[實(shí)用新型]一種砷化鎵晶片表面清洗工裝

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202022164115.8
• 申請日: 2020-09-28
• 公開（公告）號(hào): CN213826085U
• 公開（公告）日: 2021-07-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 卜俊鵬
• 申請（專利權(quán)）人: 浙江康鵬半導(dǎo)體有限公司
• 主分類號(hào): B08B3/02
• 分類號(hào): B08B3/02;B08B13/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實(shí)用新型涉及砷化鎵加工技術(shù)領(lǐng)域，且公開了一種砷化鎵晶片表面清洗工裝，包括底板，所述底板的頂部固定安裝有數(shù)量為兩個(gè)的支撐板，所述支撐板的頂部固定安裝有頂板。該砷化鎵晶片表面清洗工裝，通過設(shè)置第一電機(jī)和第二電機(jī)，將晶片放在左右兩側(cè)卡槽內(nèi)，彈簧的張力會(huì)使得卡塊卡住晶片，晶片底部與弧形板貼合，使得固定的更加穩(wěn)固，啟動(dòng)第一電機(jī)轉(zhuǎn)動(dòng)轉(zhuǎn)桿，固定板整體轉(zhuǎn)動(dòng)，啟動(dòng)第二電機(jī)轉(zhuǎn)動(dòng)轉(zhuǎn)盤，轉(zhuǎn)動(dòng)頭帶動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)桿左右移動(dòng)，活動(dòng)桿隨之在套筒的內(nèi)部左右移動(dòng)，帶動(dòng)分流管和噴頭在晶片的上方左右移動(dòng)，多范圍沖刷晶片，晶片的轉(zhuǎn)動(dòng)使得其兩面多次沖刷，實(shí)現(xiàn)了晶片多范圍更全面的清洗，提高清洗效率，方便了使用者的使用。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及砷化鎵加工技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種砷化鎵晶片表面清洗工裝。

背景技術(shù)

砷化鎵是一種重要的半導(dǎo)體材料，砷化鎵可以制成電阻率比硅和鍺高3個(gè)數(shù)量級以上的半絕緣高阻材料，用來制作集成電路襯底和紅外探測器等，砷化鎵在微波器件、高速數(shù)字電路、移動(dòng)電話、衛(wèi)星通訊、微波點(diǎn)對點(diǎn)連線和雷達(dá)系統(tǒng)等領(lǐng)域得到重要應(yīng)用，由于砷化鎵具有較高的表面活性，導(dǎo)致在砷化鎵晶片切割過程中產(chǎn)生的顆粒極易附著在砷化鎵晶片表面，制作過程中需要對砷化鎵表面進(jìn)行清洗。

目前市場上現(xiàn)有的砷化鎵晶片清洗工裝在進(jìn)行清洗時(shí)，只能單側(cè)進(jìn)行清洗，清洗的不夠全面，清潔后的砷化鎵晶片表面仍有不少顆粒附著，影響產(chǎn)品質(zhì)量，不方便使用者的使用，故而提出一種砷化鎵晶片表面清洗工裝來解決上述所提出的問題。

實(shí)用新型內(nèi)容

(一)解決的技術(shù)問題

針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實(shí)用新型提供了一種砷化鎵晶片表面清洗工裝，具備清洗全面減少表面顆粒殘留等優(yōu)點(diǎn)，解決了只能單側(cè)進(jìn)行清洗，清洗的不夠全面，清潔后的砷化鎵晶片表面仍有不少顆粒附著，影響產(chǎn)品質(zhì)量的問題。

(二)技術(shù)方案

為實(shí)現(xiàn)上述清洗全面減少表面顆粒殘留目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案：一種砷化鎵晶片表面清洗工裝，包括底板，所述底板的頂部固定安裝有數(shù)量為兩個(gè)的支撐板，所述支撐板的頂部固定安裝有頂板，所述底板的頂部且位于兩個(gè)支撐板之間固定安裝有清洗池，所述底板的頂部且位于右側(cè)支撐板的右側(cè)固定安裝有支撐座，所述支撐座的頂部固定安裝有第一電機(jī)，所述第一電機(jī)的輸出軸處固定安裝有貫穿支撐板并延伸至清洗池內(nèi)部的轉(zhuǎn)桿，所述清洗池的內(nèi)壁左側(cè)活動(dòng)安裝有連桿，所述轉(zhuǎn)桿與連桿之間固定安裝有固定板，所述固定板的前側(cè)固定安裝有數(shù)量為兩個(gè)的U型架，所述U型架的內(nèi)壁底部固定安裝有弧形板，所述U型架的內(nèi)壁左右兩側(cè)均固定安裝有固定盒，所述固定盒的內(nèi)部固定安裝有彈簧，所述彈簧遠(yuǎn)離固定盒的一端固定安裝有卡塊，所述卡塊遠(yuǎn)離固定盒的一側(cè)開設(shè)有卡槽，左右兩側(cè)所述卡槽之間放置有晶片，右側(cè)所述支撐板的右側(cè)固定安裝有橫板，右側(cè)所述支撐板的右側(cè)且位于橫板的上方固定安裝有套筒，所述套筒的內(nèi)部活動(dòng)安裝有貫穿右側(cè)支撐板的活動(dòng)桿，所述頂板的頂部固定安裝有貫穿頂板且與活動(dòng)桿固定連接的噴灑組件，所述橫板的頂部后側(cè)固定安裝有第二電機(jī)，所述第二電機(jī)的輸出軸處固定安裝有轉(zhuǎn)盤，所述轉(zhuǎn)盤的前側(cè)固定安裝有轉(zhuǎn)動(dòng)頭，所述轉(zhuǎn)動(dòng)頭的外側(cè)套接有上下兩端分別與橫板和活動(dòng)桿活動(dòng)連接的轉(zhuǎn)動(dòng)桿。

優(yōu)選的，所述噴灑組件由水箱、噴水管、分流管、連接塊和噴頭組成，所述頂板的頂部固定安裝有水箱，所述活動(dòng)桿的底部固定安裝有連接塊，所述連接塊的底部固定安裝有分流管，所述水箱的左側(cè)固定安裝有貫穿頂板且與分流管連通的噴水管，所述分流管的底部固定安裝有噴頭。

優(yōu)選的，所述水箱的頂部開設(shè)有進(jìn)液口，所述噴頭的數(shù)量有兩個(gè)且呈左右對稱分布。

優(yōu)選的，所述清洗池的左側(cè)固定安裝有貫穿左側(cè)支撐板的排水管，所述排水管的內(nèi)部活動(dòng)安裝有止水閥。

優(yōu)選的，兩個(gè)所述U型架呈左右對稱分布，所述晶片的底部與弧形板貼合，所述固定板為網(wǎng)孔狀。

優(yōu)選的，所述套筒的內(nèi)部為光滑設(shè)計(jì)，所述活動(dòng)桿的外側(cè)為光滑設(shè)計(jì)，所述轉(zhuǎn)動(dòng)桿的頂部與底部均通過連接軸分別與活動(dòng)桿和橫板活動(dòng)連接。