[實(shí)用新型]一種可調(diào)的真空磁控濺射鍍膜設(shè)備工件轉(zhuǎn)架

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202022138272.1
• 申請日: 2020-09-25
• 公開（公告）號: CN213476090U
• 公開（公告）日: 2021-06-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 李國強(qiáng);舒逸;劉光斗;李贊
• 申請（專利權(quán)）人: 湖南玉豐真空科學(xué)技術(shù)有限公司
• 主分類號: C23C14/50
• 分類號: C23C14/50;C23C14/35
• 代理公司: 湖南格創(chuàng)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 43263
• 代理人: 張文

本實(shí)用新型公開了一種可調(diào)的真空磁控濺射鍍膜設(shè)備工件轉(zhuǎn)架，包括上支撐盤、上支撐座、下支撐盤、下支撐座、撐桿，上支撐盤固定在上支撐座上，下支撐盤固定在下支撐座上，撐桿連接上支撐盤、下支撐盤，在上支撐盤、下支撐盤之間沿周向分布有多塊活動掛板，活動掛板一側(cè)與設(shè)置在上支撐座、下支撐座之間的轉(zhuǎn)軸連接，在上支撐座、下支撐座上分別對應(yīng)設(shè)置有呈圓弧形的導(dǎo)軌，活動掛板的另一側(cè)的上、下部分別設(shè)置有與導(dǎo)軌相匹配的導(dǎo)向銷，活動掛板可沿導(dǎo)軌繞轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動。通過轉(zhuǎn)動活動掛板可以控制活動掛板到濺射陰極之間的距離，使掛板跟濺射陰極呈現(xiàn)不同的濺射距離，從而改變掛板各個區(qū)域的成膜厚度，給工藝調(diào)節(jié)提供的更廣泛的使用條件。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及真空鍍膜領(lǐng)域，具體為一種可調(diào)的真空磁控濺射鍍膜設(shè)備工件轉(zhuǎn)架。

背景技術(shù)

真空磁控濺射光學(xué)鍍膜設(shè)備的工作原理是：真空室先由高真空系統(tǒng)抽至一定的高真空后，通過質(zhì)量流量控制器或壓強(qiáng)儀器向濺鍍室內(nèi)充入惰性工藝氣體（如氬氣）至一恒定壓力（如5×10-1Pa）后，在磁控陰極靶上施加一定功率的直流電源，在正負(fù)電極高壓的作用下，陰極靶前方與陽極之間的氣體原子被大量電離，產(chǎn)生輝光放電，電離的過程使氬原子為Ar+離子和可以獨(dú)立運(yùn)動的電子，電子在電磁場作用下會在靶材表面形成螺旋狀的運(yùn)動軌跡，對Ar原子產(chǎn)生碰撞電離，并產(chǎn)生二次電子；由此形成雪崩，從而產(chǎn)生大量的電子和帶正電荷的Ar+離子。Ar+離子在電場作用下飛向陰極，碰撞靶材表面，與靶材的撞擊過程中釋放出能量，獲得相當(dāng)高能量的靶材原子脫離靶材的束縛而飛向基片，于是靶材粒子沉積在靶對面的基片上而形成薄膜。在此過程中，被鍍工件安裝在掛板上，掛板則固定在工件轉(zhuǎn)架上，工件轉(zhuǎn)架通過在真空室外用伺服電機(jī)通過同步帶輪帶動磁流體運(yùn)動將動作引入到真空室內(nèi)做圓周運(yùn)動。目前，傳統(tǒng)的掛板是一個平板式，跟濺射陰極處于一個固定的濺射距離，靶基距不能調(diào)節(jié)。

發(fā)明內(nèi)容

針對上述現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題，本實(shí)用新型提供一種可調(diào)的真空磁控濺射鍍膜設(shè)備工件轉(zhuǎn)架，可以使掛板跟濺射陰極呈現(xiàn)不同的濺射距離，從而改變掛板各個區(qū)域的成膜厚度。

本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案如下：一種可調(diào)的真空磁控濺射鍍膜設(shè)備工件轉(zhuǎn)架，包括上支撐盤、上支撐座、下支撐盤、下支撐座、撐桿、活動掛板，所述上支撐盤固定在上支撐座上，所述下支撐盤固定在下支撐座上，所述撐桿連接上支撐盤、下支撐盤，在上支撐盤、下支撐盤之間沿周向分布有多塊活動掛板，所述活動掛板一側(cè)與設(shè)置在上支撐座、下支撐座之間的轉(zhuǎn)軸連接，在上支撐座、下支撐座上分別對應(yīng)設(shè)置有呈圓弧形的導(dǎo)軌，且導(dǎo)軌的圓弧中心點(diǎn)與轉(zhuǎn)軸的軸線重合，所述活動掛板的另一側(cè)的上、下部分別設(shè)置有與導(dǎo)軌相匹配的導(dǎo)向銷，所述活動掛板可沿導(dǎo)軌繞轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動。

進(jìn)一步地，所述活動掛板與轉(zhuǎn)軸之間為可拆卸活動連接。

進(jìn)一步地，所述活動掛板轉(zhuǎn)動的角度在0°到70°之間。

本實(shí)用新型的一種可調(diào)的真空磁控濺射鍍膜設(shè)備工件轉(zhuǎn)架，轉(zhuǎn)動活動掛板可以通過調(diào)節(jié)角度控制活動掛板到濺射陰極之間的距離，這樣就可以使掛板跟濺射陰極呈現(xiàn)不同的濺射距離，也就改變掛板各個區(qū)域的成膜厚度，給工藝調(diào)節(jié)提供的更廣泛的使用條件。

附圖說明

圖1是本實(shí)用新型的立體結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2是本實(shí)用新型的縱向剖面示意圖。

圖3是本實(shí)用新型的橫向剖面示意圖。

圖4是圖3中的A處局部放大圖。

具體實(shí)施方式

為了便于理解本實(shí)用新型，下文將結(jié)合說明書附圖和較佳的實(shí)施例對本實(shí)用新型作更全面、細(xì)致地描述，但本實(shí)用新型的保護(hù)范圍并不限于以下具體的實(shí)施例。