[實用新型]一種鍍膜機真空密封結構有效
| 申請號： | 202022274657.0 | 申請日： | 2020-10-13 |
| 公開（公告）號： | CN214197227U | 公開（公告）日： | 2021-09-14 |
| 發明（設計）人： | 汪志陽;洪婧;陳軍;雷林光;謝如應;邱亞盛 | 申請（專利權）人： | 杭州大和熱磁電子有限公司 |
| 主分類號： | F16J15/02 | 分類號： | F16J15/02 |
| 代理公司： | 杭州杭誠專利事務所有限公司 33109 | 代理人： | 鄭汝珍 |
| 地址： | 310051 浙江省杭*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 鍍膜 真空 密封 結構 | ||
【權利要求書】：
1.一種鍍膜機真空密封結構，其特征是，包括連接法蘭和密封圈，連接法蘭上設有環形的密封槽，密封槽包括寬槽和窄槽，窄槽設置在寬槽的底部，所述密封圈的形狀與密封槽適配，密封圈的一端凸出密封槽，所述密封圈由具有電磁隔離特性的彈性材料制成。
2.根據權利要求1所述的一種鍍膜機真空密封結構，其特征是，所述窄槽的深度大于寬槽的深度。
3.根據權利要求1所述的一種鍍膜機真空密封結構，其特征是，所述密封槽總深度是密封圈總高度的0.75-0.85倍。
4.根據權利要求1或2或3所述的一種鍍膜機真空密封結構，其特征是，所述窄槽的上端的寬度小于窄槽底面的寬度。
5.根據權利要求4所述的一種鍍膜機真空密封結構，其特征是，所述窄槽槽口的夾角α為7°--13°。
6.根據權利要求4所述的一種鍍膜機真空密封結構，其特征是，所述密封圈與窄槽底面接觸位置的寬度小于窄槽底面的寬度。
7.根據權利要求6所述的一種鍍膜機真空密封結構，其特征是，所述密封圈與窄槽底面接觸位置的寬度等于窄槽底面的寬度的0.9—0.7倍。
8.根據權利要求1或2或3所述的一種鍍膜機真空密封結構，其特征是，所述寬槽和窄槽的一側交界位置設有過渡斜角，過渡斜角的角度為44°--50°。
9.根據權利要求1或2或3所述的一種鍍膜機真空密封結構，其特征是，所述密封圈的內徑周長小于密封槽的內圈周長。
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