[實用新型]進料裝置和鍍膜設備

有效

• 申請號: 202022280144.0
• 申請日: 2020-10-13
• 公開（公告）號: CN213680865U
• 公開（公告）日: 2021-07-13
• 發明（設計）人: 宗堅;陶永奇
• 申請（專利權）人: 江蘇菲沃泰納米科技股份有限公司
• 主分類號: C23C14/32
• 分類號: C23C14/32
• 代理公司: 寧波理文知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 33244
• 代理人: 羅京;安威威

1.進料裝置，適于向反應腔室輸入化學單體氣體，其中該反應腔室內設有用于放置待鍍膜工件的支架，以利用該化學單體氣體的聚合在該待鍍膜工件的表面形成聚合物膜層，其特征在于，其中所述進料裝置包括：

至少一第一進料管，其中所述至少一第一進料管適于被可連通地設置于該反應腔室的側壁下部，用于將該化學單體氣體從該反應腔室的該側壁下部輸入至該反應腔室的內部；和

至少一第二進料管，其中所述至少一第二進料管適于被可連通地設置于該反應腔室的側壁上部，用于將該化學單體氣體從該反應腔室的該側壁上部輸入至該反應腔室的內部。

2.如權利要求1所述的進料裝置，其中，所述至少一第一進料管和所述至少一第二進料管適于被左右錯位地安裝于該反應腔室的四周側壁。

3.如權利要求2所述的進料裝置，其中，所述第一進料管的進料孔徑大于所述第二進料管的進料孔徑。

4.如權利要求3所述的進料裝置，其中，所述至少一第一進料管包括多個所述第一進料管，并且所述至少一第二進料管包括多個所述第二進料管，其中多個所述第一進料管和多個所述第二進料管分別被上下錯位地安裝于所述反應腔室的所述側壁下部和所述側壁上部。

5.如權利要求4所述的進料裝置，進一步包括多個第一閥門和多個第二閥門，其中所述第一閥門和所述第二閥門分別被對應地設置于所述第一進料管和所述第二進料管，以分別錯時地導通或封閉所述第一進料管和所述第二進料管。

6.如權利要求5所述的進料裝置，其中，所述第一閥門和所述第二閥門均為脈沖啟閉閥門，以分別間歇地開啟或封閉所述第一進料管和所述第二進料管。

7.如權利要求1至6中任一所述的進料裝置，其中，所述第一進料管包括一固接外管和一可伸縮內管，其中所述固接外管被固定地安裝于所述反應腔室的所述側壁下部，并位于所述反應腔室的外部，其中所述可伸縮內管被可連通地連接于所述固接外管，并從所述固接外管延伸至所述反應腔室的內部，以在所述反應腔室之內伸縮。

8.進料裝置，適于向反應腔室輸入化學單體氣體，其中該反應腔室內設有用于放置待鍍膜工件的支架，以利用該化學單體氣體的聚合在該待鍍膜工件的表面形成聚合物膜層，其特征在于，其中所述進料裝置包括：

一進料管，其中所述進料管適于被設置于該反應腔室的側壁，用于輸送該化學單體氣體至該反應腔室；和

一環形噴嘴，其中所述環形噴嘴被安裝于所述進料管，并且所述環形噴嘴具有環形形狀，并限定一中心開口，用于使該反應腔室的該支架貫穿于所述環形噴嘴的所述中心開口，其中所述環形噴嘴包括一內部通道和一環形開口，其中所述內部通道與所述進料管連通，用于接收來自所述進料管的該化學單體氣體，其中所述環形開口適于環繞著該反應腔室內的該支架，用于將在所述內部通道內流動的該化學單體氣體釋放至該反應腔室的內部。

9.如權利要求8所述的進料裝置，其中，所述環形噴嘴包括一環形內殼部分和一環形外殼部分，其中所述環形外殼部分連接所述環形內殼部分，并圍繞著所述環形內殼部分延伸，以限定出所述內部通道和所述環形開口。

10.鍍膜設備，用于利用化學單體氣體的聚合在待鍍膜工件的表面形成聚合物膜層，其特征在于，其中所述鍍膜設備包括：

一反應腔室，其中所述反應腔室內設有用于放置該待鍍膜工件的支架；和

一進料裝置，其中所述進料裝置包括：

至少一第一進料管，其中所述至少一第一進料管被可連通地設置于所述反應腔室的側壁下部，用于將該化學單體氣體從所述反應腔室的所述側壁下部輸入至所述反應腔室的內部；和

至少一第二進料管，其中所述至少一第二進料管被可連通地設置于所述反應腔室的側壁上部，用于將該化學單體氣體從所述反應腔室的所述側壁上部輸入至所述反應腔室的內部。

11.鍍膜設備，用于利用化學單體氣體的聚合在待鍍膜工件的表面形成聚合物膜層，其特征在于，其中所述鍍膜設備包括：

一反應腔室，其中所述反應腔室內設有用于放置該待鍍膜工件的支架；和

一進料裝置，其中所述進料裝置包括：

一進料管，其中所述進料管被設置于所述反應腔室的側壁，用于輸送該化學單體氣體至所述反應腔室；和

一環形噴嘴，其中所述環形噴嘴被安裝于所述進料管，并且所述環形噴嘴具有環形形狀，并限定一中心開口，用于使所述反應腔室的所述支架貫穿于所述環形噴嘴的所述中心開口，其中所述環形噴嘴包括一內部通道和一環形開口，其中所述內部通道與所述進料管連通，用于接收來自所述進料管的該化學單體氣體，其中所述環形開口環繞著所述反應腔室內的所述支架，用于將在所述內部通道內流動的該化學單體氣體釋放至所述反應腔室的內部。