[實用新型]一種去除濕法工藝腔體內壁殘留物的清洗裝置

有效

• 申請號: 202022185337.8
• 申請日: 2020-09-29
• 公開（公告）號: CN213316677U
• 公開（公告）日: 2021-06-01
• 發明（設計）人: 薛弘宇;陳開清;劉興明;程陽;周建國
• 申請（專利權）人: 江蘇凱威特斯半導體科技有限公司
• 主分類號: B08B9/093
• 分類號: B08B9/093;B08B13/00
• 代理公司: 無錫蘇元專利代理事務所(普通合伙) 32471
• 代理人: 吳忠義

本實用新型公開了一種去除濕法工藝腔體內壁殘留物的清洗裝置，具體涉及半導體設備清洗技術領域，包括防護殼，所述防護殼的頂部前端設置有擋板，且防護殼的前端兩內側壁位于擋板的內側位置處活動連接有透明有機玻璃，所述透明有機玻璃的底端連接有限位橫桿，所述限位橫桿的兩端部靠近防護殼的內壁位置處均安裝有第一磁鐵塊，所述擋板的底部對應第一磁鐵塊的上方位置處安裝有第二磁鐵塊，所述防護殼的內部靠近透明有機玻璃的下方一側位置處安裝有操作臺，所述操作臺的底部安裝有廢液箱。本實用新型在使用時，方便對對清洗箱進行卡緊固定處理，且能夠根據清洗箱的大小進行自動調節，清洗效果良好，同時，提高了清洗過程中清洗箱的放置穩定性。

技術領域

本實用新型涉及半導體設備清洗技術領域，更具體地說，本實用新型涉及一種去除濕法工藝腔體內壁殘留物的清洗裝置。

背景技術

在去除濕法工藝中對半導體設備放置在清洗箱的內部進行清洗后，其清洗箱的內壁會附著一些殘留物，長時間不清理會對導致后續清洗的半導體設備不徹底，因此，在對半導體設備清洗后，需要對清洗箱的內壁殘留物進行沖洗。

現有的對清洗箱內壁的清洗裝置在使用時，由于水沖壓力較大，易使得清洗箱放置時穩定性較差，且沖洗方式不佳。

實用新型內容

為了克服現有技術的上述缺陷，本實用新型的實施例提供一種去除濕法工藝腔體內壁殘留物的清洗裝置，在使用時，方便對對清洗箱進行卡緊固定處理，且能夠根據清洗箱的大小進行自動調節，清洗效果良好，同時，提高了清洗過程中清洗箱的放置穩定性，以解決上述背景技術中提出的問題。

為實現上述目的，本實用新型提供如下技術方案：一種去除濕法工藝腔體內壁殘留物的清洗裝置，包括防護殼，所述防護殼的頂部前端設置有擋板，且防護殼的前端兩內側壁位于擋板的內側位置處活動連接有透明有機玻璃，所述透明有機玻璃的底端連接有限位橫桿，所述限位橫桿的兩端部靠近防護殼的內壁位置處均安裝有第一磁鐵塊，所述擋板的底部對應第一磁鐵塊的上方位置處安裝有第二磁鐵塊，所述防護殼的內部靠近透明有機玻璃的下方一側位置處安裝有操作臺，所述操作臺的底部安裝有廢液箱，且操作臺的頂部位于廢液箱的上方安裝有清洗箱，所述操作臺的頂端位于清洗箱的兩側均安裝有卡位機構，所述操作臺的頂端位于清洗箱的一側安裝有水泵，所述防護殼的外側靠近水泵所在的一側設置有水箱，所述水泵的進水端與水箱的內部之間連通有抽水管，且水泵的出水端連接有出水管，所述擋板的內部位于清洗箱的上方位置處安裝有清洗機構，所述出水管的一端與清洗機構的頂部連接，所述防護殼的頂端位于出水管的底部位置處安裝有第一定滑輪，且防護殼的頂端靠近清洗機構的上方位置處安裝有第二定滑輪；

所述卡位機構包括固定連接在操作臺頂端的固定板，所述固定板的內側靠近清洗箱的外側位置處設置有活動卡板，所述活動卡板與固定板的內側壁之間連接有若干個彈簧，且活動卡板的端部向外張開呈喇叭口結構；

所述清洗機構包括靠近清洗箱上方設置有的水腔，所述水腔的呈中空的圓盤形結構，且水腔的邊緣處均與安裝有噴頭，所述水腔的中部頂端連接有升降架，所述升降架的外壁設置有齒牙，所述防護殼的內部靠近升降架的外側位置處嚙合連接有齒輪，所述齒輪的中軸部連接有伺服電機，所述出水管的一端穿過升降架的底部與水腔的內部連通，所述防護殼的頂部內壁靠近升降架的一側固定連接有固定桿，所述升降架的外壁靠近固定桿所在的一側設置有T型卡塊，所述固定桿的外壁對應T型卡塊的外部沿豎直方向上設置有T型滑槽。

在一個優選地實施方式中，所述防護殼的內側壁位于限位橫桿的兩端部沿豎直方向上均設置有滑軌，所述限位橫桿與防護殼的內側壁之間通過滑軌滑動連接。

在一個優選地實施方式中，所述清洗箱的底部設置有排液閥，所述操作臺的頂部對應排液閥的外部設置有通孔。

在一個優選地實施方式中，所述固定板的底部與操作臺的頂端之間通過螺栓固定連接。

在一個優選地實施方式中，所述彈簧的兩端部均設置有金屬片，金屬片與活動卡板和固定板的外壁之間均通過螺釘固定連接。