[實用新型]一種去除濕法工藝腔體內壁殘留物的清洗裝置

有效

• 申請號: 202022185337.8
• 申請日: 2020-09-29
• 公開（公告）號: CN213316677U
• 公開（公告）日: 2021-06-01
• 發明（設計）人: 薛弘宇;陳開清;劉興明;程陽;周建國
• 申請（專利權）人: 江蘇凱威特斯半導體科技有限公司
• 主分類號: B08B9/093
• 分類號: B08B9/093;B08B13/00
• 代理公司: 無錫蘇元專利代理事務所(普通合伙) 32471
• 代理人: 吳忠義

1.一種去除濕法工藝腔體內壁殘留物的清洗裝置，包括防護殼(1)，其特征在于：所述防護殼(1)的頂部前端設置有擋板(2)，且防護殼(1)的前端兩內側壁位于擋板(2)的內側位置處活動連接有透明有機玻璃(3)，所述透明有機玻璃(3)的底端連接有限位橫桿(4)，所述限位橫桿(4)的兩端部靠近防護殼(1)的內壁位置處均安裝有第一磁鐵塊(5)，所述擋板(2)的底部對應第一磁鐵塊(5)的上方位置處安裝有第二磁鐵塊(6)，所述防護殼(1)的內部靠近透明有機玻璃(3)的下方一側位置處安裝有操作臺(7)，所述操作臺(7)的底部安裝有廢液箱(8)，且操作臺(7)的頂部位于廢液箱(8)的上方安裝有清洗箱(9)，所述操作臺(7)的頂端位于清洗箱(9)的兩側均安裝有卡位機構(10)，所述操作臺(7)的頂端位于清洗箱(9)的一側安裝有水泵(11)，所述防護殼(1)的外側靠近水泵(11)所在的一側設置有水箱(12)，所述水泵(11)的進水端與水箱(12)的內部之間連通有抽水管(13)，且水泵(11)的出水端連接有出水管(14)，所述擋板(2)的內部位于清洗箱(9)的上方位置處安裝有清洗機構(16)，所述出水管(14)的一端與清洗機構(16)的頂部連接，所述防護殼(1)的頂端位于出水管(14)的底部位置處安裝有第一定滑輪(15)，且防護殼(1)的頂端靠近清洗機構(16)的上方位置處安裝有第二定滑輪(17)；

所述卡位機構(10)包括固定連接在操作臺(7)頂端的固定板(101)，所述固定板(101)的內側靠近清洗箱(9)的外側位置處設置有活動卡板(103)，所述活動卡板(103)與固定板(101)的內側壁之間連接有若干個彈簧(102)，且活動卡板(103)的端部向外張開呈喇叭口結構；

所述清洗機構(16)包括靠近清洗箱(9)上方設置有的水腔(161)，所述水腔(161)的呈中空的圓盤形結構，且水腔(161)的邊緣處均與安裝有噴頭(162)，所述水腔(161)的中部頂端連接有升降架(163)，所述升降架(163)的外壁設置有齒牙(164)，所述防護殼(1)的內部靠近升降架(163)的外側位置處嚙合連接有齒輪(165)，所述齒輪(165)的中軸部連接有伺服電機(166)，所述出水管(14)的一端穿過升降架(163)的底部與水腔(161)的內部連通，所述防護殼(1)的頂部內壁靠近升降架(163)的一側固定連接有固定桿(167)，所述升降架(163)的外壁靠近固定桿(167)所在的一側設置有T型卡塊(168)，所述固定桿(167)的外壁對應T型卡塊(168)的外部沿豎直方向上設置有T型滑槽(169)。

2.根據權利要求1所述的一種去除濕法工藝腔體內壁殘留物的清洗裝置，其特征在于：所述防護殼(1)的內側壁位于限位橫桿(4)的兩端部沿豎直方向上均設置有滑軌，所述限位橫桿(4)與防護殼(1)的內側壁之間通過滑軌滑動連接。

3.根據權利要求1所述的一種去除濕法工藝腔體內壁殘留物的清洗裝置，其特征在于：所述清洗箱(9)的底部設置有排液閥，所述操作臺(7)的頂部對應排液閥的外部設置有通孔。

4.根據權利要求1所述的一種去除濕法工藝腔體內壁殘留物的清洗裝置，其特征在于：所述固定板(101)的底部與操作臺(7)的頂端之間通過螺栓固定連接。

5.根據權利要求1所述的一種去除濕法工藝腔體內壁殘留物的清洗裝置，其特征在于：所述彈簧(102)的兩端部均設置有金屬片，金屬片與活動卡板(103)和固定板(101)的外壁之間均通過螺釘固定連接。

6.根據權利要求1所述的一種去除濕法工藝腔體內壁殘留物的清洗裝置，其特征在于：所述水泵(11)的底部與操作臺(7)的頂部之間通過螺栓固定連接。

7.根據權利要求1所述的一種去除濕法工藝腔體內壁殘留物的清洗裝置，其特征在于：所述第一定滑輪(15)和第二定滑輪(17)的底部均與防護殼(1)的頂端之間均通過螺栓固定連接。

8.根據權利要求1所述的一種去除濕法工藝腔體內壁殘留物的清洗裝置，其特征在于：所述防護殼(1)的內壁對應齒輪(165)的中軸桿端部位置處安裝有軸承座，所述齒輪(165)的中軸桿與伺服電機(166)的轉子部同軸連接。