[實(shí)用新型]一種多反應(yīng)室CVD爐

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202022133660.0
• 申請日: 2020-09-25
• 公開（公告）號: CN213447294U
• 公開（公告）日: 2021-06-15
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 劉汝強(qiáng);吳思華;張峰;王殿春;周清波
• 申請（專利權(quán)）人: 山東國晶新材料有限公司
• 主分類號: C23C16/26
• 分類號: C23C16/26;C23C16/44;C23C16/458
• 代理公司: 濟(jì)南金迪知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 37219
• 代理人: 趙龍群

1.一種多反應(yīng)室的CVD爐，其特征在于，包括套筒A、套筒B、產(chǎn)品盤、散氣盤、隔板、石墨進(jìn)氣管和傳動裝置，其中，套筒A底部密封，套筒A頂部設(shè)置散氣盤，套筒A中間位置設(shè)置隔板，隔板上方為上反應(yīng)室，隔板下方為下反應(yīng)室，隔板上方和套筒A底部上方分別設(shè)置套筒B，套筒B緊貼套筒A，產(chǎn)品盤放置于套筒B上方，石墨進(jìn)氣管上端貫穿套筒A、隔板和產(chǎn)品盤的中心位置，下端設(shè)置于套筒A外側(cè)，石墨進(jìn)氣管上設(shè)置出氣孔，石墨進(jìn)氣管下端設(shè)置不銹鋼管，不銹鋼管通過軸承密封連接進(jìn)氣管道，石墨進(jìn)氣管下端連接傳動裝置。

2.如權(quán)利要求1所述的多反應(yīng)室的CVD爐，其特征在于，傳動裝置包括減速機(jī)、齒輪A、齒輪B和傳動鏈條，齒輪A套裝于不銹鋼管外側(cè)，減速機(jī)輸出軸上設(shè)置齒輪B，齒輪A和齒輪B通過傳動鏈條連接。

3.如權(quán)利要求1所述的多反應(yīng)室的CVD爐，其特征在于，散氣盤上設(shè)置散氣孔A，隔板下方處的套筒A上設(shè)置散氣孔B。

4.如權(quán)利要求3所述的多反應(yīng)室的CVD爐，其特征在于，散氣盤厚度為10-20cm，散氣孔A直徑為5-15mm，散氣孔B直徑為5-15mm。

5.如權(quán)利要求1所述的多反應(yīng)室的CVD爐，其特征在于，出氣孔設(shè)置于隔板下方的石墨進(jìn)氣管上。

6.如權(quán)利要求1所述的多反應(yīng)室的CVD爐，其特征在于，上反應(yīng)室直徑為20-40cm,高度為30-50cm，下反應(yīng)室直徑為20-40cm,高度為30-50cm。

7.如權(quán)利要求1所述的多反應(yīng)室的CVD爐，其特征在于，石墨進(jìn)氣管直徑為20-80mm。

8.如權(quán)利要求1所述的多反應(yīng)室的CVD爐，其特征在于，出氣孔與水平面的角度為30-60°，出氣孔直徑為5-15mm。

9.如權(quán)利要求2所述的多反應(yīng)室的CVD爐，其特征在于，石墨進(jìn)氣管轉(zhuǎn)速為0.2-3r/min。