[實用新型]一種粉末衍射法測定晶體結構加工用研磨機構有效
| 申請號: | 202022597150.9 | 申請日: | 2020-11-11 |
| 公開(公告)號: | CN214234176U | 公開(公告)日: | 2021-09-21 |
| 發明(設計)人: | 陳志龍 | 申請(專利權)人: | 營口市雙龍射孔器材有限公司 |
| 主分類號: | B02C2/10 | 分類號: | B02C2/10 |
| 代理公司: | 北京艾皮專利代理有限公司 11777 | 代理人: | 馬小輝 |
| 地址: | 115000 遼*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 粉末 衍射 測定 晶體結構 工用 研磨 機構 | ||
1.一種粉末衍射法測定晶體結構加工用研磨機構,包括固定底板(1),所述固定底板(1)的頂部通過支撐架(16)固定連接有研磨箱(2),其特征在于:所述研磨箱(2)的內腔固定連接有研磨座(3),所述研磨箱(2)內腔的頂部固定連接有電推桿(4),所述電推桿(4)的表面活動連接有電機固定架(5),所述電機固定架(5)的內腔開設有與電推桿(4)的表面滑動連接的滑動槽(6),所述電推桿(4)活塞桿的底端固定連接有與電機固定架(5)的表面相互抵觸的抵觸塊(7),所述電機固定架(5)的內腔固定連接有驅動電機(8),所述驅動電機(8)輸出軸的底端通過聯軸器固定連接有驅動軸(9),所述驅動軸(9)的底端貫穿電機固定架(5)的頂部并延伸質電機固定架(5)的下方,所述驅動軸(9)的底端固定連接有研磨塊(10)。
2.如權利要求1所述的粉末衍射法測定晶體結構加工用研磨機構,其特征在于:所述研磨塊(10)為上小下大的圓臺狀。
3.如權利要求1所述的粉末衍射法測定晶體結構加工用研磨機構,其特征在于:所述研磨座(3)的內徑從上到下逐漸變大,且內腔角度與研磨塊(10)的表面角度平行。
4.如權利要求1所述的粉末衍射法測定晶體結構加工用研磨機構,其特征在于:所述研磨箱(2)的頂部開設有進料口(11),所述研磨箱(2)的內腔開設有引流斜面(17)。
5.如權利要求1所述的粉末衍射法測定晶體結構加工用研磨機構,其特征在于:所述研磨箱(2)的內腔通過活動槽(12)活動連接有過濾板(13)。
6.如權利要求5所述的粉末衍射法測定晶體結構加工用研磨機構,其特征在于:所述過濾板(13)的一側貫穿研磨箱(2)的內腔并延伸至研磨箱(2)的表面,所述過濾板(13)的表面固定連接有拉手(14)。
7.如權利要求1所述的粉末衍射法測定晶體結構加工用研磨機構,其特征在于:所述固定底板(1)的頂部固定連接有接料箱(15)。
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