[實用新型]石墨舟內硅片位置矯正裝置有效
| 申請號: | 202022462964.1 | 申請日: | 2020-10-30 |
| 公開(公告)號: | CN213624372U | 公開(公告)日: | 2021-07-06 |
| 發明(設計)人: | 宋慧鋒;馬樹明;宋如意;謝正杰 | 申請(專利權)人: | 山西潞安太陽能科技有限責任公司 |
| 主分類號: | C23C16/458 | 分類號: | C23C16/458;C23C16/50;H01L31/18;H01L21/673 |
| 代理公司: | 太原市科瑞達專利代理有限公司 14101 | 代理人: | 李富元 |
| 地址: | 046000 山*** | 國省代碼: | 山西;14 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 石墨 硅片 位置 矯正 裝置 | ||
本實用新型涉及太陽能電池生產領域。石墨舟內硅片位置矯正裝置,包括安裝在石墨舟外殼(1)上的液壓缸(2)、安裝在液壓缸(2)的伸縮臂上的橫梁(9)、通過螺柱(5)安裝在橫梁(9)上的拍板(4),橫梁(9)上有通孔(8),螺柱(5)一端通過焊接、一體化連接、螺栓連接的任意一種連接方式固定在拍板(4)上,螺柱(5)另一端深入通孔(8)中并通過第一螺帽(6)和第二螺帽(7)進行固定,液壓缸(2)通過電磁閥連接電源,PLC連接電磁閥。本實用新型通過PLC控制電池閥的開關,從而控制拍舟頻率,通過控制螺桿上的第一螺帽和第二螺帽的位置從而控制拍板到石墨舟外殼距離,從而控制拍舟力度。
技術領域
本實用新型涉及太陽能電池生產領域。
背景技術
PECVD意思為等離子體增強化學氣相沉積,在硅片表面進行鍍膜,鍍膜時需要機器人將硅片裝入到石墨舟內(舟葉間距為11mm),然后石墨舟進入到主機臺爐管內進行抽真空反應,進入到石墨舟內的硅片不能發生傾倒,如有傾倒會導致左右兩張硅片接觸短路導致機臺報警,所以在石墨舟進爐管內時就需要有人工去檢查石墨舟內的硅片情況,并且得保證機器人插完片子之后有一系列的拍舟動作(一舟拍8下),避免進入到機臺內出現異常(機器人將硅片插入石墨舟內舟,舟頁上三個卡點只有兩個卡點能卡住硅片,所以得靠拍舟來使硅片角度發生變化,三個卡點正好吻合卡住硅片);一個班持續人工拍舟,每臺機一個班裝舟80舟左右,人工拍舟累計約640下,勞動強度大,加之如有漏拍情況,會導致舟內出現批量的卡點燒焦,損失就會隨之加重。
發明內容
本實用新型所要解決的技術問題是:如何提供一種拍舟裝置。
本實用新型所采用的技術方案是:石墨舟內硅片位置矯正裝置,包括安裝在石墨舟外殼(1)上的液壓缸(2)、安裝在液壓缸(2)的伸縮臂上的橫梁(9)、通過螺柱(5)安裝在橫梁(9)上的拍板(4),橫梁(9)上有通孔(8),螺柱(5)一端通過焊接、一體化連接、螺栓連接的任意一種連接方式固定在拍板(4)上,螺柱(5)另一端深入通孔(8)中并通過第一螺帽(6)和第二螺帽(7)進行固定,液壓缸(2)通過電磁閥連接電源,PLC連接電磁閥。
橫梁(9)的中部通過焊接、一體化連接、螺栓連接的任意一種連接方式固定在液壓缸(2)的伸縮臂上,橫梁(9)的兩端各有兩個通孔(8),橫梁(9)的每端通過兩個螺柱(5)連接一塊拍板(4)。
拍板(4)與石墨舟外殼(1)正對的面上粘接一層橡膠板(3)。
本實用新型的有益效果是:本實用新型通過PLC控制電池閥的開關,從而控制拍舟頻率,通過控制螺桿上的第一螺帽和第二螺帽的位置從而控制拍板到石墨舟外殼距離,從而控制拍舟力度。
附圖說明
圖1是本實用新型的結構示意圖;
圖2是圖1的左視圖示意圖;
其中,1、石墨舟外殼,2、液壓缸,3、橡膠板,4、拍板,5、螺柱,6、第一螺帽,7、第二螺帽,8、通孔,9、橫梁。
具體實施方式
如圖1和圖2所示,石墨舟內硅片位置矯正裝置,包括安裝在石墨舟外殼1上的液壓缸2、安裝在液壓缸2的伸縮臂端頭上的橫梁9、通過螺柱5安裝在橫梁9上的拍板4,橫梁9上有通孔8,螺柱5一端通過焊接、一體化連接、螺栓連接的任意一種連接方式固定在拍板4上,螺柱5另一端深入通孔8中并通過第一螺帽6和第二螺帽7進行固定,橫梁9的中部通過焊接、一體化連接、螺栓連接的任意一種連接方式固定在液壓缸2的伸縮臂上,橫梁9的兩端各有兩個通孔8,橫梁9的每端通過兩個螺柱5連接一塊拍板4,拍板4與石墨舟外殼1正對的面上粘接一層橡膠板3,液壓缸2通過電磁閥連接電源,PLC連接電磁閥。通過PLC控制電池閥的開關,從而控制拍舟頻率,通過控制螺桿上的第一螺帽和第二螺帽的位置從而控制拍板到石墨舟外殼距離,從而控制拍舟力度。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





