[實用新型]一種防變形靶材

有效

• 申請號: 202022374932.6
• 申請日: 2020-10-22
• 公開（公告）號: CN213652625U
• 公開（公告）日: 2021-07-09
• 發明（設計）人: 姚力軍;邊逸軍;潘杰;王學澤;章麗娜
• 申請（專利權）人: 寧波江豐電子材料股份有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 北京遠智匯知識產權代理有限公司 11659
• 代理人: 王巖

本實用新型提供了一種防變形靶材，所述防變形靶材的非濺射面上設置有水冷卻槽；所述水冷卻槽的底面平面度≤0.05mm；所述水冷卻槽的底面粗糙度≤0.8μm；所述水冷卻槽的中央設置有凸起；所述凸起的中央設置有螺紋凹槽。本實用新型提供的防變形靶材在傳統靶材的基礎上改進了水冷卻槽的尺寸設計，提升了水冷卻槽的冷卻效果，防止了靶材在使用過程中變形和漏水現象的發生，延長了靶材的使用壽命，減少了更換頻率。

技術領域

本實用新型屬于磁控濺射技術領域，涉及一種靶材，尤其涉及一種防變形靶材。

背景技術

靶材是半導體集成電路制備過程中重要的原材料之一，主要用于集成電路中接觸、通孔、互連線、阻擋層、封裝等物理氣相沉積薄膜的制備。在磁控濺射過程中，利用加速離子轟擊靶材表面使得靶材原子沉積在基底表面，從而形成沉積薄膜。然而在靶材使用過程中，靶材背面的水冷卻槽在長期大功率的環境下很容易產生變形，導致冷卻水流動不暢或冷卻水漏出靶材，冷卻效果變差，靶材溫度升高，致使靶材背面變黑，同時加劇了靶材的變形和漏水現象。此外，常規靶材的水冷卻槽粗糙度較高導致結垢現象，也會降低水冷卻槽的冷卻效果。

CN 204097558U公開了一種長壽命磁控濺射靶材，所述實用新型在靶材原濺射區的基礎上將其增厚2mm以內，增厚的部分小于靶材原濺射區，且增厚部分的邊緣與靶材原濺射區之間呈臺階狀或斜坡狀。這種設計解決了濺射靶材使用壽命比較短、使用頻率比較低與原材料浪費等問題，降低了生產成本。然而所述實用新型并未改進濺射靶材的水冷卻槽，長期使用過程中無法避免靶材變形和漏水現象的發生。

CN 111705301A公開了一種防變形鈦靶材，所述靶材包括背板以及與所述背板連接的濺射部，所述濺射部尺寸小于所述背板的尺寸，所述背板邊緣設置有至少兩個安裝臺階孔，所述安裝臺階孔包括沉孔以及底孔，所述沉孔的深度與所述底孔的深度的比例為1.25～1.55。所述靶材在使用后變形性小，易拆卸，且使用過程中無打火現象。然而所述靶材同樣未對水冷卻槽進行改進，且不適用于無背板靶材的情況。

CN 105603371A公開了一種磁性濺射靶材，所述磁性濺射靶材能夠與非磁性靶材共用磁控濺射系統，所述磁性靶材通過將非磁性靶材減薄濺射靶，將濺射面及其背面由平面改成球面，以及背板的焊接面由平面改為內球面，且與濺射靶的背面完全貼合；或者進一步從背板主體部分的冷卻面方向減薄背板等得到形變后的磁性靶材。所述磁性靶材與非磁性靶材可共用濺射系統進行濺射，所得濺射薄膜的厚度均勻性達到2.0％以內。然而所述磁性濺射靶材在長期大功率的使用環境中同樣存在變形漏水的問題。

由此可見，如何改進靶材背面水冷卻槽的尺寸設計，提升水冷卻槽的冷卻效果，防止靶材在使用過程中變形和漏水現象的發生，延長靶材使用壽命，減少更換頻率，成為了目前迫切需要解決的技術問題。

實用新型內容

針對現有技術存在的不足，本實用新型的目的在于提供一種防變形靶材，所述防變形靶材在傳統靶材的基礎上改進了水冷卻槽的尺寸設計，提升了水冷卻槽的冷卻效果，防止了靶材在使用過程中變形和漏水現象的發生，延長了靶材的使用壽命，減少了更換頻率。

為達此目的，本實用新型采用以下技術方案：

本實用新型提供一種防變形靶材，所述防變形靶材的非濺射面上設置有水冷卻槽。

所述水冷卻槽的底面平面度≤0.05mm，例如可以是0.01mm、0.02mm、0.03mm、0.04mm或0.05mm，但并不僅限于所列舉的數值，該數值范圍內其他未列舉的數值同樣適用。

所述水冷卻槽的底面粗糙度≤0.8μm，例如可以是0.1μm、0.2μm、0.3μm、0.4μm、0.5μm、0.6μm、0.7μm或0.8μm，但并不僅限于所列舉的數值，該數值范圍內其他未列舉的數值同樣適用。

所述水冷卻槽的中央設置有凸起。

所述凸起的中央設置有螺紋凹槽。