[實(shí)用新型]真空磁控濺射鍍膜裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202022223691.5
• 申請(qǐng)日: 2020-09-30
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN213142171U
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-05-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 金忠滿
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 樂(lè)金顯示光電科技（中國(guó)）有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/35
• 分類號(hào): C23C14/35
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 胡彬

1.一種真空磁控濺射鍍膜裝置，包括真空室，所述真空室內(nèi)設(shè)置加熱器，所述真空室的底部設(shè)置有冷凝組件，其特征在于，所述加熱器與所述冷凝組件之間設(shè)置能夠反射熱輻射的反射組件，所述反射組件包括基板和擋板，所述基板上開(kāi)設(shè)有第一通孔，所述擋板設(shè)置在所述基板與所述加熱器之間，所述擋板與所述基板間隔，所述擋板的豎直方向的投影遮擋所述第一通孔，所述擋板與所述基板之間形成通道，所述通道與所述第一通孔連通，水蒸汽依次通過(guò)所述通道、所述第一通孔與所述冷凝組件進(jìn)行熱交換。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于,所述擋板的尺寸大于所述第一通孔的尺寸。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于,所述基板上開(kāi)設(shè)有多個(gè)所述第一通孔；

多個(gè)所述第一通孔通過(guò)至少一個(gè)所述擋板遮擋；或，對(duì)應(yīng)每個(gè)所述第一通孔設(shè)置一個(gè)所述擋板。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于,所述擋板與所述基板之間設(shè)置支撐件，所述支撐件的兩端分別與所述擋板和所述基板連接。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的真空磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于,所述支撐件包括支撐柱，所述支撐柱的兩端分別開(kāi)設(shè)有螺紋孔，所述擋板和所述基板均開(kāi)設(shè)有與所述螺紋孔對(duì)應(yīng)的第二通孔，螺釘穿過(guò)所述第二通孔旋擰在所述螺紋孔內(nèi)，以將所述擋板、所述支撐柱和所述基板三者連接在一起。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的真空磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于,所述支撐件包括套筒和螺桿，所述套筒內(nèi)設(shè)置有螺紋，所述螺桿的端部能夠旋擰到所述套筒內(nèi)，所述套筒和所述螺桿中的一個(gè)與所述基板連接，所述套筒和所述螺桿中的另一個(gè)與所述擋板連接，所述螺桿能夠繞自身軸線轉(zhuǎn)動(dòng)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的真空磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于,所述套筒的下端與所述基板固定連接，所述螺桿的上端設(shè)置限位板，所述螺桿的非端部位置旋擰有限位螺母，所述擋板上開(kāi)設(shè)有第二通孔，所述螺桿穿過(guò)所述第二通孔，所述限位板和所述限位螺母分別位于所述擋板的上下兩側(cè)，且所述限位板和所述限位螺母的尺寸均大于所述第二通孔的尺寸，所述螺桿的下端旋擰在所述套筒的內(nèi)部。

8.根據(jù)權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述的真空磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于,所述真空室的底部朝向外部凹設(shè)有凹槽，所述冷凝組件包括冷卻板，所述冷卻板內(nèi)設(shè)置有冷卻劑或冷卻氣體，所述冷卻板設(shè)置在所述凹槽內(nèi)，所述第一通孔正對(duì)所述凹槽的槽口，所述基板與所述真空室的底部間隔。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的真空磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于,所述冷卻板傾斜設(shè)置。

10.根據(jù)權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述的真空磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于,所述基板的邊緣與所述真空室的內(nèi)壁間隔設(shè)置。