[實用新型]一種可調的真空磁控濺射鍍膜設備工件轉架有效

申請號：	202022138272.1	申請日：	2020-09-25
公開（公告）號：	CN213476090U	公開（公告）日：	2021-06-18
發明（設計）人：	李國強;舒逸;劉光斗;李贊	申請（專利權）人：	湖南玉豐真空科學技術有限公司
主分類號：	C23C14/50	分類號：	C23C14/50;C23C14/35
代理公司：	湖南格創知識產權代理事務所(普通合伙) 43263	代理人：	張文
地址：	411100 湖南省***	國省代碼：	湖南;43
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摘要：
搜索關鍵詞：	一種可調真空磁控濺射鍍膜設備工件
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【權利要求書】：

1.一種可調的真空磁控濺射鍍膜設備工件轉架，其特征在于，包括上支撐盤、上支撐座、下支撐盤、下支撐座、撐桿、活動掛板，所述上支撐盤固定在上支撐座上，所述下支撐盤固定在下支撐座上，所述撐桿連接上支撐盤、下支撐盤，在上支撐盤、下支撐盤之間沿周向分布有多塊活動掛板，所述活動掛板一側與設置在上支撐座、下支撐座之間的轉軸連接，在上支撐座、下支撐座上分別對應設置有呈圓弧形的導軌，且導軌的圓弧中心點與轉軸的軸線重合，所述活動掛板的另一側的上、下部分別設置有與導軌相匹配的導向銷，所述活動掛板可沿導軌繞轉軸轉動。

2.如權利要求1所述的一種可調的真空磁控濺射鍍膜設備工件轉架，其特征在于，所述活動掛板與轉軸之間為可拆卸活動連接。

3.如權利要求1所述的一種可調的真空磁控濺射鍍膜設備工件轉架，其特征在于，所述活動掛板轉動的角度在0°到70°之間。

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