[實(shí)用新型]一種成像模組

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202022410002.1
• 申請(qǐng)日: 2020-10-26
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN213186257U
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-05-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 胡躍強(qiáng);王旭東;歐香念;張建;姜玉婷;李苓;段輝高;宋強(qiáng);馬國(guó)斌;徐曉波
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 湖南大學(xué);深圳瓏璟光電科技有限公司;湖南大學(xué)深圳研究院
• 主分類(lèi)號(hào): H04N5/225
• 分類(lèi)號(hào): H04N5/225;G03B17/12;G02B3/00;G02B1/00
• 代理公司: 深圳市六加知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44372
• 代理人: 許銓芬

本實(shí)用新型實(shí)施例涉及超構(gòu)表面之中的超構(gòu)透鏡技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種成像模組，包括襯底、超構(gòu)透鏡、感光芯片和光學(xué)膠。超構(gòu)透鏡包括四種超構(gòu)透鏡單元，其電介質(zhì)基底設(shè)置于襯底，包括第一超構(gòu)透鏡單元、第二超構(gòu)透鏡單元、第三超構(gòu)透鏡單元和第四超構(gòu)透鏡單元，第一超構(gòu)透鏡單元與第二超構(gòu)透鏡單元的電介質(zhì)納米柱的面內(nèi)角度的差值為九十度，第三超構(gòu)透鏡單元，與第一超構(gòu)透鏡單元和第二超構(gòu)透鏡單元的電介質(zhì)納米柱的面內(nèi)角度的差值為四十五度，第四超構(gòu)透鏡單元可供左圓或者右圓偏振光通過(guò)。感光芯片設(shè)置于超構(gòu)透鏡。光學(xué)膠設(shè)置于超構(gòu)透鏡與感光芯片之間。成像模組的四種超構(gòu)透鏡單元分別對(duì)四種偏振光敏感，成像模組可同時(shí)進(jìn)行四種偏振成像。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型實(shí)施例涉及超構(gòu)表面之中的超構(gòu)透鏡技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種成像模組。

背景技術(shù)

超構(gòu)透鏡單元是近些年來(lái)一種新型的基于廣義斯涅耳定律的平面光學(xué)調(diào)控元件，由亞波長(zhǎng)尺寸和間隔的結(jié)構(gòu)在二維平面內(nèi)排列而成。通過(guò)合理地設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)的形狀、尺寸、位置和方向，超構(gòu)透鏡單元可以實(shí)現(xiàn)光的相位、振幅、偏振和頻率所有參量的任意調(diào)控。利用超構(gòu)透鏡單元靈活的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和新穎的機(jī)制，可將體積大、功能單一的傳統(tǒng)光學(xué)透鏡重新設(shè)計(jì)成輕薄化、平面化且多功能集成的超構(gòu)透鏡，具有廣闊的應(yīng)用前景。

本實(shí)用新型的發(fā)明人在實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型的過(guò)程中，發(fā)現(xiàn)：目前，超構(gòu)透鏡應(yīng)用于成像系統(tǒng)，不能在復(fù)色光下同時(shí)實(shí)現(xiàn)四種偏振的偏振成像和光場(chǎng)成像。

實(shí)用新型內(nèi)容

鑒于上述問(wèn)題，本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種成像模組，克服了上述問(wèn)題或者至少部分地解決了上述問(wèn)題。

根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的一個(gè)方面，提供了一種成像模組，包括：襯底；超構(gòu)透鏡，包括四種超構(gòu)透鏡單元，四種所述超構(gòu)透鏡單元的電介質(zhì)基底均設(shè)置于所述襯底，四種所述超構(gòu)透鏡單元分別為第一超構(gòu)透鏡單元、第二超構(gòu)透鏡單元、第三超構(gòu)透鏡單元和第四超構(gòu)透鏡單元，所述第一超構(gòu)透鏡單元的電介質(zhì)納米柱的面內(nèi)角度與所述第二超構(gòu)透鏡單元的電介質(zhì)納米柱的面內(nèi)角度的差值為九十度，所述第三超構(gòu)透鏡單元的電介質(zhì)納米柱的面內(nèi)角度，與，所述第一超構(gòu)透鏡單元和所述第二超構(gòu)透鏡單元的電介質(zhì)納米柱的面內(nèi)角度的差值均為四十五度，所述第四超構(gòu)透鏡單元可供左圓偏振光或者右圓偏振光通過(guò)；感光芯片，設(shè)置于所述超構(gòu)透鏡，且所述感光芯片遠(yuǎn)離四種所述超構(gòu)透鏡單元的電介質(zhì)基底；光學(xué)膠，設(shè)置于所述超構(gòu)透鏡與所述感光芯片之間，用于將所述超構(gòu)透鏡與所述感光芯片進(jìn)行粘合。

在一種可選的方式中，所述第一超構(gòu)透鏡單元的電介質(zhì)納米柱的面內(nèi)角度為零度，所述第二超構(gòu)透鏡單元的電介質(zhì)納米柱的面內(nèi)角度為九十度，所述第三超構(gòu)透鏡單元的電介質(zhì)納米柱的面內(nèi)角度為四十五度。

在一種可選的方式中，四種所述超構(gòu)透鏡單元以2x2的的排列方式設(shè)置于所述襯底。

在一種可選的方式中，四種所述超構(gòu)透鏡單元的形狀均包括圓形、四邊形和六邊形。

在一種可選的方式中，所述超構(gòu)透鏡的數(shù)量為N²個(gè)，N²個(gè)所述超構(gòu)透鏡以NxN的排列方式設(shè)置于所述襯底以進(jìn)行偏振成像和光場(chǎng)成像，其中，N為任意正整數(shù)。

在一種可選的方式中，所述感光芯片包括電路板和感光元件，所述感光元件設(shè)置于所述電路板，所述光學(xué)膠設(shè)置于所述感光元件。

在一種可選的方式中，所述成像模組還包括導(dǎo)電層，所述導(dǎo)電層位于所述襯底與所述超構(gòu)透鏡之間。

在一種可選的方式中，所述超構(gòu)透鏡單元的電介質(zhì)納米柱的結(jié)構(gòu)滿足400到1500納米波長(zhǎng)的復(fù)色光的消色差，其中，所述電介質(zhì)納米柱的結(jié)構(gòu)包括高度、長(zhǎng)軸尺寸、短軸尺寸和面內(nèi)角度。

在一種可選的方式中，所述超構(gòu)透鏡單元的電介質(zhì)納米柱的數(shù)量為多個(gè)，每一所述電介質(zhì)納米柱的所述高度的范圍均為200nm至1500nm。