[實用新型]一種用于MPCVD設備的真空生成裝置有效
| 申請號: | 202022457428.2 | 申請日: | 2020-10-29 |
| 公開(公告)號: | CN213623261U | 公開(公告)日: | 2021-07-06 |
| 發明(設計)人: | 王凱;秦靜 | 申請(專利權)人: | 美若科技有限公司 |
| 主分類號: | B67C9/00 | 分類號: | B67C9/00 |
| 代理公司: | 濟南文衡創服知識產權代理事務所(普通合伙) 37323 | 代理人: | 劉真 |
| 地址: | 276800 山東省日*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 mpcvd 設備 真空 生成 裝置 | ||
1.一種用于MPCVD設備的真空生成裝置,包括真空發生器(1)和連接管(2),其特征在于:所述真空發生器(1)一側設置有真空吸入管(3),所述連接管(2)設置在所述真空吸入管(3)一端,所述連接管(2)一端熔接有螺紋環(4),所述真空吸入管(3)的內壁一端設置有連接螺槽,所述螺紋環(4)與所述連接螺槽相嚙合,所述真空發生器(1)和所述連接管(2)上均熔接有氣壓檢測筒(5)。
2.根據權利要求1所述的一種用于MPCVD設備的真空生成裝置,其特征在于:所述螺紋環(4)一端粘合有密封環(6),所述連接螺槽的內壁上設置有環形槽。
3.根據權利要求2所述的一種用于MPCVD設備的真空生成裝置,其特征在于:所述密封環(6)卡設在所述環形內側,所述環形槽的內壁粘合有密封囊(7)。
4.根據權利要求3所述的一種用于MPCVD設備的真空生成裝置,其特征在于:所述密封囊(7)上設置有打氣頭(8),所述環形槽的內壁上設置有打氣孔(9),所述打氣頭(8)設置在所述打氣孔(9)內。
5.根據權利要求1所述的一種用于MPCVD設備的真空生成裝置,其特征在于:所述氣壓檢測筒(5)內設置有氣壓槽(10)和觸發腔(11),所述氣壓檢測筒(5)上設置有指示燈(12)和蓄電池(13)。
6.根據權利要求5所述的一種用于MPCVD設備的真空生成裝置,其特征在于:所述氣壓槽(10)內卡設有密封塊(14),所述觸發腔(11)內設置有移動片(15),所述密封塊(14)與所述移動片(15)之間熔接有聯動桿(16),所述氣壓槽(10)與所述觸發腔(11)之間設置有通孔,所述聯動桿(16)卡設在所述通孔內,所述移動片(15)上安裝有電極片一(17),所述觸發腔(11)的內部上安裝有電極片二(18),所述指示燈(12)通過電線分別與所述電極片一(17)和所述蓄電池(13)連接,所述蓄電池(13)通過電線與所述電極片二(18)連接。
7.根據權利要求6所述的一種用于MPCVD設備的真空生成裝置,其特征在于:所述密封塊(14)與所述氣壓槽(10)的內壁之間熔接有彈簧(19)。
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