[實用新型]一種真空滅弧室結構

有效

• 申請號: 202022548825.0
• 申請日: 2020-11-06
• 公開（公告）號: CN213519732U
• 公開（公告）日: 2021-06-22
• 發明（設計）人: 畢冬麗;李春香
• 申請（專利權）人: 陜西寶光真空電器股份有限公司
• 主分類號: H01H33/662
• 分類號: H01H33/662;H01H33/664
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 胡彬

本實用新型涉及電氣設備，公開了一種真空滅弧室結構。真空滅弧室結構包括絕緣外殼、屏蔽筒、靜導電桿以及動導電桿，屏蔽筒的兩端分別連接于兩個絕緣外殼，絕緣外殼與屏蔽筒之間形成真空腔，靜導電桿和動導電桿穿設于真空腔并能夠相互抵接，以在真空腔內形成電場，本實用新型還包括第一屏蔽環組件和第二屏蔽環組件，第一屏蔽環組件設置于真空腔內并連接于一個絕緣外殼內壁，靜導電桿穿設于第一屏蔽環組件，第二屏蔽環組件設置于真空腔內并連接于另一個絕緣外殼內壁，動導電桿穿設于第二屏蔽環組件，第一屏蔽環組件和第二屏蔽環組件共同用于均衡真空腔內電場。

技術領域

本實用新型涉及電氣設備，尤其涉及一種真空滅弧室結構。

背景技術

電弧是由于電壓過高，電場強度較大，氣體發生電崩潰而持續形成等離子體，使得電流通過空氣所產生的瞬間火花現象。真空滅弧室，又叫做真空開關管，主要由瓷殼、屏蔽筒、導電回路、動觸頭以及靜觸頭組成，是中高壓電力開關的核心部件，其主要作用是，通過管內真空絕緣性使中高壓電路切斷電源后能迅速熄滅電弧，避免事故和意外的發生。

真空滅弧室中所用屏蔽筒采用無氧銅、不銹鋼、電工純鐵或者銅鉻合金等材料制成，減輕觸頭在燃弧過程中產生的金屬蒸汽和液滴噴濺對絕緣外殼內壁的污染。但是由于屏蔽筒所用材料的限制，會影響真空滅弧室中電場分布，不能使之均勻分布，進一步影響產品的絕緣水平，存在質量隱患。其次，現有的真空滅弧室結構為四節瓷殼全屏蔽結構。四節瓷殼全屏蔽結構的滅弧室，四節瓷節之間利用分節環連接，瓷殼要保證同軸度的要求，四節瓷殼無法完全對稱，裝配難度大，成本過高，屏蔽筒包裹在四節瓷殼的內部，導致真空滅弧室的直徑過大，而且使屏蔽筒的散熱性變差。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種真空滅弧室結構，結構簡單，均勻真空腔內部電場。

為達此目的，本實用新型采用以下技術方案：

一種真空滅弧室結構，包括絕緣外殼、屏蔽筒、靜導電桿以及動導電桿，所述屏蔽筒的兩端分別連接于兩個所述絕緣外殼，所述絕緣外殼與所述屏蔽筒之間形成真空腔，所述靜導電桿和所述動導電桿穿設于所述真空腔并能夠相互抵接，以在所述真空腔內形成電場，還包括：

第一屏蔽環組件，其設置于所述真空腔內并連接于一個所述絕緣外殼內壁，所述靜導電桿穿設于所述第一屏蔽環組件；

第二屏蔽環組件，其設置于所述真空腔內并連接于另一個所述絕緣外殼內壁，所述動導電桿穿設于所述第二屏蔽環組件；

所述第一屏蔽環組件和所述第二屏蔽環組件共同用于均衡所述真空腔內電場。

作為優選，所述第一屏蔽環組件和所述第二屏蔽環組件均包括多個平行且間隔設置的屏蔽環。

作為優選，所述絕緣外殼的內壁上設置環形凸起，位于所述絕緣外殼中部的所述屏蔽環上對應所述環形凸起設置有環形凹槽，所述環形凸起卡接于所述環形凹槽。

作為優選，所述環形凸起上設置有第一金屬化層，位于所述絕緣外殼中部的所述屏蔽環能夠通過所述第一金屬化層焊接于所述絕緣外殼內壁。

作為優選，在所述絕緣外殼兩端的內壁設置有第二金屬化層，位于所述絕緣外殼兩端的所述屏蔽環通過所述第二金屬化層焊接于所述絕緣外殼的內壁。

作為優選，在所述屏蔽環的端部沿其周向凸設有加強部，所述加強部向靠近所述屏蔽環軸線的方向延伸，所述加強部用于加強所述屏蔽環端部的電場。

作為優選，所述絕緣外殼上設置有外殼凸起，使所述絕緣外殼爬電距離增大，其中爬電距離是指所述動導電桿和所述靜導電桿周圍的所述絕緣外殼被電極化，使所述絕緣外殼呈現帶電現象的帶電區。

作為優選，所述屏蔽環沿所述絕緣外殼軸向方向的寬度可調。