[實用新型]一種鍍膜機真空密封結構

有效

• 申請號: 202022274657.0
• 申請日: 2020-10-13
• 公開（公告）號: CN214197227U
• 公開（公告）日: 2021-09-14
• 發明（設計）人: 汪志陽;洪婧;陳軍;雷林光;謝如應;邱亞盛
• 申請（專利權）人: 杭州大和熱磁電子有限公司
• 主分類號: F16J15/02
• 分類號: F16J15/02
• 代理公司: 杭州杭誠專利事務所有限公司 33109
• 代理人: 鄭汝珍

本實用新型公開了一種鍍膜機真空密封結構，包括連接法蘭和密封圈，連接法蘭上設有環形的密封槽，密封槽包括寬槽和窄槽，窄槽設置在寬槽的底部，所述密封圈的形狀與密封槽適配，密封圈的一端凸出密封槽，所述密封圈由具有電磁隔離特性的彈性材料制成。本實用新型提供了一種鍍膜機真空密封結構，兩類密封圈整合為一個，兩道槽口加工改為一道，降低成本，減少機加工量，更適用于可加工區域小的密封面且可達到較好的密封效果。

技術領域

本實用新型涉及密封結構技術領域，尤其是涉及一種鍍膜機真空密封結構。

背景技術

真空設備的密封結構根據不同的密封圈類型，常見的密封槽設計有矩形直口槽、V型槽、燕尾槽等。在真空密封領域，比如一些鍍膜機過渡連接法蘭密封面，僅一種密封圈和一道密封槽設計常常無法滿足設備的使用要求，因為該類真空產品在保證真空密封性的同時，還要能有效地阻斷電磁波的外漏。現有的技術是在鍍膜機過渡連接法蘭面的密封區域加工兩道燕尾型密封槽口（以下簡稱雙燕尾），內外圈密封槽放置兩類功能不一樣的密封圈。其主要特點是：同時使用兩種功能不一樣的密封圈，內圈密封圈用于真空密封，內密封圈為橡膠材質；外圈密封圈用于屏蔽電磁波，外密封圈為金屬材質。但是使用雙燕尾結構存在如下缺陷：

1、需在密封區域精加工兩道燕尾槽，需要的加工區域較大，至少25mm以上；對于密封面較小的法蘭，無法布置兩道密封槽。2、需配置兩種類型的密封圈，成本較高。3、兩種不同材質的密封圈，受力時變形量不同，影響密封效果。因此，需要設計一種鍍膜機真空密封結構，兩類密封圈整合為一個，兩道槽口加工改為一道，降低成本，減少機加工量，更適用于可加工區域小的密封面且可達到較好的密封效果。

中國專利申請公開號CN211449632U，公開日為2020年09月08日，名稱為“一種真空鍍膜機的旋轉密封結構”，公開了一種真空鍍膜機的旋轉密封結構，其包括：PVD真空鍍膜機外殼1、磁流體密封2和氣缸3，PVD真空鍍膜機外殼1的內部包括兩個腔室，分別為第一腔室11和第二腔室12，可旋轉門13的下部轉軸131固定在PVD真空鍍膜機的底部，可旋轉門13的上部轉軸132穿過PVD真空鍍膜機的頂部，其特征在于：還包括聚氟四乙烯墊圈4，聚氟四乙烯墊圈4的中心設有一個開孔，上部轉軸132可以穿過聚氟四乙烯墊圈4的中心，磁流體密封2的主體外殼的下表面與聚氟四乙烯墊圈4的上表面貼合，磁流體密封2的傳動軸21穿過聚氟四乙烯墊圈4的中心并與上部轉軸132固定連接。但是密封結構不適用于鍍膜機過渡連接法蘭的密封面。

發明內容

本實用新型為了克服現有技術中鍍膜機過渡連接法蘭面的密封區域加工兩道燕尾型密封槽口，需要的加工區域較大，兩種不同材質的密封圈，受力時變形量不同，影響密封效果的不足，提供一種鍍膜機真空密封結構，兩類密封圈整合為一個，兩道槽口加工改為一道，降低成本，減少機加工量，更適用于可加工區域小的密封面且可達到較好的密封效果。

為了實現上述目的，本實用新型采用以下技術方案：

一種鍍膜機真空密封結構，包括連接法蘭和密封圈，連接法蘭上設有環形的密封槽，密封槽包括寬槽和窄槽，窄槽設置在寬槽的底部，所述密封圈的形狀與密封槽適配，密封圈的一端凸出密封槽，所述密封圈由具有電磁隔離特性的彈性材料制成。

上述技術方案中，密封圈的材料為一種復合材料，復合材料的主要成分為聚酯、環氧樹脂和石墨。也可以是其它彈性材料，具有電磁屏蔽特性即可。上述技術方案中的密封結構僅需精加工一道密封槽即可，該特殊密封結構具備氣體密封和屏蔽電磁波兩種功能。窄槽可以保證密封圈在密封槽內的相對位置穩定，寬槽可以保證密封結構具有足夠的密封面，增加密封效果。上述結構的效果是：只需加工一道密封槽和一個密封圈，加工簡單，降低成本；可適用于加工區域較小的密封面（密封面可加工寬度18mm以上）；可以保證氣密封同時也有效防止電磁波外泄；可有效防止兩個密封圈高度不一致導致密封效果不佳的問題。

作為優選，所述窄槽的深度大于寬槽的深度。所述結構可以保證密封圈在窄槽內可以穩定固定，同時降低寬槽內密封圈的形變，保證密封效果。