[實用新型]進料裝置和鍍膜設備

有效

• 申請號: 202022280144.0
• 申請日: 2020-10-13
• 公開（公告）號: CN213680865U
• 公開（公告）日: 2021-07-13
• 發明（設計）人: 宗堅;陶永奇
• 申請（專利權）人: 江蘇菲沃泰納米科技股份有限公司
• 主分類號: C23C14/32
• 分類號: C23C14/32
• 代理公司: 寧波理文知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 33244
• 代理人: 羅京;安威威

一種進料裝置和鍍膜設備。該進料裝置適于向反應腔室輸入化學單體氣體，其中該反應腔室內設有用于放置待鍍膜工件的支架，以利用該化學單體氣體的聚合在該待鍍膜工件的表面形成聚合物膜層。該進料裝置包括：至少一第一進料管，其中該至少一第一進料管適于被可連通地設置于該反應腔室的側壁下部，用于將該化學單體氣體從該反應腔室的該側壁下部輸入至該反應腔室的內部；和至少一第二進料管，其中該至少一第二進料管適于被可連通地設置于該反應腔室的側壁上部，用于將該化學單體氣體從該反應腔室的該側壁上部輸入至該反應腔室的內部。

技術領域

本實用新型涉及鍍膜技術領域，特別是涉及一種進料裝置和鍍膜設備。

背景技術

等離子鍍膜作為提升材料表面性能的有效方法，被廣泛應用于航空航天、汽車制造、機械重工和五金工具制造等領域。在等離子鍍膜過程中，需要將鍍膜設備腔室內空氣抽出維持低壓力狀態，同時需要通入工藝氣體和化學單體氣體用于反應以在被鍍膜工件表面生成聚合物膜層。

現有的鍍膜裝置在整個等離子鍍膜過程中需要持續抽氣，并且該現有的鍍膜裝置上的抽氣口、進氣口以及加料口的位置都是固定的，使得從該加料口加入的化學單體氣體存在向抽氣口方向擴散的趨勢，導致該化學單體氣體在該加料口區域和擴散方向區域的密度相對較大。這就出現了在這些區域放置的被鍍膜工件表面上的聚合物涂層厚度較厚，而其他區域涂層厚度較薄的現象，造成批量生產的質量不一致。

實用新型內容

本實用新型的一優勢在于提供一進料裝置和鍍膜設備，其能夠使腔室內的化學單體氣體密度更加均勻，以便保證在所述腔室內的工件獲得均勻的膜層。

本實用新型的另一優勢在于提供一進料裝置和鍍膜設備，其中，在本實用新型的一實施例中，所述進料裝置能夠使在所述腔室的不同層的工件獲得厚度一致的膜層，有助于保證批量生產的質量一致性。

本實用新型的另一優勢在于提供一進料裝置和鍍膜設備，其中，在本實用新型的一實施例中，所述進料裝置能夠采用被錯位布置的多個進料管向所述腔室輸入化學單體氣體，以提高所述化學單體氣體在所述腔室內的均勻分布程度，有助于提升工件上鍍膜的均勻度。

本實用新型的另一優勢在于提供一進料裝置和鍍膜設備，其中，在本實用新型的一實施例中，所述進料裝置能夠采用不同孔徑的多個進料管向所述腔室輸入化學單體氣體，以便根據各部分的進料需求來合理地配置相應孔徑的所述進料管，達到均勻性地鍍膜要求。

本實用新型的另一優勢在于提供一進料裝置和鍍膜設備，其中，在本實用新型的一實施例中，所述進料裝置能夠采用可伸縮的進料管向所述腔室輸入化學單體氣體，以便將化學單體氣體輸送至所述腔室內的不同位置，以增加化學單體氣體在所述腔室內的擾動程度，提高所述化學單體氣體在所述腔室內分布的均勻性程度。

本實用新型的另一優勢在于提供一進料裝置和鍍膜設備，其中，在本實用新型的一實施例中，所述進料裝置能夠采用可間歇性啟閉的進料管向所述腔室間歇性地輸入化學單體氣體，以進一步增加所述化學單體氣體在所述腔室內的擾動程度，進一步均勻地分布所述化學單體氣體。

本實用新型的另一優勢在于提供一進料裝置和鍍膜設備，其中，在本實用新型的一實施例中，所述進料裝置能夠采用環形進料管向所述腔室均勻地輸入化學單體氣體，以防因進料不均勻而造成工件上的鍍膜均勻度不佳。

本實用新型的另一優勢在于提供一進料裝置和鍍膜設備，其中，為了達到上述目的，在本實用新型中不需要采用昂貴的材料或復雜的結構。因此，本實用新型成功和有效地提供一解決方案，不只提供簡單的進料裝置和鍍膜設備，同時還增加了所述進料裝置和鍍膜設備的實用性和可靠性。

為了實現上述至少一優勢或其他優勢和目的，本實用新型提供了一進料裝置，適于向反應腔室輸入化學單體氣體，其中該反應腔室內設有用于放置待鍍膜工件的支架，以利用該化學單體氣體的聚合在該待鍍膜工件的表面形成聚合物膜層，其中所述進料裝置包括：