[實(shí)用新型]一種用于鍍膜機(jī)的控溫裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202022227921.5 | 申請(qǐng)日: | 2020-10-09 |
| 公開(公告)號(hào): | CN213266690U | 公開(公告)日: | 2021-05-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 莫勇 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 重慶億博光電儀器有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/54 | 分類號(hào): | C23C14/54;C23C14/24 |
| 代理公司: | 重慶越利知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 50258 | 代理人: | 熊恒定 |
| 地址: | 400700 重*** | 國(guó)省代碼: | 重慶;50 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 鍍膜 裝置 | ||
1.一種用于鍍膜機(jī)的控溫裝置,包括真空爐(1),其特征在于:所述真空爐(1)的內(nèi)部底表面設(shè)置有蒸發(fā)源(2),所述真空爐(1)的一側(cè)內(nèi)壁設(shè)置有第一加熱器(3),所述真空爐(1)的另一側(cè)內(nèi)壁設(shè)置有第二加熱器(4),所述真空爐(1)的內(nèi)部上側(cè)位置設(shè)置有第三加熱器(5),所述第一加熱器(3)、第二加熱器(4)和第三加熱器(5)上均等距設(shè)置有多個(gè)加熱管(10),所述第三加熱器(5)的下方設(shè)置有基片(6),所述真空爐(1)的內(nèi)壁對(duì)應(yīng)基片(6)的下表面后側(cè)設(shè)置有多個(gè)膜厚儀(7),所述真空爐(1)的內(nèi)部頂表面設(shè)置有溫度感應(yīng)器(8),所述真空爐(1)的外表面一側(cè)連接有控制器(9)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于鍍膜機(jī)的控溫裝置,其特征在于:所述蒸發(fā)源(2)固定連接在真空爐(1)的內(nèi)部底表面中間位置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于鍍膜機(jī)的控溫裝置,其特征在于:所述第一加熱器(3)和第二加熱器(4)在真空爐(1)的內(nèi)部?jī)蓚?cè)呈相對(duì)設(shè)置,所述第一加熱器(3)和第二加熱器(4)的上端面高于基片(6)的底表面所在面。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于鍍膜機(jī)的控溫裝置,其特征在于:所述加熱管(10)在第一加熱器(3)和第二加熱器(4)上呈上下等距設(shè)置有多個(gè),第一加熱器(3)和第二加熱器(4)上各所述加熱管(10)的一端均對(duì)應(yīng)連接有SCR(11),所述SCR(11)對(duì)應(yīng)與控制器(9)連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于鍍膜機(jī)的控溫裝置,其特征在于:所述第三加熱器(5)的整體寬度設(shè)置大于基片(6)的寬度,所述加熱管(10)在第三加熱器(5)上呈水平等距設(shè)置有多個(gè),第三加熱器(5)上各所述加熱管(10)的連接結(jié)構(gòu)與第一加熱器(3)和第二加熱器(4)上各加熱管(10)的連接結(jié)構(gòu)相同。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于鍍膜機(jī)的控溫裝置,其特征在于:所述膜厚儀(7)在真空爐(1)的內(nèi)壁上呈水平等距設(shè)置有多個(gè),且各個(gè)膜厚儀(7)與第三加熱器(5)上的加熱管(10)上下對(duì)應(yīng)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于鍍膜機(jī)的控溫裝置,其特征在于:所述溫度感應(yīng)器(8)對(duì)應(yīng)與控制器(9)相連接,所述溫度感應(yīng)器(8)設(shè)置為PT100溫度傳感器。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





