[實(shí)用新型]用于磁控濺射鍍膜機(jī)的隔斷裝置及磁控濺射鍍膜機(jī)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202022573150.5
• 申請(qǐng)日: 2020-11-10
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN213507173U
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-06-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 唐蓮;金誠(chéng)明;祝海生;孫桂紅;黃樂(lè);黃國(guó)興
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 湘潭宏大真空技術(shù)股份有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/35
• 分類號(hào): C23C14/35;C23C14/56
• 代理公司: 湖南喬熹知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 43262
• 代理人: 安曼

1.一種用于磁控濺射鍍膜機(jī)的隔斷裝置，其特征在于，所述用于磁控濺射鍍膜機(jī)的隔斷裝置包括隔斷本體，所述隔斷本體設(shè)置在所述磁控濺射鍍膜機(jī)的前處理室和鍍膜室之間并用于關(guān)閉密封或開(kāi)啟，所述用于磁控濺射鍍膜機(jī)的隔斷裝置還包括驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)與所述隔斷本體連接，以驅(qū)動(dòng)所述隔斷本體進(jìn)行上下移動(dòng)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于磁控濺射鍍膜機(jī)的隔斷裝置，其特征在于，所述隔斷本體包括閥體、閥門以及驅(qū)動(dòng)電機(jī)，所述閥體上開(kāi)設(shè)有通孔，所述通孔將所述前處理室和所述鍍膜室連通，所述閥門設(shè)置在所述通孔處并與所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)連接，以使所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)驅(qū)動(dòng)所述閥門關(guān)閉或開(kāi)啟所述通孔。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于磁控濺射鍍膜機(jī)的隔斷裝置，其特征在于，所述隔斷本體還包括連接部，所述連接部設(shè)置在所述閥體的頂部并與所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)連接。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于磁控濺射鍍膜機(jī)的隔斷裝置，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括兩個(gè)驅(qū)動(dòng)單元，兩個(gè)所述驅(qū)動(dòng)單元分設(shè)在所述閥體的兩側(cè)并均與所述閥體連接。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于磁控濺射鍍膜機(jī)的隔斷裝置，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)單元包括驅(qū)動(dòng)本體以及輸出軸，所述輸出軸與所述連接部連接，所述驅(qū)動(dòng)本體與所述輸出軸連接以驅(qū)動(dòng)所述輸出軸沿其自身延伸方向延伸。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于磁控濺射鍍膜機(jī)的隔斷裝置，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)還包括套裝在所述輸出軸外側(cè)并與所述輸出軸連接的保護(hù)殼，所述保護(hù)殼與所述連接部的側(cè)面連接。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于磁控濺射鍍膜機(jī)的隔斷裝置，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)還包括連接板，所述連接板設(shè)置在所述驅(qū)動(dòng)本體與所述閥體之間，所述連接板的兩側(cè)分別和所述驅(qū)動(dòng)本體和所述閥體相面對(duì)的壁面連接。

8.根據(jù)權(quán)利要求3-7中任一項(xiàng)所述的用于磁控濺射鍍膜機(jī)的隔斷裝置，其特征在于，所述用于磁控濺射鍍膜機(jī)的隔斷裝置還包括多個(gè)連接筋條，所述連接筋條的一端連接在所述連接部上，所述連接筋條的另一端連接在所述閥體上。

9.一種磁控濺射鍍膜機(jī)，其特征在于，所述磁控濺射鍍膜機(jī)包括至少一個(gè)前處理室、至少一個(gè)鍍膜室以及至少一個(gè)如權(quán)利要求1-8中任一項(xiàng)所述的用于磁控濺射鍍膜機(jī)的隔斷裝置，所述隔斷裝置設(shè)置在所述前處理室和所述鍍膜室之間。