[實(shí)用新型]用于磁控濺射鍍膜機(jī)的隔斷裝置及磁控濺射鍍膜機(jī)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202022573150.5
• 申請(qǐng)日: 2020-11-10
• 公開（公告）號(hào): CN213507173U
• 公開（公告）日: 2021-06-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 唐蓮;金誠(chéng)明;祝海生;孫桂紅;黃樂;黃國(guó)興
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 湘潭宏大真空技術(shù)股份有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/35
• 分類號(hào): C23C14/35;C23C14/56
• 代理公司: 湖南喬熹知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 43262
• 代理人: 安曼

本實(shí)用新型公開一種用于磁控濺射鍍膜機(jī)的隔斷裝置及磁控濺射鍍膜機(jī)，用于磁控濺射鍍膜機(jī)的隔斷裝置包括隔斷本體，所述隔斷本體設(shè)置在所述磁控濺射鍍膜機(jī)的前處理室和鍍膜室之間并用于關(guān)閉密封或開啟，所述用于磁控濺射鍍膜機(jī)的隔斷裝置還包括驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)與所述隔斷本體連接，以驅(qū)動(dòng)所述隔斷本體進(jìn)行上下移動(dòng)。本實(shí)用新型提供的隔斷裝置能夠有效提升其兼容性。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及真空鍍膜配件領(lǐng)域，尤其涉及一種用于磁控濺射鍍膜機(jī)的隔斷裝置及磁控濺射鍍膜機(jī)。

背景技術(shù)

一般在連續(xù)式的真空鍍膜設(shè)備中，由于各個(gè)腔體的功能有所不同，其所需要的真空度亦有所差異，因此腔體與腔體之間需要架設(shè)插板閥，用于將腔體隔開，避免各腔體在作業(yè)時(shí)產(chǎn)生相互干擾的情形。由于鍍膜過程必須在真空環(huán)境下進(jìn)行，因此該插板閥的閥門板必須緊閉、密合，否則一旦有真空度不佳的現(xiàn)象發(fā)生，鍍膜過程勢(shì)必發(fā)生瑕疵而造成整批工件良品率不足的缺陷。而在現(xiàn)有的真空鍍膜設(shè)備中相鄰兩工室之間的連通處往往只適配一種插板閥，而在又多個(gè)不同高度或不同型號(hào)的工室之間往往需要多個(gè)不同型號(hào)的插板閥，導(dǎo)致需要配備多種不同的插板閥，從而會(huì)提高成本。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的主要目的是提供一種用于磁控濺射鍍膜機(jī)的隔斷裝置及磁控濺射鍍膜機(jī)，旨在解決現(xiàn)有的插板閥只適配一種應(yīng)用場(chǎng)景的問題。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提出的一種用于磁控濺射鍍膜機(jī)的隔斷裝置包括隔斷本體，所述隔斷本體設(shè)置在所述磁控濺射鍍膜機(jī)的前處理室和鍍膜室之間并用于關(guān)閉密封或開啟，所述用于磁控濺射鍍膜機(jī)的隔斷裝置還包括驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)與所述隔斷本體連接，以驅(qū)動(dòng)所述隔斷本體進(jìn)行上下移動(dòng)。

在一實(shí)施例中，所述隔斷本體包括閥體、閥門以及驅(qū)動(dòng)電機(jī)，所述閥體上開設(shè)有通孔，所述通孔將所述前處理室和所述鍍膜室連通，所述閥門設(shè)置在所述通孔處并與所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)連接，以使所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)驅(qū)動(dòng)所述閥門關(guān)閉或開啟所述通孔。

在一實(shí)施例中，所述隔斷本體還包括連接部，所述連接部設(shè)置在所述閥體的頂部并與所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)連接。

在一實(shí)施例中，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括兩個(gè)驅(qū)動(dòng)單元，兩個(gè)所述驅(qū)動(dòng)單元分設(shè)在所述閥體的兩側(cè)并均與所述閥體連接。

在一實(shí)施例中，所述驅(qū)動(dòng)單元包括驅(qū)動(dòng)本體以及輸出軸，所述輸出軸與所述連接部連接，所述驅(qū)動(dòng)本體與所述輸出軸連接以驅(qū)動(dòng)所述輸出軸沿其自身延伸方向延伸。

在一實(shí)施例中，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)還包括套裝在所述輸出軸外側(cè)并與所述輸出軸連接的保護(hù)殼，所述保護(hù)殼與所述連接部的側(cè)面連接。

在一實(shí)施例中，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)還包括連接板，所述連接板設(shè)置在所述驅(qū)動(dòng)本體與所述閥體之間，所述連接板的兩側(cè)分別和所述驅(qū)動(dòng)本體和所述閥體相面對(duì)的壁面連接。

在一實(shí)施例中，所述用于磁控濺射鍍膜機(jī)的隔斷裝置還包括多個(gè)連接筋條，所述連接筋條的一端連接在所述連接部上，所述連接筋條的另一端連接在所述閥體上。

另外，本實(shí)用新型還提供一種磁控濺射鍍膜機(jī)，所述磁控濺射鍍膜機(jī)包括至少一個(gè)前處理室、至少一個(gè)鍍膜室以及至少一個(gè)如上所述的用于磁控濺射鍍膜機(jī)的隔斷裝置，所述隔斷裝置設(shè)置在所述前處理室和所述鍍膜室之間。

本實(shí)用新型的技術(shù)方案中，通過將隔斷本體設(shè)置在磁控濺射鍍膜機(jī)的前處理室和鍍膜室之間，從而可以通過隔斷本體將前處理室和鍍膜室進(jìn)行隔斷密封或進(jìn)行開啟連通，另外，該隔斷裝置還包括與隔斷本體連接的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)能夠驅(qū)動(dòng)隔斷本體進(jìn)行上下移動(dòng)，從而使得隔斷本體的最頂端與地面的距離可以進(jìn)行調(diào)節(jié)，使得隔斷本體能夠適配不同的前處理室和鍍膜室的配合，因此能夠提高隔斷本體的兼容性，使得該隔斷裝置能夠用于多種不同高度或不同型號(hào)的工室之間。

附圖說明