[實用新型]一種用于鍍鋁層高附著力薄膜的設備

有效

• 申請號: 202022683287.6
• 申請日: 2020-11-19
• 公開（公告）號: CN213866395U
• 公開（公告）日: 2021-08-03
• 發明（設計）人: 唐卓燦;顏曉陽;李鋒杰
• 申請（專利權）人: 廣東雄華新材料科技有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/14
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種用于鍍鋁層高附著力薄膜的設備，具有真空室（4），真空室（4）中包括有膜導向機構（5），蒸發器（1）及擋板驅動機構，于蒸發器（1）上方為左右對向設置的旋轉擋板（2），擋板驅動機構通過轉軸（8）驅動旋轉擋板（2）旋轉，其特征在于：所述膜導向機構（5）引導基材依次經過等離子發射器（6）、蒸發器（1），旋轉擋板（2）內部中空，旋轉擋板（2）中空部分設置有若干縱橫交錯呈網格狀的加強筋，還包括分別位于橫向布置的加強筋上下方的水管（3），所述旋轉擋板（2）端部具有臺階位（21），兩左右對向設置的旋轉擋板（2）的臺階位（21）能夠相互契合銜接。

2.根據權利要求1所述的一種用于鍍鋁層高附著力薄膜的設備，其特征在于：所述旋轉擋板（2）厚度為8-10cm，旋轉擋板（2）內部中空且中空位置厚度為4-5cm。

3.根據權利要求1所述的一種用于鍍鋁層高附著力薄膜的設備，其特征在于：所述水管（3）直徑為16mm。

4.根據權利要求1或2或3所述的一種用于鍍鋁層高附著力薄膜的設備，其特征在于：所述水管（3）在若干縱向布置的加強筋中呈蛇形布置。

5.根據權利要求4所述的一種用于鍍鋁層高附著力薄膜的設備，其特征在于：所述水管（3）兩端部貫穿旋轉擋板（2）的兩側分別為進水頭（31）與出水頭（32）。