[實(shí)用新型]一種用于鍍鋁層高附著力薄膜的設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202022683287.6 | 申請(qǐng)日: | 2020-11-19 |
| 公開(公告)號(hào): | CN213866395U | 公開(公告)日: | 2021-08-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 唐卓燦;顏曉陽;李鋒杰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 廣東雄華新材料科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/24 | 分類號(hào): | C23C14/24;C23C14/14 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 515000 廣東省*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 鍍鋁 層高 附著力 薄膜 設(shè)備 | ||
本實(shí)用新型公開一種用于鍍鋁層高附著力薄膜的設(shè)備,具有真空室,真空室中包括有膜導(dǎo)向機(jī)構(gòu),蒸發(fā)器及擋板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),于蒸發(fā)器上方為左右對(duì)向設(shè)置的旋轉(zhuǎn)擋板,擋板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)通過轉(zhuǎn)軸驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)擋板旋轉(zhuǎn),所述膜導(dǎo)向機(jī)構(gòu)引導(dǎo)基材依次經(jīng)過等離子發(fā)射器、蒸發(fā)器,旋轉(zhuǎn)擋板內(nèi)部中空,旋轉(zhuǎn)擋板中空部分設(shè)置有若干縱橫交錯(cuò)呈網(wǎng)格狀的加強(qiáng)筋,還包括分別位于橫向布置的加強(qiáng)筋上下方的水管,所述旋轉(zhuǎn)擋板端部具有臺(tái)階位,兩左右對(duì)向設(shè)置的旋轉(zhuǎn)擋板的臺(tái)階位能夠相互契合銜接。本實(shí)用新型在鍍鋁前采用等離子處理,提高膜表面張力,結(jié)合雙面結(jié)構(gòu)化的旋轉(zhuǎn)擋板,在保證產(chǎn)品質(zhì)量的同時(shí),提高設(shè)備的穩(wěn)定性。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型屬于真空鍍鋁設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種用于鍍鋁層高附著力薄膜的設(shè)備。
背景技術(shù)
真空鍍鋁設(shè)備是在紙質(zhì)或塑料材質(zhì)薄膜上均勻鍍上一層鋁的設(shè)備。主要是在真空室內(nèi),借助蒸發(fā)器使蒸鍍材料蒸發(fā),被蒸發(fā)的材料在真空室內(nèi)自由運(yùn)動(dòng),當(dāng)蒸發(fā)材料接觸某個(gè)表面,例如被鍍薄膜卷材基材時(shí),就會(huì)冷卻形成鍍層。
真空鍍鋁薄膜是在真空狀態(tài)下將高純度的鋁線在蒸發(fā)器加熱氣化后附著在基材薄膜表面所制成的薄膜。真空鍍鋁薄膜具有氧氣、水蒸氣阻隔性能高、光澤度高、光阻隔等特點(diǎn)。由于現(xiàn)有技術(shù)所生產(chǎn)的鍍鋁薄膜鍍鋁層與基材薄膜之間只是簡(jiǎn)單的物理附著,因此鍍鋁層在基材薄膜表面的附著力較低只有1.5N/15mm以下,這樣會(huì)導(dǎo)致鍍鋁薄膜與其它薄膜進(jìn)行干式復(fù)合時(shí)鍍鋁層容易發(fā)生轉(zhuǎn)移,剝離強(qiáng)度低,從而導(dǎo)致包裝制袋后發(fā)生分層或封口強(qiáng)度差等不良;BOPET鍍鋁膜與卡紙濕式復(fù)合后,進(jìn)行各種類型的印刷后制成各種包裝彩盒,制盒過程常常由于鋁層附著力問題造成油墨、鋁層與薄膜分離脫墨等不良;給制袋、制盒的產(chǎn)品質(zhì)量造成嚴(yán)重影響和效益的下降。在蒸發(fā)器工作初期,蒸發(fā)材料尚未處于所要求穩(wěn)定蒸發(fā)狀態(tài),蒸發(fā)器溫度很高,離鍍鋁卷材比較近,此時(shí)軟繞系統(tǒng)尚未開啟工作,所以,必須用擋板隔離隔離鋁蒸發(fā)材料與鍍鋁薄膜。另外,在蒸鍍結(jié)束后,由于同樣的原因,也必須用擋板隔離隔離鋁蒸發(fā)材料與鍍鋁薄膜。在整個(gè)過程中,會(huì)存在如下這樣的問題:由于蒸發(fā)器溫度很高(最高大約1550℃),擋板位于蒸發(fā)器正上方,使得擋板會(huì)因熱變形,向下方拱起;而為保證蒸發(fā)材料不會(huì)過多的從蒸發(fā)器溢出,擋板與蒸發(fā)器上軌距離很近 (小于1cm);這樣導(dǎo)致在擋板的遮擋過程中,會(huì)有大量鋁蒸發(fā)材料附著在擋板下方,造成擋板在薄膜鍍鋁開始前需要移開時(shí),卡住,無法移開。但現(xiàn)有技術(shù)中的擋板無法解決上述的問題。
發(fā)明內(nèi)容
鑒于上述現(xiàn)有技術(shù)的不足,本實(shí)用新型的目的在于提供一種用于鍍鋁層高附著力薄膜的設(shè)備,利用等離子處理基材,提高膜表面張力,有利于提高鋁層在膜表面的附著力,保證設(shè)備穩(wěn)定及產(chǎn)品質(zhì)量。
為解決上述的技術(shù)問題,本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案是:
本實(shí)用新型為一種用于鍍鋁層高附著力薄膜的設(shè)備,具有真空室,真空室中包括有膜導(dǎo)向機(jī)構(gòu),蒸發(fā)器及擋板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),于蒸發(fā)器上方為左右對(duì)向設(shè)置的旋轉(zhuǎn)擋板,擋板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)通過轉(zhuǎn)軸驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)擋板旋轉(zhuǎn),所述膜導(dǎo)向機(jī)構(gòu)引導(dǎo)基材依次經(jīng)過等離子發(fā)射器、蒸發(fā)器,旋轉(zhuǎn)擋板內(nèi)部中空,旋轉(zhuǎn)擋板中空部分設(shè)置有若干縱橫交錯(cuò)呈網(wǎng)格狀的加強(qiáng)筋,還包括分別位于橫向布置的加強(qiáng)筋上下方的水管,所述旋轉(zhuǎn)擋板端部具有臺(tái)階位,兩左右對(duì)向設(shè)置的旋轉(zhuǎn)擋板的臺(tái)階位能夠相互契合銜接。
本實(shí)用新型的旋轉(zhuǎn)擋板厚度為8-10cm,旋轉(zhuǎn)擋板內(nèi)部中空且中空位置厚度為4-5cm。
本實(shí)用新型的水管直徑為16mm。
本實(shí)用新型的水管在若干縱向布置的加強(qiáng)筋中呈蛇形布置。
本實(shí)用新型的水管兩端部貫穿旋轉(zhuǎn)擋板的兩側(cè)分別為進(jìn)水頭與出水頭。
本實(shí)用新型的等離子發(fā)射器中采用的氣體介質(zhì)為氬氣和氧氣的混合氣體。
本實(shí)用新型的有益效果為:
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C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





