輥和滴液管，所述擦拭塊設置在鍍膜輥上方并與所述鍍膜輥接觸，所述擦拭塊的一側設有與所述鍍膜輥滾動接觸的所述毛刷輥，所述擦拭塊的另一側設有所述清潔輥，所述清潔輥上套設有硅膠粘層，所述清潔輥通過所述硅膠粘層與所述鍍膜輥滾動接觸，所述滴液管的一端抵靠所述擦拭塊以為所述擦拭塊補充酒精。

2.根據權利要求1所述的磁控濺射鍍膜設備，其特征在于：所述清潔機構還包括膠紙卷輥，所述膠紙卷輥設于所述清潔輥上方并與所述清潔輥滾動接觸，所述膠紙卷輥上套設有粘塵紙卷。

3.根據權利要求1所述的磁控濺射鍍膜設備，其特征在于：所述毛刷輥上設置有多條毛刷，所述毛刷輥通過所述毛刷接觸所述鍍膜輥。

4.根據權利要求1所述的磁控濺射鍍膜設備，其特征在于：還包括用于驅動所述毛刷輥轉動的驅動電機，所述毛刷輥的轉動方向與所述鍍膜輥的轉動方向相同。

5.根據權利要求1所述的磁控濺射鍍膜設備，其特征在于：還包括設于所述鍍膜室內的防護罩，所述清潔機構安裝于所述防護罩內。

6.根據權利要求5所述的磁控濺射鍍膜設備，其特征在于：所述防護罩內設有真空吸嘴。

7.根據權利要求1所述的磁控濺射鍍膜設備，其特征在于：所述鍍膜室內還設有第一導輥。

8.根據權利要求1所述的磁控濺射鍍膜設備，其特征在于：還包括放卷室和收卷室，所述放卷室與所述鍍膜室通過第一狹縫連通，所述收卷室與所述鍍膜室通過第二狹縫連通。

9.根據權利要求8所述的磁控濺射鍍膜設備，其特征在于：所述放卷室內設有放卷輥，所述收卷室內設有收卷輥。

10.根據權利要求9所述的磁控濺射鍍膜設備，其特征在于：所述放卷室內和所述收卷室內分別設有第二導輥。